JPS63132896A - アミノ酸ホスホロヒドラジデ−ト誘導体 - Google Patents
アミノ酸ホスホロヒドラジデ−ト誘導体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
本発明は、抗菌作用を有する新規なアミノ酸ホスホロヒ
ドラジデート誘導体に関する。
ドラジデート誘導体に関する。
従来、アミノ酸ホスホロヒドラジデート誘導体としては
、例えば特開昭56−81593号に式(式中、R1は
低級アルキルまたはアリール、R2は水素または低級ア
ルキル、吋およびnf。
、例えば特開昭56−81593号に式(式中、R1は
低級アルキルまたはアリール、R2は水素または低級ア
ルキル、吋およびnf。
は同一または異なって水素、低級アルキルまたはアル(
低級)アルキル、2は水素またはアミン保護基をそれぞ
れ意味する)で示される化合物が、また、テトラヘドロ
ンレターズ(’retra−hedron Lette
rs )+ 24巻、22号、2283〜2286頁
(1983年)には で示される化合物が既に開示されており、いずれも抗菌
作用を有することが公知である。
低級)アルキル、2は水素またはアミン保護基をそれぞ
れ意味する)で示される化合物が、また、テトラヘドロ
ンレターズ(’retra−hedron Lette
rs )+ 24巻、22号、2283〜2286頁
(1983年)には で示される化合物が既に開示されており、いずれも抗菌
作用を有することが公知である。
本発明者らは、アミノ酸ホスホロヒドラジデート誘導体
について長年にわたり鋭意研究を行なった結果、新規な
アミノ酸ホスホロヒドラジデート誘導体が優れた抗菌作
用を有することを見出して本発明を完成した。
について長年にわたり鋭意研究を行なった結果、新規な
アミノ酸ホスホロヒドラジデート誘導体が優れた抗菌作
用を有することを見出して本発明を完成した。
本発明の新規なアミノ酸ホスホロヒドラジデート誘導体
は 一般式 (式中、Xはα−アミノ酸残基を示し、R1は水素原子
またはアルキル基を示し、R2は水素原子またはアルキ
ル基を示し、R3は酸素原子または硫黄原子を示し、R
4は水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキ
ル基を示し、アルギニル基またはバリル−アルギニル基
ヲ示し、R1が水素原子を示し、R2がメチル基を示し
、R3が酸素原子を示し、R4が水素原子を示で表わさ
れる。
は 一般式 (式中、Xはα−アミノ酸残基を示し、R1は水素原子
またはアルキル基を示し、R2は水素原子またはアルキ
ル基を示し、R3は酸素原子または硫黄原子を示し、R
4は水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキ
ル基を示し、アルギニル基またはバリル−アルギニル基
ヲ示し、R1が水素原子を示し、R2がメチル基を示し
、R3が酸素原子を示し、R4が水素原子を示で表わさ
れる。
ここに%Xがα−アミノ酸残基である場合、例工ばグリ
シン、アラニン、バリン、口4’/ン、イノロイシン、
フェニルアラニン、チロシン、プロリン、ヒドロキシプ
ロリン、セリン、スレオニン、システィン、メチオニン
、トリプトファン、アスパラギン酸、グルタミン酸、ア
ルギニン、ヒスチジン、リジンなどであるα−アミノ酸
の残基である。これらのα−アミノ酸にはL体、0体、
DL体が存在するが、 本発明においてはこれらのいず
れをも含む。
シン、アラニン、バリン、口4’/ン、イノロイシン、
フェニルアラニン、チロシン、プロリン、ヒドロキシプ
ロリン、セリン、スレオニン、システィン、メチオニン
、トリプトファン、アスパラギン酸、グルタミン酸、ア
ルギニン、ヒスチジン、リジンなどであるα−アミノ酸
の残基である。これらのα−アミノ酸にはL体、0体、
DL体が存在するが、 本発明においてはこれらのいず
れをも含む。
更に、「α−アミノ酸残基」にはバリル−アルギニルの
ようなジペプチド基、バリル−ヒスチジル−アルギニル
のようなトリペプチド基などのオリゴペプチド基を包含
する。
ようなジペプチド基、バリル−ヒスチジル−アルギニル
のようなトリペプチド基などのオリゴペプチド基を包含
する。
R’、 R2,R”およびR6がアルキル基である場合
、例工ばメチル、エチル、プロピル、イングロビル、ブ
チル、イソブチル、S−ブチル、を−ブチル、ペンチル
、イソペンシル、ヘキシル、イノヘキシルなどの直鎖状
または分枝鎖状のアルキル基であり、好ましくは炭素数
1乃至6個の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を示す
。
、例工ばメチル、エチル、プロピル、イングロビル、ブ
チル、イソブチル、S−ブチル、を−ブチル、ペンチル
、イソペンシル、ヘキシル、イノヘキシルなどの直鎖状
または分枝鎖状のアルキル基であり、好ましくは炭素数
1乃至6個の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を示す
。
R4がアリール基である場合、 例えばフェニル、ナフ
チルであり、これらのアリール基は置換分としてメチル
、エチルのようなアルキル、クロル、ブロムのような)
・ロゲン原子、メトキシ、エトキシのようなアルコキシ
を有していてもよい。
チルであり、これらのアリール基は置換分としてメチル
、エチルのようなアルキル、クロル、ブロムのような)
・ロゲン原子、メトキシ、エトキシのようなアルコキシ
を有していてもよい。
R4およびR7がアラルキル基である場合、例えばベン
ジル、フェネチルであり、これらのアラルキル基は置換
分としてメチル、エチルのようなアルキル、クロム、ブ
ロムのようなハロゲン原子、メトキシ、エトキシのよ5
−&フルコキシを有していてもよい。
ジル、フェネチルであり、これらのアラルキル基は置換
分としてメチル、エチルのようなアルキル、クロム、ブ
ロムのようなハロゲン原子、メトキシ、エトキシのよ5
−&フルコキシを有していてもよい。
R5がアリールオキシ基である場合、例えばフェニルオ
キシ、1−ナフチルオキシ、2−ナフチルオキシであり
、これらのアリールオキシ基は置換分としてメチル、エ
チルのようなアルキル、クロル、ブロムのようなノ10
ゲン原子、メトキシ、エトキシのようなアルコキシ2有
していてもよい。
キシ、1−ナフチルオキシ、2−ナフチルオキシであり
、これらのアリールオキシ基は置換分としてメチル、エ
チルのようなアルキル、クロル、ブロムのようなノ10
ゲン原子、メトキシ、エトキシのようなアルコキシ2有
していてもよい。
前記一般式(I)を有する化合物において、好適にはX
がアラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、フェニ
ルアラニン、アルギニ7などプチド基である。
がアラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、フェニ
ルアラニン、アルギニ7などプチド基である。
R1およびR2は水素原子ぼたはメチル基であり、R3
は酸素原子であり、R4は水素原子、アルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基であである。
は酸素原子であり、R4は水素原子、アルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基であである。
本発明の一般式(I)を有する化合物の具体例としては
例えば次のような化合物を挙げることができるが、本発
明はこれらの化合物に限定されるものではない。
例えば次のような化合物を挙げることができるが、本発
明はこれらの化合物に限定されるものではない。
本発明の前記一般式(I)を有する化合物は、以下の方
法により製造される。
法により製造される。
上記式中、X、 R1,R2,R5,R’およびR5は
前述したものと同意義を示し、Yはノ・ロゲン原子を示
