JPS63113906A - ステツプアツプ型磁気ヘツド - Google Patents
ステツプアツプ型磁気ヘツドInfo
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- JPS63113906A JPS63113906A JP61261261A JP26126186A JPS63113906A JP S63113906 A JPS63113906 A JP S63113906A JP 61261261 A JP61261261 A JP 61261261A JP 26126186 A JP26126186 A JP 26126186A JP S63113906 A JPS63113906 A JP S63113906A
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- Japan
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- head
- transformer
- magnetic
- thin film
- lower substrate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はステップアップトランスを一体的に組込んだ巻
線型磁気ヘッドの中でも、特にビデオヘッド形状の磁気
ヘッドに関する。
線型磁気ヘッドの中でも、特にビデオヘッド形状の磁気
ヘッドに関する。
従来の技術
従来、この種の磁気ヘッドとしては第8図に示す様に、
1ターン(もしくは高々数ターン)の巻線型ヘッドにス
テップアップトランスを結合したヘッド構成が知られて
いる。このような構成は、信号巻線数を極めて小にして
、これに鎖交する磁気回路を小型化することにより1タ
ーン当シの出力を高めることにあ)、低巻数による低い
絶対出力はステップアップトランスにより補おうとする
ものである。第9図はビデオヘット二タイプとして好適
な従来例を示す(特公昭53−16687 )。
1ターン(もしくは高々数ターン)の巻線型ヘッドにス
テップアップトランスを結合したヘッド構成が知られて
いる。このような構成は、信号巻線数を極めて小にして
、これに鎖交する磁気回路を小型化することにより1タ
ーン当シの出力を高めることにあ)、低巻数による低い
絶対出力はステップアップトランスにより補おうとする
ものである。第9図はビデオヘット二タイプとして好適
な従来例を示す(特公昭53−16687 )。
同図において1及び2はへッドギャソプ3を形成すべく
つき合わされた磁気へラドコア、4はトランスコアの半
体であシ、前記へラドコア1の後部につき合わされて略
リング磁路のトランスコアを形成している。6はへラド
コアをフロントギャップ部とバックギャップ部に分ける
溝に埋設された金属層である。6はトランスコア4の中
溝7を通る1ターンのコイルで、その端部は金属層5の
端部に接続されて、ヘッド磁気回路とトランス磁気回路
に鎖交する1ターン閉路コイルを形成している。8はト
ランスの2次コイルである。この様にして第7図と同等
なヘッド構成となっている。
つき合わされた磁気へラドコア、4はトランスコアの半
体であシ、前記へラドコア1の後部につき合わされて略
リング磁路のトランスコアを形成している。6はへラド
コアをフロントギャップ部とバックギャップ部に分ける
溝に埋設された金属層である。6はトランスコア4の中
溝7を通る1ターンのコイルで、その端部は金属層5の
端部に接続されて、ヘッド磁気回路とトランス磁気回路
に鎖交する1ターン閉路コイルを形成している。8はト
ランスの2次コイルである。この様にして第7図と同等
なヘッド構成となっている。
この様な問題点は、ヘッドコア部及び1タ一ン巻線周辺
がいわゆるバルク構成によっているために、ヘッド磁気
回路ならびに1タ一ン巻線を十分に小さくしてヘッドの
1ターンインダクタンスとDC抵抗を十分に小さくする
ことが出来ないこと、更にトランス部の1次コイル、2
次コイル配置が不適切であるためにトランスの結合係数
