JPS6312667B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6312667B2 JPS6312667B2 JP60091057A JP9105785A JPS6312667B2 JP S6312667 B2 JPS6312667 B2 JP S6312667B2 JP 60091057 A JP60091057 A JP 60091057A JP 9105785 A JP9105785 A JP 9105785A JP S6312667 B2 JPS6312667 B2 JP S6312667B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aerosol
- processing chamber
- treated
- coating
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は合成樹脂成型品、紙、布、木材、セ
ラミツク等への表面改質剤、着色剤、接着剤の塗
布、金属等の表面処理、さらには食品添加剤の塗
布等に使用する塗布液の塗布法に関する。
ラミツク等への表面改質剤、着色剤、接着剤の塗
布、金属等の表面処理、さらには食品添加剤の塗
布等に使用する塗布液の塗布法に関する。
合成樹脂成型品等の表面に帯電防止剤等の表面
改質剤から成る被膜を塗布、形成せしめるには表
面改質剤から成る溶液又は水分散液に被処理物を
浸漬したり、ブラシ等で塗布したり、また合成樹
脂成型の際表面改質剤を原料に練り込み、これを
表面にブリードさせて、合成樹脂成型品等の表面
に表面改質剤の被膜を形成させているが、これら
の方法では表面改質剤の被膜が厚くなりすぎ、す
ぐに摩擦等により剥離したり、また塗布むらが生
じたり、塗膜が移動し易く、安定した均一な被膜
が得られにくい。
改質剤から成る被膜を塗布、形成せしめるには表
面改質剤から成る溶液又は水分散液に被処理物を
浸漬したり、ブラシ等で塗布したり、また合成樹
脂成型の際表面改質剤を原料に練り込み、これを
表面にブリードさせて、合成樹脂成型品等の表面
に表面改質剤の被膜を形成させているが、これら
の方法では表面改質剤の被膜が厚くなりすぎ、す
ぐに摩擦等により剥離したり、また塗布むらが生
じたり、塗膜が移動し易く、安定した均一な被膜
が得られにくい。
そこで表面改質剤を微粒子から成るミスト乃至
はエアロゾルにしてこのミスト又はエアロゾルを
被処理物に吹き付け、これにより被処理物の表面
に均一な安定した極薄膜を形成し、表面改質効果
を長期にわたつて保持せしめる方法が出願人によ
つて開発された。
はエアロゾルにしてこのミスト又はエアロゾルを
被処理物に吹き付け、これにより被処理物の表面
に均一な安定した極薄膜を形成し、表面改質効果
を長期にわたつて保持せしめる方法が出願人によ
つて開発された。
このミスト又はエアロゾルによる塗布において
は、これらの粒子径が100μ以下が好ましいが、
この様な微粒子は相互に反発しあい、空気中に安
定して浮遊しエアロゾルを形成する。従つてこの
エアロゾルは被処理物への付着力が非常に弱く、
いわゆるぬれ性が悪い。特に複雑な合成樹脂成型
品の場合とか紙、布、繊維のような表面が複雑な
凹凸のある場合、これらの表面形状の影響をうけ
て表面のすみずみまで粒子の浸透性が悪い。
は、これらの粒子径が100μ以下が好ましいが、
この様な微粒子は相互に反発しあい、空気中に安
定して浮遊しエアロゾルを形成する。従つてこの
エアロゾルは被処理物への付着力が非常に弱く、
いわゆるぬれ性が悪い。特に複雑な合成樹脂成型
品の場合とか紙、布、繊維のような表面が複雑な
凹凸のある場合、これらの表面形状の影響をうけ
て表面のすみずみまで粒子の浸透性が悪い。
この発明はこの点に鑑みて為されたもので、特
に改質剤に限らず、すべての塗布液に使用できる
ものである。
に改質剤に限らず、すべての塗布液に使用できる
ものである。
即ち、この発明は被処理物を密閉された処理室