し、Aはアミン基の保護基を示す。
前述したものと同意義を示し、Yはノ・ロゲン原子を示
し、Aはアミン基の保護基を示す。
第一工程は前記一般式(V)を有する化合物を製造する
工程であり、前記一般式(I[)を有する化合物に塩基
の存在下でヒドラジン化合物(III)およびアルコー
ル(■)を反応させることによって得られる。
工程であり、前記一般式(I[)を有する化合物に塩基
の存在下でヒドラジン化合物(III)およびアルコー
ル(■)を反応させることによって得られる。
反応は好適には溶剤の存在下で行なわれる。
使用される層剤としては本反応に関与しなければ特に限
定はな(、例えばジクロロメタン、クロロホルムのよう
なハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類:ベンゼンのような
芳香族炭化水素類が好適である。反応は塩基の存在下で
行なわれる。使用される塩基としては例えばトリエチル
アミン、ジエチルアミンのようなアルキルアミン、N−
メチルモルホリンのような複素環アミンが好適である。
定はな(、例えばジクロロメタン、クロロホルムのよう
なハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類:ベンゼンのような
芳香族炭化水素類が好適である。反応は塩基の存在下で
行なわれる。使用される塩基としては例えばトリエチル
アミン、ジエチルアミンのようなアルキルアミン、N−
メチルモルホリンのような複素環アミンが好適である。
または前記一般式(ill)を有するヒドラジン化合物
を大過剰に用いてもよい。
を大過剰に用いてもよい。
反応は通常−10′c乃至室温で好適に行なわれる。反
応時間は反応温度等に上るが通常30分間乃至−夜であ
る。
応時間は反応温度等に上るが通常30分間乃至−夜であ
る。
前記一般式(1)および(N)を有する化合物は、加え
る順序に特に制限はないがアルコールCN)を先に加え
た方がよい結果が得られる。
る順序に特に制限はないがアルコールCN)を先に加え
た方がよい結果が得られる。
反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
単離することができる。例えば再結晶、分取用薄層クロ
マトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により精
製して、純品を得ることができる。
単離することができる。例えば再結晶、分取用薄層クロ
マトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により精
製して、純品を得ることができる。
第二工程は前記一般式(■)を有する化合物を製造する
工程であり、前記一般式(v)を有する化合物を一般式
(■)を有する化合物の反応性誘導体と縮合させること
によって得られる。
工程であり、前記一般式(v)を有する化合物を一般式
(■)を有する化合物の反応性誘導体と縮合させること
によって得られる。
前記一般式(”it)を有する化合物はアミノ基の保護
されたα−アミノ酸である。人はアミン基の保護基であ
り1%に中性条件で除去し5るものが好ましく、例えば
ベンジルオキシカルボニル、p−=)ロペンジルオキシ
カルボニル、トリクロロエトキシカルボニル、アリルオ
キシカルボニルのようなオキシカルボニル基、ベンジル
、p−ニトロベンジルのようなアリール基、アリルのよ
うな不胞和脂肪族基などをあげることができる。
されたα−アミノ酸である。人はアミン基の保護基であ
り1%に中性条件で除去し5るものが好ましく、例えば
ベンジルオキシカルボニル、p−=)ロペンジルオキシ
カルボニル、トリクロロエトキシカルボニル、アリルオ
キシカルボニルのようなオキシカルボニル基、ベンジル
、p−ニトロベンジルのようなアリール基、アリルのよ
うな不胞和脂肪族基などをあげることができる。
前記一般式(■)を有する化合物の反応性誘導体として
は例えば酸ハライド、酸無水物、活性アミド、活性エス
テルなどをあげることができる。酸ハライドとしては例
えば酸クロリド、酸プロミド等であり、酸無水物として
は例えばジアルキルりん酸混合酸無水物、フェニルりん
酸混合酸無水物、ジフェニルりん酸混合酸無水物。
は例えば酸ハライド、酸無水物、活性アミド、活性エス
テルなどをあげることができる。酸ハライドとしては例
えば酸クロリド、酸プロミド等であり、酸無水物として
は例えばジアルキルりん酸混合酸無水物、フェニルりん
酸混合酸無水物、ジフェニルりん酸混合酸無水物。
ジベンジルりん酸混合酸無水物、ジアルキル亜りん酸混
合酸無水物、硫酸混合酸無水物、亜硫酸混合酸無水物、
チオ硫酸混合酸無水物、アルキル炭酸混合酸無水物、脂
肪族カルボン酸(例えハヒハリン酸、ペンタン酸、イソ
ペンタン酸、2−エチルブタン酸、トリクロル酢酸など
)の混合酸無水物、芳香族カルボン酸(例えば安息香酸
なと−P1′合酸無水酸無水物、活性アミドとしては例
えばイミダゾール、チー置換イミダゾール、ジメチルピ
ラゾール、トリアゾール、テトラゾールなどとの酸アミ
ドであり、活性エステルとしては例えばシアンメチルエ
ステル、メトキシメチルエステル、ビニルエステル、ト
リクロロフェニルエステル、ヒラニルエステル、ヒラニ
ルエステルなどとのエステルである。
合酸無水物、硫酸混合酸無水物、亜硫酸混合酸無水物、
チオ硫酸混合酸無水物、アルキル炭酸混合酸無水物、脂
肪族カルボン酸(例えハヒハリン酸、ペンタン酸、イソ
ペンタン酸、2−エチルブタン酸、トリクロル酢酸など
)の混合酸無水物、芳香族カルボン酸(例えば安息香酸
なと−P1′合酸無水酸無水物、活性アミドとしては例
えばイミダゾール、チー置換イミダゾール、ジメチルピ
ラゾール、トリアゾール、テトラゾールなどとの酸アミ
ドであり、活性エステルとしては例えばシアンメチルエ
ステル、メトキシメチルエステル、ビニルエステル、ト
リクロロフェニルエステル、ヒラニルエステル、ヒラニ
ルエステルなどとのエステルである。
前記一般式(V)を有する化合物と前記一般式(M)を
有する化合物の反応性誘導体とを縮合させる反応は溶剤
の存在下で好適に行なわれる。
有する化合物の反応性誘導体とを縮合させる反応は溶剤
の存在下で好適に行なわれる。
使用される溶剤としては本反応に関与しない限り、特に
制限はなく例えばジクロロメタン、クロ0 ホA/ム、
1,2−ジクロロエタン(7)、]:5ナノ10ゲン化
炭化水素類ニジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類:アセトン、メチルエチ
ルケトンのようなケトン類;酢酸エチルのようなエステ
ル類ニジメチルスルホキシド:N、N−ジメチルホルム
アミド、N、N−ジメチルアセトアミドのようなアミド
類が好ましい。
制限はなく例えばジクロロメタン、クロ0 ホA/ム、
1,2−ジクロロエタン(7)、]:5ナノ10ゲン化
炭化水素類ニジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類:アセトン、メチルエチ
ルケトンのようなケトン類;酢酸エチルのようなエステ
ル類ニジメチルスルホキシド:N、N−ジメチルホルム
アミド、N、N−ジメチルアセトアミドのようなアミド
類が好ましい。
反応温度は通常0℃付近であり、反応時間は2時間乃至
24時間である。
24時間である。
本反応において前記一般式(■)を有する化合物の反応
性誘導体として酸クロリド、混合酸無水物またはオキシ
塩化リンから導かれる活性エステルを用いる場合、反応
で生成する酸を捕捉する方が反応が有利な場合は酸捕捉
剤を加えることができる。
性誘導体として酸クロリド、混合酸無水物またはオキシ
塩化リンから導かれる活性エステルを用いる場合、反応
で生成する酸を捕捉する方が反応が有利な場合は酸捕捉
剤を加えることができる。
酸捕捉剤としては、たとえばN、N−ジメチルアニリン
、N、N−シエチルアニリンモシクはトリエチルアミン