が十分高くとれないことである。これらが高効率なヘッ
ドを考えるとき何故問題になるか説明する。
がいわゆるバルク構成によっているために、ヘッド磁気
回路ならびに1タ一ン巻線を十分に小さくしてヘッドの
1ターンインダクタンスとDC抵抗を十分に小さくする
ことが出来ないこと、更にトランス部の1次コイル、2
次コイル配置が不適切であるためにトランスの結合係数
が十分高くとれないことである。これらが高効率なヘッ
ドを考えるとき何故問題になるか説明する。
今、第8図のヘッドの簡略な等価回路として第10図に
示す回路を考える。但し、2次コイルのDC抵抗と浮遊
容量は省略する。ここでLl、L2はそれぞれトランス
の1次コイル、2次コイルの自己インダクタンス、Mは
1次コイルと2次コイル間の相互インダクタンス、LH
は1ターンヘツドのインダクタンス、rはヘッド巻線及
びトランス1次コイル両方を含む1ターンのDC抵抗、
Eiはヘッド巻線に誘起される再生起電力、Eoはトラ
ンス2次出力である。
示す回路を考える。但し、2次コイルのDC抵抗と浮遊
容量は省略する。ここでLl、L2はそれぞれトランス
の1次コイル、2次コイルの自己インダクタンス、Mは
1次コイルと2次コイル間の相互インダクタンス、LH
は1ターンヘツドのインダクタンス、rはヘッド巻線及
びトランス1次コイル両方を含む1ターンのDC抵抗、
Eiはヘッド巻線に誘起される再生起電力、Eoはトラ
ンス2次出力である。
さて、この様なヘッドで実使用上重要な量は、トランス
を含むヘッド全体としてのインダクタンスL、インピー
ダンスの実数部Re (Z)及び伝達効率G=Eo/E
iである。
を含むヘッド全体としてのインダクタンスL、インピー
ダンスの実数部Re (Z)及び伝達効率G=Eo/E
iである。
Lはヘッドの高周波の使用限界を決めるものであシ、十
分に高い周波数におけるLは第10図より L=LH−N2+12(t−に2) ・・・・
・・・・・・・・・・・(1)であることが計算される
。ここでNはトランス2次巻線数(すなわちステップア
ップ比)、Kはトランスの結合係数である。第1式のM
1項(L)(・N勺はトランスの性能にかかわらず必然
的に発生するインダクタンスであるが、第2項はトラン
スが理想でないときに付加される量である。
分に高い周波数におけるLは第10図より L=LH−N2+12(t−に2) ・・・・
・・・・・・・・・・・(1)であることが計算される
。ここでNはトランス2次巻線数(すなわちステップア
ップ比)、Kはトランスの結合係数である。第1式のM
1項(L)(・N勺はトランスの性能にかかわらず必然
的に発生するインダクタンスであるが、第2項はトラン
スが理想でないときに付加される量である。
便用上許容されるL値て対してNは出来るかぎり大きく
とれる必要があるのでLHは十分小さくし、またトラン
スの結合度を上げてKを十分に”1″に近くして第1式
第2項を出来るかぎシ小さくする必要がある。
とれる必要があるのでLHは十分小さくし、またトラン
スの結合度を上げてKを十分に”1″に近くして第1式
第2項を出来るかぎシ小さくする必要がある。
次にRe(Z)は、インピーダンスノイズを決めるもの
であり・、低いほど良い。低域カットオフ周波数よシ高
い周波数においてRe(Z)はと計算され、LHくLl
とすれば第2式は近似的にとなシ、1次側の1ターン抵
抗rは2次側からは約ステップアップ比の2乗倍に観察
される。従ってrは十分低くする必要がある。
であり・、低いほど良い。低域カットオフ周波数よシ高
い周波数においてRe(Z)はと計算され、LHくLl
とすれば第2式は近似的にとなシ、1次側の1ターン抵
抗rは2次側からは約ステップアップ比の2乗倍に観察
される。従ってrは十分低くする必要がある。
更に、伝達効率Gは低域カットオフ以上の周波数で
となり、同じくLHくLlとすれば
、GΣに−N ・・・・・・・・
・・・・(5)となって、伝達効率はステップアップ比
NからKの分だけ減少する。従ってKは十分に“1″に
近い必要がある。
・・・・(5)となって、伝達効率はステップアップ比
NからKの分だけ減少する。従ってKは十分に“1″に