内に入れ、表面改質剤等の塗布液を多数の微粒子
から成るエアロゾルにして、上記処理室内に噴霧
し、処理室内でエアロゾルの圧力を大気圧より高
めてエアロゾルを安定させかつ拡散を速め過飽和
状態にし、上記被処理物にエアロゾルを速やかに
付着又は吸着させ、エアロゾルの成分から成る被
膜を被処理物の表面に形成せしめる塗布法であ
る。
内に入れ、表面改質剤等の塗布液を多数の微粒子
から成るエアロゾルにして、上記処理室内に噴霧
し、処理室内でエアロゾルの圧力を大気圧より高
めてエアロゾルを安定させかつ拡散を速め過飽和
状態にし、上記被処理物にエアロゾルを速やかに
付着又は吸着させ、エアロゾルの成分から成る被
膜を被処理物の表面に形成せしめる塗布法であ
る。
これによりエアロゾルは処理室内で安定して拡
散し、過飽和状態となり、被処理物の微細な凹凸
面や細長いチユーブ状内にもすばやくエアロゾル
が浸透し、かつ被処理物の表面に吸着又は付着す
る。そして被処理物の表面にはエアロゾルの成分
から成る被膜が形成するものである。
散し、過飽和状態となり、被処理物の微細な凹凸
面や細長いチユーブ状内にもすばやくエアロゾル
が浸透し、かつ被処理物の表面に吸着又は付着す
る。そして被処理物の表面にはエアロゾルの成分
から成る被膜が形成するものである。
以下この発明の実施例を図について説明する。
１は略箱型の装置本体、２はこの装置本体１の
前部に設けた、被処理物を収納できるスペースを
有する処理室、３はこの処理室２の前面に設けた
開口部を開閉自在な開閉扉で、この開閉扉３を閉
めることにより処理室２は密閉され、かつ処理室
２は耐圧構造となる。４はこの処理室２の後方に
設けたエアロゾル噴霧室、５はこのエアロゾル噴
霧室４の下部に設けたエアロゾル噴霧器で、この
エアロゾル噴霧器５は、処理室２の下に設けた表
面改質剤の溶液を入れたタンク６から該溶液を導
入し、これに図外のコンプレツサにより圧縮空気
をエアーパイプ７を通して送り、多数の微粒子
（100μ以下が好ましい）を噴霧せしめる。このエ
アロゾル噴霧室４の上面には傾斜した反射板４ａ
を有し、この反射板４ａと上記エアロゾル噴霧器
５のノズル５ａとの距離ｌは300〜500mmとつてあ
る。８はこの反射板４ａの上端につづくエアロゾ
ル噴霧室４の上面に設けたエアロゾル噴出口で、
このエアロゾル噴出口８は上記処理室２の上部に
対向している。９はこのエアロゾル噴出口８と反
対側の処理室２内上部に設けた樋、１０は処理室
２の網目状上底板、１１はこの網目状上底板１０
の下に設け、より網目の細い網目状下底板で、こ
の網目状下底板１１の下方に、上面が開口した上
記タンク６が位置している。１２は上記処理室２
の左右両側に設けた排気ダクトで、この排気ダク
ト１２の下部は上記網目状上底板１０を介して処
理室２と通じている。１３はこれらの各排気ダク
ト１２の中程を塞ぐ液化材、１４はこれらの各排
気ダクト１２の上部に設けた排気用スリツトで、
これらの各スリツト１４は装置本体１の両側外面
に露出しており、スリツトの間隙巾が調整自在で
ある。１５は上記エアロゾル噴霧室４の下部から
上記タンク６内に垂下したパイプである。
前部に設けた、被処理物を収納できるスペースを
有する処理室、３はこの処理室２の前面に設けた
開口部を開閉自在な開閉扉で、この開閉扉３を閉
めることにより処理室２は密閉され、かつ処理室
２は耐圧構造となる。４はこの処理室２の後方に
設けたエアロゾル噴霧室、５はこのエアロゾル噴
霧室４の下部に設けたエアロゾル噴霧器で、この
エアロゾル噴霧器５は、処理室２の下に設けた表
面改質剤の溶液を入れたタンク６から該溶液を導
入し、これに図外のコンプレツサにより圧縮空気
をエアーパイプ７を通して送り、多数の微粒子
（100μ以下が好ましい）を噴霧せしめる。このエ
アロゾル噴霧室４の上面には傾斜した反射板４ａ
を有し、この反射板４ａと上記エアロゾル噴霧器
５のノズル５ａとの距離ｌは300〜500mmとつてあ
る。８はこの反射板４ａの上端につづくエアロゾ