のような三級アミン;ピリジンもしくはキノリンのよう
な芳香族塩基;重炭酸ナトリウムもしくは炭酸ナトリウ
ムのような無機塩基またはプロピレンオキサイドのよう
なオキサイドがあげられる。
、N、N−シエチルアニリンモシクはトリエチルアミン
のような三級アミン;ピリジンもしくはキノリンのよう
な芳香族塩基;重炭酸ナトリウムもしくは炭酸ナトリウ
ムのような無機塩基またはプロピレンオキサイドのよう
なオキサイドがあげられる。
反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
単離することができる。例えば再結晶、分取用薄層クロ
マトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により精
製して、純品を得ることができる。
単離することができる。例えば再結晶、分取用薄層クロ
マトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により精
製して、純品を得ることができる。
第三工程は前記一般式(vn)を有する化合物のアミノ
基の保護基を除去する反応である。反応は保護基の種類
によって異なる。
基の保護基を除去する反応である。反応は保護基の種類
によって異なる。
第二工程で述べた保護基である場合、通常は遣元的脱離
方法によって除去される。反応は水、水−アルコール(
メタノール、エタノール、n−プロパツール、イソクロ
パノールなど)または水−テトラヒドロフランなどの溶
剤、あるいは好ましくはりん酸緩衝液と上記混合溶剤の
存在下で好適に行なわれる。反応は水素気流中、触媒の
存在下で行なわれる。使用される触媒としては例えばパ
ラジウム黒、パラジウム炭素、酸化白金などをあげるこ
とができる。反応温度は特に限定はないが通常は室温乃
至やや加温程度の緩和な条件が好ましい。反応時間は2
時間乃至10時間である。
方法によって除去される。反応は水、水−アルコール(
メタノール、エタノール、n−プロパツール、イソクロ
パノールなど)または水−テトラヒドロフランなどの溶
剤、あるいは好ましくはりん酸緩衝液と上記混合溶剤の
存在下で好適に行なわれる。反応は水素気流中、触媒の
存在下で行なわれる。使用される触媒としては例えばパ
ラジウム黒、パラジウム炭素、酸化白金などをあげるこ
とができる。反応温度は特に限定はないが通常は室温乃
至やや加温程度の緩和な条件が好ましい。反応時間は2
時間乃至10時間である。
反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
単離することができる。例えば再結晶、分取用薄層クロ
マトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により精
製して、純品を得ることができる。
単離することができる。例えば再結晶、分取用薄層クロ
マトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により精
製して、純品を得ることができる。
以上述べてきた本発明の前記一般式(I)を有する化合
物は表Iに示すごと(強い抗困力を有する。最小発育阻
止濃度(MIC;mcf/lxl )は サブロー培地
を用い、寒天稀釈法により3日後を測定した。
物は表Iに示すごと(強い抗困力を有する。最小発育阻
止濃度(MIC;mcf/lxl )は サブロー培地
を用い、寒天稀釈法により3日後を測定した。
表 I
以上から本発明の前記一般式(I)を有する化合物はグ
ラム陽性およびグラム隙性細菌に強い抗菌力を示す。従
ってヒトおよび動物のこれらの細菌に起因する疾病の予
防および治捩に用いられる。
ラム陽性およびグラム隙性細菌に強い抗菌力を示す。従
ってヒトおよび動物のこれらの細菌に起因する疾病の予
防および治捩に用いられる。
A:フェニルハイトロゲンホスホロ(Nτ−メチル−N
2−L−アルギニル)ヒドラジテート B:フェニルハイドロゲンホスホロ(N1−メチル−N
2−L−バリル−し−アルギニル)ヒドラジデート C:p−クロロフェニルハイドロゲンホスホロ(N1−
メチル−N2−L−アルギニル)ヒドラジデート なお、急性毒性は例えばフェニルハイドロゲンホスホロ
(N1−メチル−N2− L−アルギニル)ヒドラジデ
ートの場合、マウスに対してaooq/−以上であった
。
2−L−アルギニル)ヒドラジテート B:フェニルハイドロゲンホスホロ(N1−メチル−N
2−L−バリル−し−アルギニル)ヒドラジデート C:p−クロロフェニルハイドロゲンホスホロ(N1−
メチル−N2−L−アルギニル)ヒドラジデート なお、急性毒性は例えばフェニルハイドロゲンホスホロ
(N1−メチル−N2− L−アルギニル)ヒドラジデ
ートの場合、マウスに対してaooq/−以上であった
。
以上から本発明の前記一般式(1)を有する化合物は各
種細菌感染性疾患を対照とする抗菌剤として使用される
。その投与形態としては皮下注射、静脈内注射、筋肉注
射、受刑などによる非経口投与法または錠剤、カプセル
剤、散剤。
種細菌感染性疾患を対照とする抗菌剤として使用される
。その投与形態としては皮下注射、静脈内注射、筋肉注
射、受刑などによる非経口投与法または錠剤、カプセル
剤、散剤。
顆粒剤などによる経口投与法があげられる。投与量は対
象疾患、投与経路および投与回数などによって異なるが
、例えば成人に対して通常は1日1004乃至1gを1
回または数回に分けて投与するのが好ましい。
象疾患、投与経路および投与回数などによって異なるが
、例えば成人に対して通常は1日1004乃至1gを1
回または数回に分けて投与するのが好ましい。
次に実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、こ
れらの実施例は本発明の範囲を限定するものではない。
れらの実施例は本発明の範囲を限定するものではない。
実施例1゜
1−(1−ヒドロキシアセトキシメチル)ハイドロゲン
ホスホノ(N1−メチル−N2−L−アルギニル)ヒド
ラジデート ?) シlfk 1−(1−ベンジルオキシアセト
キシメチル)ホスホネート ジメチル1−(1,−ヒドロキシアセトキシメチル)ホ
スホネート(特開昭56−115793号) 5.89
1 (,30mmoj )およびベンジルトリクロロア
セトイミデート(Chem、 Comm、、 1240
(1980) ) 15.15 f (60mmoj
) kメチレンクロリドに溶解し、次いで触媒量のトリ
クロロメタンスルホン酸50μjを加えて室温テ1s時
間攪拌した。反応終了後、反応混合物に水を加えて攪拌
し有機層を分取した。有機層を2回水洗後無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。
ホスホノ(N1−メチル−N2−L−アルギニル)ヒド
ラジデート ?) シlfk 1−(1−ベンジルオキシアセト
キシメチル)ホスホネート ジメチル1−(1,−ヒドロキシアセトキシメチル)ホ
スホネート(特開昭56−115793号) 5.89
1 (,30mmoj )およびベンジルトリクロロア
セトイミデート(Chem、 Comm、、 1240
(1980) ) 15.15 f (60mmoj
) kメチレンクロリドに溶解し、次いで触媒量のトリ
クロロメタンスルホン酸50μjを加えて室温テ1s時
間攪拌した。反応終了後、反応混合物に水を加えて攪拌
し有機層を分取した。有機層を2回水洗後無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。
有機層より溶媒を減圧下で留去した。得られた残留物約
IL51をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィ
ーに付し、展開溶媒として20%〜104n−ヘキサン
ー酢酸エチルを用いて溶出し、10%n−ヘキサン−酢
酸エチル溶出液より溶媒を留去するとジメチル1−(1
−ベンジルオキシアセトキシ)メチルホスホネート3.