近い必要がある。
発明が解決しようとする問題点
この様にステップアップトランスを込みにして考えたと
きのヘッド特性が高性能であるためには、ヘッド1ター
ン部分のインダクタンスとDC抵抗が十分小さいこと及
びトランスの結合係数が十分に°1″に近いことが必要
であシ、前記従来例ではこれら諸点が十分溝たされない
。
きのヘッド特性が高性能であるためには、ヘッド1ター
ン部分のインダクタンスとDC抵抗が十分小さいこと及
びトランスの結合係数が十分に°1″に近いことが必要
であシ、前記従来例ではこれら諸点が十分溝たされない
。
本発明は定められたインダクタンスに対して高いステッ
プアップ比をとることができ、低抵抗でインピーダンス
ノイズが少なく、また伝達効率の高いステップアップ型
の磁気ヘッドを提供することを目的とする。
プアップ比をとることができ、低抵抗でインピーダンス
ノイズが少なく、また伝達効率の高いステップアップ型
の磁気ヘッドを提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
本発明のステップアップ型磁気ヘッドは、下部基板上に
形成した薄膜ヘッド磁気回路と、前記下部基板内に形成
した強磁性薄膜を少くとも一部に含んで上部基板ととも
に構成したトランス磁気回 。
形成した薄膜ヘッド磁気回路と、前記下部基板内に形成
した強磁性薄膜を少くとも一部に含んで上部基板ととも
に構成したトランス磁気回 。
路と、前記ヘッド磁気回路ならびに前記トランス磁気回
路の両方に鎖交するよう前記下部基板上に形成した閉路
の薄膜コイルと、前記トランス磁気回路に鎖交するトラ
ンス2次巻線とから成り、この2次巻線は上部基板を周
回する部分と下部基板を周回する部分に分割してバルク
巻線によりバランス巻きしたものであり、更に、前記下
部基板は前記強磁性薄膜を非磁性体ではみ込んだ構造を
少くとも一部に有しており、かつ前記強磁性薄膜の膜面
は前記下部基板の基板面および磁気ヘッドの記録媒体対
接面のいずれに対しても略直交していることを特徴とす
る。
路の両方に鎖交するよう前記下部基板上に形成した閉路
の薄膜コイルと、前記トランス磁気回路に鎖交するトラ
ンス2次巻線とから成り、この2次巻線は上部基板を周
回する部分と下部基板を周回する部分に分割してバルク
巻線によりバランス巻きしたものであり、更に、前記下
部基板は前記強磁性薄膜を非磁性体ではみ込んだ構造を
少くとも一部に有しており、かつ前記強磁性薄膜の膜面
は前記下部基板の基板面および磁気ヘッドの記録媒体対
接面のいずれに対しても略直交していることを特徴とす
る。
作 用
この構成により、ヘッド磁気回路部ならびにヘッド信号
巻線部が薄膜技術により形成されて必要最小限に小型化
できるので、ヘッドインダクタンスと信号巻線のDC抵
抗を最小限にすることが出来、またトランス2次巻線を
バランス巻き構成とすることにより、1次2次両巻線の
結合がよシ密となシ結合係数Kを大きくすることが出来
る。この様にしてトランス部込みのヘッド特性として、
インダクタンスの点では、実使用止定められfcLの許
容値に対してよシNを大きくすることが出来、Re■の
点ではよシ小さく出来、又伝達効率の点ではよりステッ
プアップ比そのものに近く出来る。
巻線部が薄膜技術により形成されて必要最小限に小型化
できるので、ヘッドインダクタンスと信号巻線のDC抵
抗を最小限にすることが出来、またトランス2次巻線を
バランス巻き構成とすることにより、1次2次両巻線の
結合がよシ密となシ結合係数Kを大きくすることが出来
る。この様にしてトランス部込みのヘッド特性として、
インダクタンスの点では、実使用止定められfcLの許
容値に対してよシNを大きくすることが出来、Re■の
点ではよシ小さく出来、又伝達効率の点ではよりステッ
プアップ比そのものに近く出来る。
又下部基板内のトランス磁気回路は下部基板面に垂直な
膜面をもつ強磁性薄膜によって与えるので、磁路厚さを
コイル内径寸法より小さくすることが容易である。これ
故にトランス1次巻線に鎖交しない磁気回路を少くする
ことが容易であシ、1次2次両巻線の結合をより密にす