ル噴霧室４の上面に設けたエアロゾル噴出口で、
このエアロゾル噴出口８は上記処理室２の上部に
対向している。９はこのエアロゾル噴出口８と反
対側の処理室２内上部に設けた樋、１０は処理室
２の網目状上底板、１１はこの網目状上底板１０
の下に設け、より網目の細い網目状下底板で、こ
の網目状下底板１１の下方に、上面が開口した上
記タンク６が位置している。１２は上記処理室２
の左右両側に設けた排気ダクトで、この排気ダク
ト１２の下部は上記網目状上底板１０を介して処
理室２と通じている。１３はこれらの各排気ダク
ト１２の中程を塞ぐ液化材、１４はこれらの各排
気ダクト１２の上部に設けた排気用スリツトで、
これらの各スリツト１４は装置本体１の両側外面
に露出しており、スリツトの間隙巾が調整自在で
ある。１５は上記エアロゾル噴霧室４の下部から
上記タンク６内に垂下したパイプである。
次にこの実施例に基づいてこの発明の方法の実
施例を設明する。まず開閉扉３を開けてこの処理
室２内に被処理物１６を入れ、再び開閉扉３を閉
める。この際図示の如く被処理物１６は処理室２
内に入れた棚等に多数のせることもできる。これ
により処理室２は密閉される。そして図外のコン
プレツサを作動させるとタンク６内の溶液はエア
ロゾル噴霧器５に導かれ、コンプレツサからエア
ーパイプ７を通つてきた圧縮空気により、約
100μ以下の多数の微粒子にしてノズル５ａから
エアロゾル噴霧室４内に噴出する。この噴出した
粒子は反射板４ａに当つて小さい粒子のみエアー
に運ばれ噴出口８から処理室２内にエアロゾルと
して注入され、大きい粒子は反射板４ａに当つて
そこで液化され、エアロゾル噴霧室４下部に垂下
していく。この様にしてエアロゾル噴霧器５によ
つて噴霧された粒子はその粒径を選別し、小さい
粒径から成る安定したエアロゾルのみが処理室２
内に注入される。そして処理室２内は大気圧より
圧力の高いエアロゾルが次第に充満し、かつエア
ロゾルの粒子数は濃縮され拡散が速まり、過飽和
の状態で安定化する。そして処理室２内の空気圧
は0.1〜３Kg／cm2となる。これによりエアロゾル
は被処理物１６の表面のすみずみまで浸透し、被
処理物に接触すると直ちに付着又は吸着する。そ
して被処理物１６の表面に付着するエアロゾルの
成分はその粒子径と密度に比例した被膜となる。
これはエアロゾルの成分を形成する水等の溶媒が
蒸発し、乾固した被膜として形成される。またエ
アロゾルの付着量によつてはミクロな粒子の集合
体を形成する。また被処理物に付着しなかつたエ
アロゾルは処理室２の網目状上底板１０を通り、
排気ダクト１２に達し、液化材１３を通る。ここ
でエアロゾルの空気又は他の気体はこの液化材１
３を通つて排気用スリツト１４から装置本体１外
方へ排気されると共に圧力が調整される。またエ
アロゾルの成分はこの液化材１３で液化され、適
宜装置本体１の外方へ排気されるか又はタンク６
へ戻される。一方エアロゾル噴霧室４の下部に貯
つた溶液はパイプ１５を通つてタンク６に戻る。
この様にして処理室２内にエアロゾルを充満さ
せ、かつ処理室２の空気を高め、一定時間後エア
ロゾル噴霧器５の作動を止め、開閉扉３を開けて
被処理物１６を取り出す。
施例を設明する。まず開閉扉３を開けてこの処理
室２内に被処理物１６を入れ、再び開閉扉３を閉
める。この際図示の如く被処理物１６は処理室２
内に入れた棚等に多数のせることもできる。これ
により処理室２は密閉される。そして図外のコン
プレツサを作動させるとタンク６内の溶液はエア
ロゾル噴霧器５に導かれ、コンプレツサからエア
ーパイプ７を通つてきた圧縮空気により、約
100μ以下の多数の微粒子にしてノズル５ａから
エアロゾル噴霧室４内に噴出する。この噴出した
粒子は反射板４ａに当つて小さい粒子のみエアー
に運ばれ噴出口８から処理室２内にエアロゾルと
して注入され、大きい粒子は反射板４ａに当つて
そこで液化され、エアロゾル噴霧室４下部に垂下
していく。この様にしてエアロゾル噴霧器５によ
つて噴霧された粒子はその粒径を選別し、小さい