40f (収率40%)が油状物として得られた。
IL51をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィ
ーに付し、展開溶媒として20%〜104n−ヘキサン
ー酢酸エチルを用いて溶出し、10%n−ヘキサン−酢
酸エチル溶出液より溶媒を留去するとジメチル1−(1
−ベンジルオキシアセトキシ)メチルホスホネート3.
40f (収率40%)が油状物として得られた。
fil 薄層クロマトグラフィー
Rf値; 0140
吸着剤;シリカゲルG60(メルク社製)展開溶媒;n
−ヘキサン:酢酸エチル =1:4 (2)元素分析値(%) C+2H1706Pとして計
算値C,50,00: )!、 5.95 ; P、
10.75実測値C,50,32: H,6,02;
P、 10.34(3)質量分析: mlZ 289
(M+1 )(4) 核磁気共鳴スペクトル(CDC
l3.δ:ppm)3.80(3H,S) 3.81
(6H,d、 J=lIHz )4.44(IH,d、
J=19.5Hz) 4.55(IH,d。
−ヘキサン:酢酸エチル =1:4 (2)元素分析値(%) C+2H1706Pとして計
算値C,50,00: )!、 5.95 ; P、
10.75実測値C,50,32: H,6,02;
P、 10.34(3)質量分析: mlZ 289
(M+1 )(4) 核磁気共鳴スペクトル(CDC
l3.δ:ppm)3.80(3H,S) 3.81
(6H,d、 J=lIHz )4.44(IH,d、
J=19.5Hz) 4.55(IH,d。
J=12H2) 4.86(IH,d、 J=12Hz
)7.37(5H,5) 2)ベンシル ハイドロゲン 1−(1−ベンジルオキ
シアセトキシメチル)ホスホネートH 1)で得られたジメチル 1−(1−ベンジルオキシア
セトキシメチル)ホスホネート3.421 (11,9
mmoj )および沃化ナトリウム3.561(23,
7mmoJ )をアセトニトリル70g/に溶解した後
、室温で攪拌下トリメチルシリルクロリド:LO寓/を
加え1時間攪彬した。反応終了後、析出した白色固体を
遠心分離で除去した。
)7.37(5H,5) 2)ベンシル ハイドロゲン 1−(1−ベンジルオキ
シアセトキシメチル)ホスホネートH 1)で得られたジメチル 1−(1−ベンジルオキシア
セトキシメチル)ホスホネート3.421 (11,9
mmoj )および沃化ナトリウム3.561(23,
7mmoJ )をアセトニトリル70g/に溶解した後
、室温で攪拌下トリメチルシリルクロリド:LO寓/を
加え1時間攪彬した。反応終了後、析出した白色固体を
遠心分離で除去した。
反応混合物より溶媒を除去して油状物が得られた。得ら
れた油状物を水−ピリジン(2:1)15m/に浴解し
、次いで水を加え酢酸エチルで洗浄した。水層を減圧下
で濃縮するとモノピIJ Wム塩3.951 (収率9
8%)が油状物として得られた。得られたモノピリジニ
ウム塩3.90 f (11,6mmoj )をメチレ
ンクロリド70w1に溶解し塩化チオニル2.0 ml
(27,8mmoJ )を加え室温で2日間攪拌した
。
れた油状物を水−ピリジン(2:1)15m/に浴解し
、次いで水を加え酢酸エチルで洗浄した。水層を減圧下
で濃縮するとモノピIJ Wム塩3.951 (収率9
8%)が油状物として得られた。得られたモノピリジニ
ウム塩3.90 f (11,6mmoj )をメチレ
ンクロリド70w1に溶解し塩化チオニル2.0 ml
(27,8mmoJ )を加え室温で2日間攪拌した
。
次イテヘンジルアルコール2.90 ml (28,1
mmoJ )を加え室温で3時間攪拌した。反応終了後
、反応混合物より減圧下で溶媒を留去し、得られた残留
物に酢酸エチルを加え、次いで炭酸水素ナトリウム水浴
液で2回抽出した。水層を塩酸酸性(pH4〜3)とし
た後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、減圧下で抽出液より溶媒を留去すると油
状物4.5gが得られた。得られた油状物をシリカゲル
を用いたカラムクロマトグラフィーに付し展開溶媒とし
てメチレンクロリド:メタノール=20:1で精製すル
トヘンジルハイドロゲン1−(1−ベンジルオキシアセ
トキシメチル)ホスホネート2.629 (収率63%
)が油状物として得られた。
mmoJ )を加え室温で3時間攪拌した。反応終了後
、反応混合物より減圧下で溶媒を留去し、得られた残留
物に酢酸エチルを加え、次いで炭酸水素ナトリウム水浴
液で2回抽出した。水層を塩酸酸性(pH4〜3)とし
た後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、減圧下で抽出液より溶媒を留去すると油
状物4.5gが得られた。得られた油状物をシリカゲル
を用いたカラムクロマトグラフィーに付し展開溶媒とし
てメチレンクロリド:メタノール=20:1で精製すル
トヘンジルハイドロゲン1−(1−ベンジルオキシアセ
トキシメチル)ホスホネート2.629 (収率63%
)が油状物として得られた。
fil 元素分析値(4) C17H1906Pと
して計算値C,58,29: H,5,47; P、
8.84実測値C,5g、43 ; H,5,56:
P、 8.653)ベンシル 1−(1−ベンジルオキ
シアセトキシメチル)ホスホノ−N1−メチルヒドラジ
デート 2)で得られたベンジルノ・イドロゲン1−(1−ベン
ジルオキシアセトキシメチル)ホスホネート8.49
(24,0mmoJ )および塩化チオ= A/ 2.