ることが出来る。又この様な構成では上記の強磁性薄膜
”kP、8層を介した多層構造とすることも容易である
から、高周波特性にすぐれたトランス磁気回路を構成出
来る。
膜面をもつ強磁性薄膜によって与えるので、磁路厚さを
コイル内径寸法より小さくすることが容易である。これ
故にトランス1次巻線に鎖交しない磁気回路を少くする
ことが容易であシ、1次2次両巻線の結合をより密にす
ることが出来る。又この様な構成では上記の強磁性薄膜
”kP、8層を介した多層構造とすることも容易である
から、高周波特性にすぐれたトランス磁気回路を構成出
来る。
実施例
以下、本発明の実施例を第1図〜第7図に基づいて説明
する。
する。
第1図と第2図は本発明の磁気ヘッド全示し、第1図は
平面図、第2図FiA−A’ における断面図である。
平面図、第2図FiA−A’ における断面図である。
ただし第1図においては作図上第2図のB−B’線よシ
上部とトランス2次コイルが省略されている。
上部とトランス2次コイルが省略されている。
第1図、第2図において、9(C−C’より下の部分)
は磁気ヘッドの下部基板であり、強磁性薄膜11を非磁
性体16cではさみ込む様に接合したものに更に非磁性
体16ai接合したものである。第1図のD−D’方向
にヘッドが多数コ連らなった形で量産しようとするとき
、その下部基板の形状は第3図の様になる。これらの接
合にはガラスポンディングが適する。強磁性薄膜11は
トランス下部磁性体を構成する。なお、この磁性膜11
の膜面は第1図では紙面に垂直であり、第2図では紙面
に平行である。
は磁気ヘッドの下部基板であり、強磁性薄膜11を非磁
性体16cではさみ込む様に接合したものに更に非磁性
体16ai接合したものである。第1図のD−D’方向
にヘッドが多数コ連らなった形で量産しようとするとき
、その下部基板の形状は第3図の様になる。これらの接
合にはガラスポンディングが適する。強磁性薄膜11は
トランス下部磁性体を構成する。なお、この磁性膜11
の膜面は第1図では紙面に垂直であり、第2図では紙面
に平行である。
下部基板上にヘッド下部磁性体1oを形成し、更に上記
磁性膜10.11とハ杷縁して、閉路の1ターンコイル
12を図示の様に形成する。このコイル12のヘッド磁
気回路Kかかる部分近傍はヘッドの1ターン信号巻ak
構成し、又トランス゛ 磁気回路Kかかる部分近傍は
トランスの1次1ターン巻線を構成する。次にヘッド下
部磁性体10上のへラドギャップが構成される部分に所
定厚の非磁性ギャップ層(図示せず)を形成したのち、
ヘッド磁気回路の上部磁性体13を強磁性薄膜により形
成する。一方、トランスの強磁性薄膜11の上には同中
間磁性層14を強磁性薄膜により形成する。以上の各薄
膜パターン形成によって生じた凹部をうめる様に非磁性
絶縁層15を形成し、上面を研磨して前記中間磁性層1
4が表面に現われたB −B’で示される平面が得られ
る様に加工する。
磁性膜10.11とハ杷縁して、閉路の1ターンコイル
12を図示の様に形成する。このコイル12のヘッド磁
気回路Kかかる部分近傍はヘッドの1ターン信号巻ak
構成し、又トランス゛ 磁気回路Kかかる部分近傍は
トランスの1次1ターン巻線を構成する。次にヘッド下
部磁性体10上のへラドギャップが構成される部分に所
定厚の非磁性ギャップ層(図示せず)を形成したのち、
ヘッド磁気回路の上部磁性体13を強磁性薄膜により形
成する。一方、トランスの強磁性薄膜11の上には同中
間磁性層14を強磁性薄膜により形成する。以上の各薄
膜パターン形成によって生じた凹部をうめる様に非磁性
絶縁層15を形成し、上面を研磨して前記中間磁性層1
4が表面に現われたB −B’で示される平面が得られ
る様に加工する。
以上の各薄膜プロセスにおいて、強磁性膜部分としては
パーマロイやモルファス磁性合金の真空蒸着膜もしくは
スパッタ膜が、又コイル層としてはCuやAIの真空蒸
着膜もしくはスパッタ膜が、更に絶縁層膜としてはS
102やA12o3のスノ<ツタ膜がそれぞれ適する。
パーマロイやモルファス磁性合金の真空蒸着膜もしくは
スパッタ膜が、又コイル層としてはCuやAIの真空蒸