粒径から成る安定したエアロゾルのみが処理室２
内に注入される。そして処理室２内は大気圧より
圧力の高いエアロゾルが次第に充満し、かつエア
ロゾルの粒子数は濃縮され拡散が速まり、過飽和
の状態で安定化する。そして処理室２内の空気圧
は0.1〜３Kg／cm2となる。これによりエアロゾル
は被処理物１６の表面のすみずみまで浸透し、被
処理物に接触すると直ちに付着又は吸着する。そ
して被処理物１６の表面に付着するエアロゾルの
成分はその粒子径と密度に比例した被膜となる。
これはエアロゾルの成分を形成する水等の溶媒が
蒸発し、乾固した被膜として形成される。またエ
アロゾルの付着量によつてはミクロな粒子の集合
体を形成する。また被処理物に付着しなかつたエ
アロゾルは処理室２の網目状上底板１０を通り、
排気ダクト１２に達し、液化材１３を通る。ここ
でエアロゾルの空気又は他の気体はこの液化材１
３を通つて排気用スリツト１４から装置本体１外
方へ排気されると共に圧力が調整される。またエ
アロゾルの成分はこの液化材１３で液化され、適
宜装置本体１の外方へ排気されるか又はタンク６
へ戻される。一方エアロゾル噴霧室４の下部に貯
つた溶液はパイプ１５を通つてタンク６に戻る。
この様にして処理室２内にエアロゾルを充満さ
せ、かつ処理室２の空気を高め、一定時間後エア
ロゾル噴霧器５の作動を止め、開閉扉３を開けて
被処理物１６を取り出す。
第３図はこの発明の装置の他の実施例を示すも
ので、排気ダクト１２の液化材１３より手前の排
気ダクト１２の内壁にフアン２５を設け、このフ
アン２５で吸引した空気を孔１７を通して処理室
２に送るもので、さらにこのフアン２５の後方
に、フアン２５に近接して、排気ダクト１２を開
閉調整自在な調整弁１８を設け、この調整弁１８
の後方に液化材１３を位置せしめたものである。
ので、排気ダクト１２の液化材１３より手前の排
気ダクト１２の内壁にフアン２５を設け、このフ
アン２５で吸引した空気を孔１７を通して処理室
２に送るもので、さらにこのフアン２５の後方
に、フアン２５に近接して、排気ダクト１２を開
閉調整自在な調整弁１８を設け、この調整弁１８
の後方に液化材１３を位置せしめたものである。
この実施例の場合処理室２に充満したエアロゾ
ルは粗い網目状上底板１０を通つて排気ダクト１
２に入り、さらにフアン２５によつて吸引されて
孔１７から再び処理室２内上部に戻る。そして排
気ダクト１２内のエアロゾルの一部は調整弁１８
箇所を通つて液化材１３を通り液化され空気のみ
が排気用のスリツト１４を通つて外部に排気され
る。この様にしてエアロゾルが充満した一部の空
気は循環し、フアン２５により空気の流れを速く
することにより、エアロゾルの拡散が速まり処理
室２内のエアロゾルの被処理物１６への浸透付着
を高めることができる。
ルは粗い網目状上底板１０を通つて排気ダクト１
２に入り、さらにフアン２５によつて吸引されて
孔１７から再び処理室２内上部に戻る。そして排
気ダクト１２内のエアロゾルの一部は調整弁１８
箇所を通つて液化材１３を通り液化され空気のみ
が排気用のスリツト１４を通つて外部に排気され
る。この様にしてエアロゾルが充満した一部の空
気は循環し、フアン２５により空気の流れを速く
することにより、エアロゾルの拡散が速まり処理
室２内のエアロゾルの被処理物１６への浸透付着
を高めることができる。
また上記二つの実施例とも、処理室２内の圧力
の調整は排気用のスリツト１４のスリツト巾の調
整又は液化材１３の抵抗の調整と噴霧する圧力の
調整による。
の調整は排気用のスリツト１４のスリツト巾の調
整又は液化材１３の抵抗の調整と噴霧する圧力の
調整による。
また上記各実施例において処理室２内に被処理
物を入れて塗布処理する際、処理室２内で被処理
物１６を第４図に示す如く適宜の回転支持体１９
に支持せしめて低速で回転したり、上下に移動し
たり、振動せしめたりするとさらにエアロゾルが
被処理物表面にすみやかに浸透する。
物を入れて塗布処理する際、処理室２内で被処理
物１６を第４図に示す如く適宜の回転支持体１９