Ovtl (28Jmmoj! )をメチレンクロリド
80s+lに溶解した後、−夜加熱還流した。次いで、
反応混合物を0℃に冷却し、メチルヒドラジン2.5
ml (48,0mmoj )を加えてそのまま30分
間攪拌した後、室温に戻し、更に30分間攪拌した。反
応混合物より溶媒を減圧下で除去し、得られた残留物に
酢酸エチルを加え0.1N塩酸で洗浄した。反応混合物
を水および飽和食塩水で洗浄し乾燥後、溶媒を減圧下で
留去し得られた油状物をシリカゲルを用いたカラムクロ
マトグラフィーに付し、展開溶媒としてメチレンクロリ
ド−メタノール(10: 1 )を用いて精製を(り返
すとベンジル 1−(1−ベンジルオキシアセトキシメ
チル)ホスホノ−N1−メチルヒドラジデート1.09
1 (収率12%)がジアステレオマー混合物として得
られた。
して計算値C,58,29: H,5,47; P、
8.84実測値C,5g、43 ; H,5,56:
P、 8.653)ベンシル 1−(1−ベンジルオキ
シアセトキシメチル)ホスホノ−N1−メチルヒドラジ
デート 2)で得られたベンジルノ・イドロゲン1−(1−ベン
ジルオキシアセトキシメチル)ホスホネート8.49
(24,0mmoJ )および塩化チオ= A/ 2.
Ovtl (28Jmmoj! )をメチレンクロリド
80s+lに溶解した後、−夜加熱還流した。次いで、
反応混合物を0℃に冷却し、メチルヒドラジン2.5
ml (48,0mmoj )を加えてそのまま30分
間攪拌した後、室温に戻し、更に30分間攪拌した。反
応混合物より溶媒を減圧下で除去し、得られた残留物に
酢酸エチルを加え0.1N塩酸で洗浄した。反応混合物
を水および飽和食塩水で洗浄し乾燥後、溶媒を減圧下で
留去し得られた油状物をシリカゲルを用いたカラムクロ
マトグラフィーに付し、展開溶媒としてメチレンクロリ
ド−メタノール(10: 1 )を用いて精製を(り返
すとベンジル 1−(1−ベンジルオキシアセトキシメ
チル)ホスホノ−N1−メチルヒドラジデート1.09
1 (収率12%)がジアステレオマー混合物として得
られた。
fil 薄層クロマトグラフィー
Rf値;0.31
吸着剤;シリカゲルG60(メルク社製)展開溶媒:メ
チレンクロリド:メタノール=25:1 (2) 元素分析値(%)C18H23N205Pと
して計算値 C,57,14; H,6,13; N、
7.40 :P、8.18 実測値 C,57,28; H,6,18; N、7.
78 ;P、8.03 (3) 核磁気共鳴スペクトA/ (CDC1t、
、δ:ppm)2.86(3H,d、 J=8.0Hz
) 2.90(3H,d。
チレンクロリド:メタノール=25:1 (2) 元素分析値(%)C18H23N205Pと
して計算値 C,57,14; H,6,13; N、
7.40 :P、8.18 実測値 C,57,28; H,6,18; N、7.
78 ;P、8.03 (3) 核磁気共鳴スペクトA/ (CDC1t、
、δ:ppm)2.86(3H,d、 J=8.0Hz
) 2.90(3H,d。
J=8.0Hz) 3.73(3H,S) 3.78C
3H,S)4.50(IH,d、 J=19.5H2)
4.44(IH,d。
3H,S)4.50(IH,d、 J=19.5H2)
4.44(IH,d。
J=12Hz) 4.60(IH,d、 J=19.5
Hz)4.61 (IH,d、 J=12Hz) 4.
71 (IH,d。
Hz)4.61 (IH,d、 J=12Hz) 4.
71 (IH,d。
J=12H2) 4.82(IH,d、 J=12Hz
)5.08(4H,d、 J=8H2) 5.76(
4H,S)7.36(10H,8) 4)ベンジル 1−(1−ベンジルオキシアセトキシメ
チル)ホスホノ−(Nt−メチル−N2−)ジ−N−ベ
ンジルオキシカルボニル−L−アルギニル)ヒドラジデ
ート トリ(N−ベンジルオキシカルボニル)−L−アルギニ
y 1.671 (2,9mmoj! )をメチレンク
ロリドに溶解し、これにトリメチルアミンおよびピバロ
イルクロリドを加えて−10〜−15℃で30分間攪拌
して混合酸無水物(トIJ (N−ベンジルオキシカル
ボニル)−L−アルギニンピバリン酸無水物)を得た。
)5.08(4H,d、 J=8H2) 5.76(
4H,S)7.36(10H,8) 4)ベンジル 1−(1−ベンジルオキシアセトキシメ
チル)ホスホノ−(Nt−メチル−N2−)ジ−N−ベ
ンジルオキシカルボニル−L−アルギニル)ヒドラジデ
ート トリ(N−ベンジルオキシカルボニル)−L−アルギニ
y 1.671 (2,9mmoj! )をメチレンク
ロリドに溶解し、これにトリメチルアミンおよびピバロ
イルクロリドを加えて−10〜−15℃で30分間攪拌
して混合酸無水物(トIJ (N−ベンジルオキシカル
ボニル)−L−アルギニンピバリン酸無水物)を得た。
得られた混合酸無水物および3)で得られたベンジル
1−(1−ベンジルオキシアセトキシメチル)ホスホノ
−N1−メチルヒドラジデー) 1.091 (2,8
mmoj )を4℃で 3日間攪拌した。反応終了後、
反応混合物にメチレンクロリドを加え、次いで2回水洗
した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
下で溶媒を留去した。得られた油状物をシリカゲルを用
いたカラムクロマトグラフィーに付し、展開溶媒として
n−ヘキサン−酢酸エチル(1:2)を用い溶出し、溶
出液より溶媒を留去するとベンジル 1−(1−ベンジ
ルオキシアセトキシメチル)ホスホノ−(Nl−メチル
−N)ソーN−ベンジルオキシカルボニル−L−アルギ
ニル)ヒドラジテート950η(収)62%)が油状物
として得られた。
1−(1−ベンジルオキシアセトキシメチル)ホスホノ
−N1−メチルヒドラジデー) 1.091 (2,8
mmoj )を4℃で 3日間攪拌した。反応終了後、
反応混合物にメチレンクロリドを加え、次いで2回水洗
した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
下で溶媒を留去した。得られた油状物をシリカゲルを用
いたカラムクロマトグラフィーに付し、展開溶媒として
n−ヘキサン−酢酸エチル(1:2)を用い溶出し、溶
出液より溶媒を留去するとベンジル 1−(1−ベンジ
ルオキシアセトキシメチル)ホスホノ−(Nl−メチル
−N)ソーN−ベンジルオキシカルボニル−L−アルギ
ニル)ヒドラジテート950η(収)62%)が油状物
として得られた。
(1) 元素分析値(%) C,8H5MN60,
2Pとして計算値 C,61,54: H,5,70:
N、 8.97 :P、3.30 実測値 c、 62.C5; H,5,62; N、
8.83 ;P、3.15 (21核磁気共鳴スペクトル (CDCl3. δ:
ppm )1.60 (4H9m) 2.85 (3
1(+ d、J==6Hz )3.60および3.74
(3H,8) 3.75 (2He m)4.3〜