着膜もしくはスパッタ膜が、更に絶縁層膜としてはS
102やA12o3のスノ<ツタ膜がそれぞれ適する。
次に第2図のB −B/よシ上の部分は非磁性ブロック
16bとトランス上部磁性体となるバルク強してあシ、
又B−B’の面は同一面となる用に研磨されている。非
磁性体部にはガラス、フォルステライト、チタン酸バリ
ウム等が、又強磁性ブロック部にはMn−Znフェライ
ト等が適し、両者の接合にはガラスポンディングが適す
る。
16bとトランス上部磁性体となるバルク強してあシ、
又B−B’の面は同一面となる用に研磨されている。非
磁性体部にはガラス、フォルステライト、チタン酸バリ
ウム等が、又強磁性ブロック部にはMn−Znフェライ
ト等が適し、両者の接合にはガラスポンディングが適す
る。
この様に準備したヘッド上部基板と、前記の薄膜プロセ
スの終了したヘッド下部基板を第2図の位置で接合する
。接合にはガラスポンディングが好ましいが、磁性薄膜
への悪影響等が有る場合は有機接着剤等によりポンディ
ングする。
スの終了したヘッド下部基板を第2図の位置で接合する
。接合にはガラスポンディングが好ましいが、磁性薄膜
への悪影響等が有る場合は有機接着剤等によりポンディ
ングする。
この様に形成したヘッドは所定の外形加工等をほどこし
たのち、バルク巻線をほどこしてトランスの2次コイル
19とする。この2次コイル19はトランスの上部磁気
回路と下部磁気回路で分割し、バランス巻きとなる様に
結線する。なお、磁気ヘッドの記録媒体対接面は20で
示される面で示される面であり、父上部基板及び下部基
板の基板面は各々B−B’、C−C’で示される面であ
る。
たのち、バルク巻線をほどこしてトランスの2次コイル
19とする。この2次コイル19はトランスの上部磁気
回路と下部磁気回路で分割し、バランス巻きとなる様に
結線する。なお、磁気ヘッドの記録媒体対接面は20で
示される面で示される面であり、父上部基板及び下部基
板の基板面は各々B−B’、C−C’で示される面であ
る。
以上の実施例の説明よシ明らかな様に、1タ一ンヘツド
部分はヘッド上部磁性体13と下部磁性体10ならび1
ターンコイル12によって構成され、トランス部分はバ
ルク強磁性ブロック17、中間磁性層14およびトラン
ス下部磁性体11より成るトランス磁気回路と、これに
鎖交する1ターンコイル12及び複数ターンの2次コイ
ル19により構成される。
部分はヘッド上部磁性体13と下部磁性体10ならび1
ターンコイル12によって構成され、トランス部分はバ
ルク強磁性ブロック17、中間磁性層14およびトラン
ス下部磁性体11より成るトランス磁気回路と、これに
鎖交する1ターンコイル12及び複数ターンの2次コイ
ル19により構成される。
ヘッド磁気回路ならびに1タ一ン巻線部は薄膜技術によ
って必要最小限の大きさに形成出来るので、ヘッドの1
ターンインダクタンスならびに1タ一ン部分のDC抵抗
全最小限に押えることが出来る。また、トランス2次巻
線は、1次巻線に近接した位置でバランス巻きとなる様
に形成しているので、前記従来例よりもトランス両巻線
の結合を高くとることが出来る(1次巻線に鎖交する磁
束のすべてが2次巻線にも鎖交するとき結合係数は1″
となる)。
って必要最小限の大きさに形成出来るので、ヘッドの1
ターンインダクタンスならびに1タ一ン部分のDC抵抗
全最小限に押えることが出来る。また、トランス2次巻
線は、1次巻線に近接した位置でバランス巻きとなる様
に形成しているので、前記従来例よりもトランス両巻線
の結合を高くとることが出来る(1次巻線に鎖交する磁
束のすべてが2次巻線にも鎖交するとき結合係数は1″
となる)。
更に、トランス下部磁性体は下部基板面及び媒体対接面
に直交する様に薄膜として配するので、その磁路のD−
D’力方向第1図)の厚みを薄膜コイルの内側寸法より
小さくすることが容易である。
に直交する様に薄膜として配するので、その磁路のD−
D’力方向第1図)の厚みを薄膜コイルの内側寸法より
小さくすることが容易である。
このために、バルク強磁性バロック17が第2図の紙面
垂直方向に連続した一体ものであっても、コイル12と