に支持せしめて低速で回転したり、上下に移動し
たり、振動せしめたりするとさらにエアロゾルが
被処理物表面にすみやかに浸透する。
また上記各実施例においてエアロゾル噴霧器５
の作動をタイマー等により止め、自動的に温風を
処理室２内に送り、被処理物を乾燥せしめること
ができ、また処理室２から被処理を取り出して別
設の乾燥機に入れて乾燥せしめることもできる。
さらには第５図に示す如くターレツト式にして自
動的処理もできる。即ち、第５図中２０は回転
軸、２１は夫々この回転軸２０から水平に突出し
た四個の移動台、２２は処理室、２３は乾燥室を
示し、各移動台２１の上に被処理物をのせ、回転
軸２０を回転せしめて順に処理室２２、乾燥室２
３に一定時間入れて、これを取り出す。このよう
にして自動処理できるものである。
の作動をタイマー等により止め、自動的に温風を
処理室２内に送り、被処理物を乾燥せしめること
ができ、また処理室２から被処理を取り出して別
設の乾燥機に入れて乾燥せしめることもできる。
さらには第５図に示す如くターレツト式にして自
動的処理もできる。即ち、第５図中２０は回転
軸、２１は夫々この回転軸２０から水平に突出し
た四個の移動台、２２は処理室、２３は乾燥室を
示し、各移動台２１の上に被処理物をのせ、回転
軸２０を回転せしめて順に処理室２２、乾燥室２
３に一定時間入れて、これを取り出す。このよう
にして自動処理できるものである。
一般に100μ以下の粒径のエアロゾルは安定し
て搬送できるがまた一方被処理物に付着しにくい
性質をもつている。この性質をもつたエアロゾル
の特性を利用して微量な均一な塗布膜を得るため
には安定した過飽和な状態をつくる必要がある。
て搬送できるがまた一方被処理物に付着しにくい
性質をもつている。この性質をもつたエアロゾル
の特性を利用して微量な均一な塗布膜を得るため
には安定した過飽和な状態をつくる必要がある。
そこでこの発明では、処理室内にエアロゾルを
高圧で充満させることにより単位体積あたりのエ
アロゾルの濃度が高まり、過飽和の状態になる。
これにより処理室内の複雑な凹凸のある被処理物
表面すみずみまでエアロゾルが入り込み、表面に
接触すると速やかに吸着又は付着する。従つて複
雑な表面を有する被処理物であつてもすみずみま
でまんべんなくエアロゾルが浸透して吸着又は付
着でき、従来のものに比べて微量な塗布量の調整
が極めて高速で処理できるものである。
高圧で充満させることにより単位体積あたりのエ
アロゾルの濃度が高まり、過飽和の状態になる。
これにより処理室内の複雑な凹凸のある被処理物
表面すみずみまでエアロゾルが入り込み、表面に
接触すると速やかに吸着又は付着する。従つて複
雑な表面を有する被処理物であつてもすみずみま
でまんべんなくエアロゾルが浸透して吸着又は付
着でき、従来のものに比べて微量な塗布量の調整
が極めて高速で処理できるものである。
またこの発明は合成樹脂成型品等の表面の平滑
なものから紙、布、木材、セラミツク等の多孔質
な表面のものまで、これらへの帯電防止剤等の表
面改質剤、着色剤、接着剤の塗布やまた金属の表
面処理や食品への添加剤の塗布等種々の塗布液に
使用でき、これらの塗布液の塗布の微量域でのコ
ントロールが可能な塗布法である。
なものから紙、布、木材、セラミツク等の多孔質
な表面のものまで、これらへの帯電防止剤等の表
面改質剤、着色剤、接着剤の塗布やまた金属の表
面処理や食品への添加剤の塗布等種々の塗布液に
使用でき、これらの塗布液の塗布の微量域でのコ
ントロールが可能な塗布法である。
第１図はこの発明に使用する装置の第１実施例
の縦断面側面図、第２図は同縦断面正面図、第３
図はこの発明に使用する装置の第２実施例の縦断
面正面図、第４図はこの発明に使用する装置の第
３実施例の縦断面正面図、第５図はこの発明に使
用する装置をターレツト式にした状態を示す構成
図である。 なお図中１は装置本体、２は処理室、３は開閉
扉、５はエアロゾル噴霧器、６はタンク、１２は
排気ダクト、１４は排気用スリツトである。