4.8(3H,m) 5.08(2H,S)5.10
(2H,S) 5.20(2H,13) 7.30
(25H。
2Pとして計算値 C,61,54: H,5,70:
N、 8.97 :P、3.30 実測値 c、 62.C5; H,5,62; N、
8.83 ;P、3.15 (21核磁気共鳴スペクトル (CDCl3. δ:
ppm )1.60 (4H9m) 2.85 (3
1(+ d、J==6Hz )3.60および3.74
(3H,8) 3.75 (2He m)4.3〜
4.8(3H,m) 5.08(2H,S)5.10
(2H,S) 5.20(2H,13) 7.30
(25H。
5)1−(1−ヒドロキシアセトキシメチル)ハイドロ
ゲン ホスホノ(N1−メチル−N2−L−アルギニル
)ヒドラジデート NM w
ri3uh4)で得られたベンジル 1−(1−ペンシ
ルオキシアセトキシメチル)ホスホノ(N1−メチル−
N2−)ジ−N−ベンジルオキシカルボニル−し−アル
ギニル)ヒドラジテート741 IIgをリン酸緩衝液
(pH7)−テトラヒドロフラン(1:1)に溶解した
後、パラジウム黒74gIgを加え水素気流中5時間攪
拌した。
ゲン ホスホノ(N1−メチル−N2−L−アルギニル
)ヒドラジデート NM w
ri3uh4)で得られたベンジル 1−(1−ペンシ
ルオキシアセトキシメチル)ホスホノ(N1−メチル−
N2−)ジ−N−ベンジルオキシカルボニル−し−アル
ギニル)ヒドラジテート741 IIgをリン酸緩衝液
(pH7)−テトラヒドロフラン(1:1)に溶解した
後、パラジウム黒74gIgを加え水素気流中5時間攪
拌した。
反応終了後、反応混合物より触媒をろ去し、次いで溶媒
を減圧下で留去した。得られた残留物をpH8に調整し
、次いでダイヤイオンHP2G(三菱化成工業(力)に
付し水で展開し、20%メタノール水溶出液より溶媒を
留去すると 1−(1−ヒドロキシアセトキシメチル
)ハイドロゲンホスホノ(Nl−メチル−N2−L−ア
ルギニル)ヒドラジデート174■が白色粉末として得
られた。
を減圧下で留去した。得られた残留物をpH8に調整し
、次いでダイヤイオンHP2G(三菱化成工業(力)に
付し水で展開し、20%メタノール水溶出液より溶媒を
留去すると 1−(1−ヒドロキシアセトキシメチル
)ハイドロゲンホスホノ(Nl−メチル−N2−L−ア
ルギニル)ヒドラジデート174■が白色粉末として得
られた。
fJ) 核磁気共鳴スペクトル (D20.δ: p
pm )1.7(4H,m) 2.90(3H,d、
J=6Hz)3.20(2H,m) 15(IH,
broadのt)3.82(31(、S) 4.55
(1/2H,S)実施例2 フェニルハイドロゲンホスホロ(N1−メチル−N2−
L−アルギニル)ヒドラジテート1)フェニルベンジ
ルホスホロ−Nt−、+チルヒドラジデート ベンジルアルコール1.94 yd (18,8mmo
j )およびトリエチルアミン2.6dをメチレンクロ
リド20−に溶解し、0℃で攪拌下でフェニルホスホリ
ルジクロリド2.8dを徐々に加え、そのまま1時間攪
拌した。次いでトリエチルアミンλ6dおよびメチルヒ
ドラジン1−を順次加え、O′cで1時間攪拌した。反
応終了後、反応混合物にメチレンクロリドを加え水洗し
、次いで無水硫酸す) IJウムで乾燥した。溶媒を減
圧下で留去すると油状物4.51が得られた。得られた
油状物をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー
に付し、展開溶媒としてメチレンクロリド−メタノール
(50: 1 )を用い溶出し、溶出液より 溶媒ヲ留
去スるとフェニルベンジルホスホロ−N1−メチルヒド
ラジデート3.89 (収率6996)が油状物として
得られた。
pm )1.7(4H,m) 2.90(3H,d、
J=6Hz)3.20(2H,m) 15(IH,
broadのt)3.82(31(、S) 4.55
(1/2H,S)実施例2 フェニルハイドロゲンホスホロ(N1−メチル−N2−
L−アルギニル)ヒドラジテート1)フェニルベンジ
ルホスホロ−Nt−、+チルヒドラジデート ベンジルアルコール1.94 yd (18,8mmo
j )およびトリエチルアミン2.6dをメチレンクロ
リド20−に溶解し、0℃で攪拌下でフェニルホスホリ
ルジクロリド2.8dを徐々に加え、そのまま1時間攪
拌した。次いでトリエチルアミンλ6dおよびメチルヒ
ドラジン1−を順次加え、O′cで1時間攪拌した。反
応終了後、反応混合物にメチレンクロリドを加え水洗し
、次いで無水硫酸す) IJウムで乾燥した。溶媒を減
圧下で留去すると油状物4.51が得られた。得られた
油状物をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー
に付し、展開溶媒としてメチレンクロリド−メタノール
(50: 1 )を用い溶出し、溶出液より 溶媒ヲ留
去スるとフェニルベンジルホスホロ−N1−メチルヒド
ラジデート3.89 (収率6996)が油状物として
得られた。
fi+ 元素分析値(%)C4AH17N203Pと
して計算値 c、 57.53 : H,5,86;
N、 9.58;P、10.59 実測値 C157,38; H,5,88: N、9.
64 ;P、9.96 (2) 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3.δ:
ppm )2.80 (3H,d、 J=9Hz )
3.50 (2H,broad )5.08(2H,
d、 J=8.5H2) 7.20(5I(、S)7
.28(SH,8) 2)フェニルベンジルホスホロ(N1−メチル−N2−
ト’)N−ベンジルオキシカルボニル−L−アルギニル
)ヒドラジデート ) U (N−ベンジルオキシカルボニル)−L−アル
ギニン219119およびピバロイルクロリド55mg
から調整したトリ(N−ベンジルオキシカルボニル)−
L−アルギニンピバリン酸無水物と1)で得られたフェ
ニルベンジルホスホロ−N1−メチルヒドラジデート1
11智をメチレンクロリド中、a〜5でで2日間攪拌し
た。反応終了後1反応混合物に水を加え室温で30分間
播押した。次いでメチレンクロリド溶液を水洗後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで減圧下で留去すると油
状物的310wgが優られた。得られた油状物をシリカ
ゲルを用いたカラムクロマトグラフィーに付し、展開溶
媒としてn−へキサン−酢酸エチル(2:1)を用い浴
出し、溶出液より溶媒を留去するとフェニルベンジルホ
スホロ(Nl−メチル−N2−)IJ−N−ベンジルオ
キシカルボニル−L−アルギニル)ヒドラジデート25
2ηが油状物として得られた。
して計算値 c、 57.53 : H,5,86;
N、 9.58;P、10.59 実測値 C157,38; H,5,88: N、9.