鎖交しないトランス磁気回路全少くすることが出来る。
垂直方向に連続した一体ものであっても、コイル12と
鎖交しないトランス磁気回路全少くすることが出来る。
第1図と第2図は説明上、1タ一ンヘツド部分を他より
拡大した形で示したが、実際例えば回転シリンダー用の
ビデオヘッドへの応用として、実際的な寸法比でヘッド
外観を描くと第4図の様なものとなる。外観上はいわゆ
るビデオヘッドタイプに極めて近似し穴ものとなってお
シ、回転ヘッドタイプの記録再生装置への導入が容易で
あることがわかる。
拡大した形で示したが、実際例えば回転シリンダー用の
ビデオヘッドへの応用として、実際的な寸法比でヘッド
外観を描くと第4図の様なものとなる。外観上はいわゆ
るビデオヘッドタイプに極めて近似し穴ものとなってお
シ、回転ヘッドタイプの記録再生装置への導入が容易で
あることがわかる。
第5図は本発明の他の実施例を示すものであp、下部基
板に特に関するものであるので、その部分のみ示す。こ
の例では、下部基板内の強磁性薄膜11aは強磁性薄膜
と絶縁層の積層体として形成されており、これによって
うず電流損失の少いトランス磁気回路が得られる。なお
この様な構成をとるときは、うず電流損失を更に少く押
えるために、上部基板内のトランス磁気回路も下部基板
と同様の積層構造として与え、第6図に示した様な構成
をとるのが好ましい。
板に特に関するものであるので、その部分のみ示す。こ
の例では、下部基板内の強磁性薄膜11aは強磁性薄膜
と絶縁層の積層体として形成されており、これによって
うず電流損失の少いトランス磁気回路が得られる。なお
この様な構成をとるときは、うず電流損失を更に少く押
えるために、上部基板内のトランス磁気回路も下部基板
と同様の積層構造として与え、第6図に示した様な構成
をとるのが好ましい。
上記各実施例で/′i1ターンヘッド部分はいわゆるリ
ング形ヘッドとして構成したが、ここには第7図に示し
た1ターンの垂直記録ヘッドを用いることも出来る。同
図で23は記録再生用主磁極、24は補助磁極、12は
1ターンコイルである。
ング形ヘッドとして構成したが、ここには第7図に示し
た1ターンの垂直記録ヘッドを用いることも出来る。同
図で23は記録再生用主磁極、24は補助磁極、12は
1ターンコイルである。
この様な垂直記録ヘッドにおいてに、第1図と第2図に
示しタリング形のヘッドに比べて、その磁路がよシ開磁
路的になるので、磁気回路?小形化したときの効率向上
が特に顕著であり、1ターン化してステップアップトラ
ンスを組合せる効果が大きい。
示しタリング形のヘッドに比べて、その磁路がよシ開磁
路的になるので、磁気回路?小形化したときの効率向上
が特に顕著であり、1ターン化してステップアップトラ
ンスを組合せる効果が大きい。
更に上記実施例ではヘッド部は1ターンの場合を示した
が、これを数ターンとして構成することも出来、この場
合も以上述べ元本発明の特徴を発揮することが出来る。
が、これを数ターンとして構成することも出来、この場
合も以上述べ元本発明の特徴を発揮することが出来る。
実際のコイル作製には周知の薄膜によるコイル形成技術
を用いることが出来る。
を用いることが出来る。
発明の詳細
な説明のように本発明のステップアップ型磁気ヘッドは
、ヘッド磁気回路部分ならびにトランス1次回路全含む
ヘッド信号巻線部を薄膜技術により形成し、かつトラン
ス2次巻線をバランス巻きとするため、定められたイン
ダクタンスて対して高いステップアップ型をとることが
でき、低抵抗でインピーダンスノイズが少く、伝達効率
の高いステップアップ型の磁気ヘッドを得ることが出来
る。又本発明によれば、回転ヘッド型ビデオヘッドとし
て特に爵適な構成をとることが出来るものである。
、ヘッド磁気回路部分ならびにトランス1次回路全含む
ヘッド信号巻線部を薄膜技術により形成し、かつトラン
ス2次巻線をバランス巻きとするため、定められたイン
ダクタンスて対して高いステップアップ型をとることが
でき、低抵抗でインピーダンスノイズが少く、伝達効率
の高いステップアップ型の磁気ヘッドを得ることが出来