の縦断面側面図、第２図は同縦断面正面図、第３
図はこの発明に使用する装置の第２実施例の縦断
面正面図、第４図はこの発明に使用する装置の第
３実施例の縦断面正面図、第５図はこの発明に使
用する装置をターレツト式にした状態を示す構成
図である。 なお図中１は装置本体、２は処理室、３は開閉
扉、５はエアロゾル噴霧器、６はタンク、１２は
排気ダクト、１４は排気用スリツトである。
Claims (1)
- １ 被処理物を密閉された処理室内に入れ、表面
改質剤等の塗布液を多数の微粒子から成るエアロ
ゾルにして、上記処理室内に噴霧し、処理室内で
エアロゾルの圧力を大気圧より高めてエアロゾル
を安定させかつ拡散を速め過飽和状態にし、上記
被処理物にエアロゾルを吸着又は付着させ、エア
ロゾルの成分から成る被膜を被処理物の表面に形
成せしめることを特徴とする表面改質剤等の塗布
液の塗布法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9105785A JPS61249567A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 表面改質剤等の塗布液の塗布法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9105785A JPS61249567A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 表面改質剤等の塗布液の塗布法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61249567A JPS61249567A (ja) | 1986-11-06 |
| JPS6312667B2 true JPS6312667B2 (ja) | 1988-03-22 |
Family
ID=14015873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9105785A Granted JPS61249567A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 表面改質剤等の塗布液の塗布法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61249567A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2898318B2 (ja) * | 1989-11-10 | 1999-05-31 | 三菱電機株式会社 | 有機薄膜の形成方法および形成装置 |
| EP1250965A1 (de) * | 2001-03-26 | 2002-10-23 | NANOCOATING Gesellschaft für Oberflächentechnologie mbH | Verfahren zum Auftragen eines Beschichtungsmittels |
| FI125920B (en) * | 2013-09-09 | 2016-04-15 | Beneq Oy | A method of coating a substrate |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5827665A (ja) * | 1981-08-10 | 1983-02-18 | Tokyo Copal Kagaku Kk | エアロゾルによる表面処理方法及びその装置 |
-
1985
- 1985-04-30 JP JP9105785A patent/JPS61249567A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61249567A (ja) | 1986-11-06 |
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