64 ;P、9.96 (2) 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3.δ:
ppm )2.80 (3H,d、 J=9Hz )
3.50 (2H,broad )5.08(2H,
d、 J=8.5H2) 7.20(5I(、S)7
.28(SH,8) 2)フェニルベンジルホスホロ(N1−メチル−N2−
ト’)N−ベンジルオキシカルボニル−L−アルギニル
)ヒドラジデート ) U (N−ベンジルオキシカルボニル)−L−アル
ギニン219119およびピバロイルクロリド55mg
から調整したトリ(N−ベンジルオキシカルボニル)−
L−アルギニンピバリン酸無水物と1)で得られたフェ
ニルベンジルホスホロ−N1−メチルヒドラジデート1
11智をメチレンクロリド中、a〜5でで2日間攪拌し
た。反応終了後1反応混合物に水を加え室温で30分間
播押した。次いでメチレンクロリド溶液を水洗後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで減圧下で留去すると油
状物的310wgが優られた。得られた油状物をシリカ
ゲルを用いたカラムクロマトグラフィーに付し、展開溶
媒としてn−へキサン−酢酸エチル(2:1)を用い浴
出し、溶出液より溶媒を留去するとフェニルベンジルホ
スホロ(Nl−メチル−N2−)IJ−N−ベンジルオ
キシカルボニル−L−アルギニル)ヒドラジデート25
2ηが油状物として得られた。
(1) 元素分析値 (′N)CA4H47N6o、
。Pとして計算値 C,62,12: H,5,53:
N、 9.88 :P、 3.64 実測値 C,61,83; H,5,59; N、 9
.7Q :P、 3.43 (2) 核磁気共鳴スペクトル(cDc7+ 3 、
δ: ppm )17(4H,m) 2.75(3H
,d、 J:8H2)3.9C2H,m) 4.35
(LH,m) 5.2(8H,m)7.25 (20
B、 broadの5)3)ニアC二/l//’イドロ
ゲンホスホロ(N’−メチル−N2 I、−アルギニ
ル)ヒドラジデート2)テ得うレタフェニルペンジルホ
スホロ(N1−メチル−N2−トリーN−ベンジルオキ
シカルボニル−L−アルギニル)ヒドラジデー ) 2
00■を5096メタノール水溶液に溶解した後、酸化
白金約110011Iを加え水素気流中、室温で3時間
攪拌した。反応終了後、反応混合物より冷却下で減圧下
でメタノールを留去した。得られた残留物をpH8に調
整し、次いでダイヤイオン)IP20 (三菱化成工業
(株))を用いたカラムクロマトグラフィーに付し、水
洗後15〜20%メタノール水で溶出し、溶出液より溶
媒を留去し凍結乾燥に付すとフェニルハイトロゲンホス
ホロ(N1−メチル−N2−L−アルギニル)ヒドラジ
デート67■(収率79.5%)が得られた。
。Pとして計算値 C,62,12: H,5,53:
N、 9.88 :P、 3.64 実測値 C,61,83; H,5,59; N、 9
.7Q :P、 3.43 (2) 核磁気共鳴スペクトル(cDc7+ 3 、
δ: ppm )17(4H,m) 2.75(3H
,d、 J:8H2)3.9C2H,m) 4.35
(LH,m) 5.2(8H,m)7.25 (20
B、 broadの5)3)ニアC二/l//’イドロ
ゲンホスホロ(N’−メチル−N2 I、−アルギニ
ル)ヒドラジデート2)テ得うレタフェニルペンジルホ
スホロ(N1−メチル−N2−トリーN−ベンジルオキ
シカルボニル−L−アルギニル)ヒドラジデー ) 2
00■を5096メタノール水溶液に溶解した後、酸化
白金約110011Iを加え水素気流中、室温で3時間
攪拌した。反応終了後、反応混合物より冷却下で減圧下
でメタノールを留去した。得られた残留物をpH8に調
整し、次いでダイヤイオン)IP20 (三菱化成工業
(株))を用いたカラムクロマトグラフィーに付し、水
洗後15〜20%メタノール水で溶出し、溶出液より溶
媒を留去し凍結乾燥に付すとフェニルハイトロゲンホス
ホロ(N1−メチル−N2−L−アルギニル)ヒドラジ
デート67■(収率79.5%)が得られた。
(1) 核磁気共鳴スペクトル(D20.δ:ppm
)1.60(4H,m) 2.85(3H,d、 J
=8.5H1)3.05(2H,m) 3.40(I
H,m) 7.25(5H。
)1.60(4H,m) 2.85(3H,d、 J
=8.5H1)3.05(2H,m) 3.40(I
H,m) 7.25(5H。
m)
(2)〔α”]、+16.1°(C=1 、 N20
’)実施例λ フェニルハイドロゲンホスホロ(N1−メチルN2−ヒ
スチジル)ヒドラジデート 1)フェニルベンジルホスホロ(N1−メチル−N2−
シー N−ベンジルオキシカルボニルヒスチジル)ヒ
ドラジデート ヒスチジン塩酸塩5gを2N−水酸化ナトリウム水溶液
24dに溶解した後、atでカルボベンゾキシクロリド
8.6mlおよび2N−炭酸ナトリウム溶液37.5g
/を又互に5回に分けて30分間で加えた。次いで、そ
のまま0′cで30分間攪拌した。次いで、6N−塩酸
溶液を加えてpH2付近とした後、上清を分離し上清よ
り溶媒を留去することによって白色粉末が得られた。得
られた白色粉末にエタノール30−を加え溶解した後、
冷所に放置した。
’)実施例λ フェニルハイドロゲンホスホロ(N1−メチルN2−ヒ
スチジル)ヒドラジデート 1)フェニルベンジルホスホロ(N1−メチル−N2−
シー N−ベンジルオキシカルボニルヒスチジル)ヒ
ドラジデート ヒスチジン塩酸塩5gを2N−水酸化ナトリウム水溶液
24dに溶解した後、atでカルボベンゾキシクロリド
8.6mlおよび2N−炭酸ナトリウム溶液37.5g
/を又互に5回に分けて30分間で加えた。次いで、そ
のまま0′cで30分間攪拌した。次いで、6N−塩酸
溶液を加えてpH2付近とした後、上清を分離し上清よ
り溶媒を留去することによって白色粉末が得られた。得
られた白色粉末にエタノール30−を加え溶解した後、
冷所に放置した。
析出した白色粉末状のジ(N−ベンジルオキシカルボニ
ル)ヒスチジン1.36 fをメチレンクロリドに溶解
し、−5℃でトリエチルアミン0.54mおよびピパロ
イルクロリド429ηを加えて1.5時間攪拌した。次
いでこの溶液にフェニルベンジルホスホロ−N1−メチ
