JPS63118632A - 微少量流体通路用シリコンチツプ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、シリコンチップに形成したガス通路用細溝の
改良に関する。

（従来技術及び問題点） シリコンチップに形成したガス通路用ｍ溝から成るガス
通路内にガスを流し、ガスの成分を分析・検知する場合
には、分析・検知の用途に応じてガス流量を増減する場
合がある。しかしながら、ガス通路の容積は、細溝形成
の際に一定の寸法で通路用ｍｍが形成されることから、
ガスの流量を多くする場合は、改めて細溝の寸法を拡大
して形成し、ガス通路の容積を増大することにより行な
われた。また、ガス流量を少なくする場合は、細溝の寸
法を縮小し、ガス通路の容積を減少するなど、ガス流量
に応じて細溝の寸法を物理的手段によって拡張もしくは
縮小を図らなければならない煩わしさがあった。

さらに、従来はガス流量に応じてガス流を分流する場合
は、ガス注入口の近傍に分流用の通路を共備したＷ／ｉ
　ｊ＋Ｔｔを用いて行なわれていたが、かかる分流機構
は、シリコンチップに対比して極めて大観（ズなりｔ造
となり、小型化を図ることの障害となっていた。

（発明の目的） 本発明はかかるγ入流量の増減に応じて細溝の寸法を物
理的手段によって細溝を微少変更する煩わしさを除去し
、−のシリコンチップでガス流量の増減に拘わらず細溝
の寸法の変更を要しない微少量流体通路用シリコンチッ
プを提供することを目的とする。

（発明の概要） 本発明の構成を概説すると、本発明は〃人通路用細溝を
形成したシリコンチップであって、−のシリコンチップ
にメインガス通路用細溝と、バイパスガス通路用細溝と
をｉ４ｃ備することを特徴とし、数１０気圧のガス流を
メインガス通路とバイパスが人通路へ分流し、ガス通路
内でガス流を乱流させることなく整流できることを特徴
とする。

（発明の実施例） 本発明の構成及び実施例を図面に基づき説明する。第１
図（１）は、本発明に係るシリコンチップの平面図であ
り、第１図（２）は、裏面図である。

１はシリコンチップであり、２はバイパス用細溝であり
、３はメイン通路用細溝であり、４はガス通路用貫通孔
である。シリコンチップ１には等方性・異方性エツチン
グにより表面側（第１図（１）参照）へバイパス用細溝
２を形成し、裏面側（第１図（２）参照）へメイン通路
用細溝３を形成する。

さらにバイパス用細溝２とメイン通路用細溝３を連通す
る貫通孔４を穿設する。

第２図は、本発明の実施例を示す分解図であり、本発明
に係るシリコンチップ１に対して、パイプ挿入孔５を兵
備したガラス板６及びパイプ７と熱伝導度により〃ス成
分を分析・検知する検出器８を配設する。

第３図は、本発明の使用状態を示す断面図である。パイ
プ７からガスを注入すると（矢印参照）、ガスは、バイ
パス用通路２とメイン通路３へ流れ、メイン通路３内に
配設される検出器８を介して〃ス成分の分析が行なわれ
、バイパス通路２を経由したガスとメイン通路３を経由
したガスが合流してパイプ７より排出される。

（発明の効果） 本発明は、以上の構成であり、−のシリコンチップでバ
イパス用通路とメイン通路にガス流を分流できるため、
ガス通路の容積がガス注入量の増減に影響されない効果
を奏し、別途分流機構を設置することを不要にすること
から検出器の小型化を図ることができる効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図（１）（２＞は本発明の構成を示す平面図及び裏
面図であり、第２図は本発明の実施例を示す分解図であ
り、第３図は本発明の使用状態を示す断面図である。 １・・・シリコンチップ　　　２・・・バイパス用細溝
３・・・メイン通路用細溝 ４・・・ガス通路貫通孔　　　５・・・パイプ挿入孔６
・・・ガラス板　　　　　　７・・・パイプ８・・・検
出器

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 一のシリコンチップに、バイパス用細溝とメイン通路用
   細溝とを具備したことを特徴とする微少量流体通路用シ
   リコンチップ。