る。又本発明によれば、回転ヘッド型ビデオヘッドとし
て特に爵適な構成をとることが出来るものである。
又本発明においては、トランス磁気回路は薄膜構成面に
略直交する強磁性薄膜により与えるので、1次コイルに
鎖交しない磁路を減らすことが可能であり、トランスの
結合係数を高めることが出来る。更にこの構成ではトラ
ンス磁気回路を積層構造にすることが容易であり、うず
電流損の少いステップアップ型ヘッドが得られる。
略直交する強磁性薄膜により与えるので、1次コイルに
鎖交しない磁路を減らすことが可能であり、トランスの
結合係数を高めることが出来る。更にこの構成ではトラ
ンス磁気回路を積層構造にすることが容易であり、うず
電流損の少いステップアップ型ヘッドが得られる。
第1図、第2図はそれぞれ本発明の一実施例を示す平面
図−2断面図、第3図は同下部基板を示す斜視図、第4
図は本発明のヘッド外観を示す平面図、第5図は本発明
の他の実施例における下部基板を示す部分斜視図、第6
図は同上部基板と下部基板が接合された状態を示す部分
斜視図、第7図は本発明の更知他の実施例を示す部分断
面図、第8図はステップアップ型磁気ヘッドの原理図、
第、 9図はその従来例を示す断面図、第10図はス
テップアップ型磁気ヘッドの等価回路図である。 9・・・・・・ヘッド下部基板、10・・・・・・ヘッ
ド下部磁性体、11.11a・・・・・・トランス下部
磁性体、12・・・・・・1ターンコイル、13・・・
・・・ヘッド上部磁性体、14・・・・・・トランス中
間磁性層、16・・・・・・非磁性絶縁層、16a、1
6b、16c・・・・・・非磁性ブロック、17,17
a・・・・・・トラン2.上部磁性体、18・・・・・
・トランス2次巻線用巻回溝、19・・・・・・トラン
ス2次巻線。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名9−
一一下旬口1反 第 1 12I/9−−−トランス2鵬ヤ艮:rS2図 第3図 第4図 10、/2./、3 第5図 オ)6図 //沢 第7図 第8図 第9図
図−2断面図、第3図は同下部基板を示す斜視図、第4
図は本発明のヘッド外観を示す平面図、第5図は本発明
の他の実施例における下部基板を示す部分斜視図、第6
図は同上部基板と下部基板が接合された状態を示す部分
斜視図、第7図は本発明の更知他の実施例を示す部分断
面図、第8図はステップアップ型磁気ヘッドの原理図、
第、 9図はその従来例を示す断面図、第10図はス
テップアップ型磁気ヘッドの等価回路図である。 9・・・・・・ヘッド下部基板、10・・・・・・ヘッ
ド下部磁性体、11.11a・・・・・・トランス下部
磁性体、12・・・・・・1ターンコイル、13・・・
・・・ヘッド上部磁性体、14・・・・・・トランス中
間磁性層、16・・・・・・非磁性絶縁層、16a、1
6b、16c・・・・・・非磁性ブロック、17,17
a・・・・・・トラン2.上部磁性体、18・・・・・
・トランス2次巻線用巻回溝、19・・・・・・トラン
ス2次巻線。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名9−
一一下旬口1反 第 1 12I/9−−−トランス2鵬ヤ艮:rS2図 第3図 第4図 10、/2./、3 第5図 オ)6図 //沢 第7図 第8図 第9図
Claims (6)
- (1)下部基板上に形成した薄膜ヘッド磁気回路と、前
記下部基板内に形成した第1の強磁性薄膜を少くとも一
部に含んで上部基板とともに構成したトランス磁気回路
と、前記ヘッド磁気回路ならびに前記トランス磁気回路
の両方に鎖交するよう前記下部基板上に形成した閉路の
薄膜コイルと、前記トランス磁気回路に鎖交するトラン
ス2次巻線とからなり、この2次巻線は上部基板を周回
する部分と下部基板を周回する部分に分割してバルク巻
線によりバランス巻きしたステップアップ型磁気ヘッド
であって、前記下部基板は前記第1の強磁性薄膜を非磁
性体ではさみ込んだ構造を少くとも一部に有しており、
かつ前記第1の強磁性薄膜の膜面は前記下部基板の基板
面および磁気ヘッドの記録媒体対接面いずれに対しても
略垂直であることを特徴とするステップアップ型磁気ヘ
ッド。 - (2)薄膜コイルを、ヘッド磁気回路とトランス磁気回
路のいずれに対しても1ターンで鎖交するように構成し
たことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のステッ
プアップ型磁気ヘッド。 - (3)上部基板と下部基板の少なくとも一方はトランス
磁気回路の一部を形成するバルク強磁性体部を含むよう
構成したことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
ステップアップ型磁気ヘッド。 - (4)第1の強磁性薄膜は絶縁層を介して複数層積層さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
ステップアップ型磁気ヘッド。 - (5)上部基板は、トランス磁気回路の一部を構成する
第2の強磁性薄膜を有しており、上記第2の強磁性薄膜
の膜面は前記上部基板の基板面および磁気ヘッドの記録
媒体対接面いずれに対しても略垂直であることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載のステップアップ型磁気
ヘッド。 - (6)第2の強磁性薄膜は絶縁層を介して複数層積層さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第5項記載の
ステップアップ型磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61261261A JPS63113906A (ja) | 1986-10-31 | 1986-10-31 | ステツプアツプ型磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61261261A JPS63113906A (ja) | 1986-10-31 | 1986-10-31 | ステツプアツプ型磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63113906A true JPS63113906A (ja) | 1988-05-18 |
Family
ID=17359368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61261261A Pending JPS63113906A (ja) | 1986-10-31 | 1986-10-31 | ステツプアツプ型磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63113906A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0714090A1 (fr) * | 1994-11-25 | 1996-05-29 | Thomson-Csf | Tête magnétique d'enregistrement/lecture et procédé de réalisation |
-
1986
- 1986-10-31 JP JP61261261A patent/JPS63113906A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0714090A1 (fr) * | 1994-11-25 | 1996-05-29 | Thomson-Csf | Tête magnétique d'enregistrement/lecture et procédé de réalisation |
| FR2727555A1 (fr) * | 1994-11-25 | 1996-05-31 | Thomson Csf | Tete magnetique d'enregistrement/lecture et son procede de realisation |
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