ルヒドラジデート940■を加え4℃で一夜攪拌した。
ル)ヒスチジン1.36 fをメチレンクロリドに溶解
し、−5℃でトリエチルアミン0.54mおよびピパロ
イルクロリド429ηを加えて1.5時間攪拌した。次
いでこの溶液にフェニルベンジルホスホロ−N1−メチ
ルヒドラジデート940■を加え4℃で一夜攪拌した。
反応終了後、反応混合物にメチレンクロリドを加え水で
2回洗浄した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、次いで減圧下で溶媒を留去すると油状物が得られた
。得られた油状物をシリカゲルを用い九カラムクロマト
グラフィーに付し、展開溶媒としてn−ヘキサン−酢酸
エチル(3: 1G ) を用い溶出し、溶出液より
溶媒を留去するとフェニルベンジルホスホロ(N1−メ
チル−N2−シーN−ベンジルオキシカルボニルヒスチ
ジル)ヒドラジデート1.21(収率53%)が油状物
として得られた。
2回洗浄した。反応混合物を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、次いで減圧下で溶媒を留去すると油状物が得られた
。得られた油状物をシリカゲルを用い九カラムクロマト
グラフィーに付し、展開溶媒としてn−ヘキサン−酢酸
エチル(3: 1G ) を用い溶出し、溶出液より
溶媒を留去するとフェニルベンジルホスホロ(N1−メ
チル−N2−シーN−ベンジルオキシカルボニルヒスチ
ジル)ヒドラジデート1.21(収率53%)が油状物
として得られた。
(1) 核磁気共鳴スヘクトA/ (CDCl3 e
δ:ppm)2.90 (3He d 、J =8
Hz ) 2−9 (2H* rr+ )4.6(I
H,m) 5.0〜5.2(6H) 6.6(IH
,broadのt) 7.Q 〜7.4(20H)8
.0(IH,5) 2)フェニルハイドロゲンホスホロ(N1−メチル−N
2−ヒスチジル)ヒドラジデートフェニルベンジルホス
ホロ(N1−メチル−N2−ジ−N−ベンジルオキシカ
ルボニルヒスチジル)ヒドラジデート280 IIg(
0,4mmoJ )をメタノール−水(1:1)混合溶
媒的7017に溶解した後、10%パラジウム−炭素2
00■を加え水素気流中、室温で6時間攪拌した。
δ:ppm)2.90 (3He d 、J =8
Hz ) 2−9 (2H* rr+ )4.6(I
H,m) 5.0〜5.2(6H) 6.6(IH
,broadのt) 7.Q 〜7.4(20H)8
.0(IH,5) 2)フェニルハイドロゲンホスホロ(N1−メチル−N
2−ヒスチジル)ヒドラジデートフェニルベンジルホス
ホロ(N1−メチル−N2−ジ−N−ベンジルオキシカ
ルボニルヒスチジル)ヒドラジデート280 IIg(
0,4mmoJ )をメタノール−水(1:1)混合溶
媒的7017に溶解した後、10%パラジウム−炭素2
00■を加え水素気流中、室温で6時間攪拌した。
反応終了後、反応混合物より減圧下で低温下でメタノー
ルを留去した。得られた残留物をダイヤイオンHP20
(三菱化成工業(株))を用いたカラムクロマトグラ
フィーに付し水洗後、10〜30%メタノール水で浴出
し、溶出液より溶媒を留去し凍結乾燥に付すとフェニル
ハイドロゲンホスホロ(N1 %チルーN2−ヒスチ
ジル)ヒドラジデート72jW(収率53.3%)が得
られた。
ルを留去した。得られた残留物をダイヤイオンHP20
(三菱化成工業(株))を用いたカラムクロマトグラ
フィーに付し水洗後、10〜30%メタノール水で浴出
し、溶出液より溶媒を留去し凍結乾燥に付すとフェニル
ハイドロゲンホスホロ(N1 %チルーN2−ヒスチ
ジル)ヒドラジデート72jW(収率53.3%)が得
られた。
(])核磁気共鳴スペクトル(D20.δ: ppm
)2.82(3H,d、 J=8Hz) 2.95(
2H,d。
)2.82(3H,d、 J=8Hz) 2.95(
2H,d。
J=7Hz) 3.86(IH,broadのt、
、T=7Hz)7.1 (5H,broadの5 )
7.8 (IH,broadのS)実施例4゜ フェニルハイトロゲンホスホロ(N’−)fルーN2−
L−バリル−I、−フルギニル)ヒドラジデート NH2−C=NH に「 1)フェニルベンジルホスホロ(N1−メチル−N2−
ベンジルオキシカルボニル−L−バリル−ジ−N−ベン
ジルオキシカルボニル−L−アルギニル)ヒドラジデー
ト C6H3C)T20CG蛋−C=■ N“−ブトキシカルボニル−ジーNG−ベンジルオキシ
カルボニル−L−アルギニンt ) IJジクロロ酸で
処理することにより、ジーN −ベンジルオキシカルボ
ニル体とした。N −ベンジルオキシカルボニル−L−
バリン86.3ηをメチレンクロリドに溶解した後、ト
リエチルアミン47.Sμlおよびインプチルクロロホ
ルメー) 33.3μ!を加え、0℃で2時間撹拌した
。
、T=7Hz)7.1 (5H,broadの5 )
7.8 (IH,broadのS)実施例4゜ フェニルハイトロゲンホスホロ(N’−)fルーN2−
L−バリル−I、−フルギニル)ヒドラジデート NH2−C=NH に「 1)フェニルベンジルホスホロ(N1−メチル−N2−
ベンジルオキシカルボニル−L−バリル−ジ−N−ベン
ジルオキシカルボニル−L−アルギニル)ヒドラジデー
ト C6H3C)T20CG蛋−C=■ N“−ブトキシカルボニル−ジーNG−ベンジルオキシ
カルボニル−L−アルギニンt ) IJジクロロ酸で
処理することにより、ジーN −ベンジルオキシカルボ
ニル体とした。N −ベンジルオキシカルボニル−L−
バリン86.3ηをメチレンクロリドに溶解した後、ト
リエチルアミン47.Sμlおよびインプチルクロロホ
ルメー) 33.3μ!を加え、0℃で2時間撹拌した
。
次いでこの浴液に上記ジーNG−ベンジルオキシカルボ
ニル−L−アルギニン15211gヲ加えて室温で一夜
攪拌した。反応終了後、反応混合物よりメチレンクロリ
ドで佃出し、抽出液を2回水洗後、乾燥し減圧下で溶媒
を留去することによって油状物が得られた。得られた油
状物をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーに
付し、展開溶媒としてメチレンクロリド−メタノール=
25:1で精製するトフェニルペンジルホスホロ(N’
−yt−y−ルーN2−ベンジルオキシカルボニル−し
−バリル−ジ−N−ベンジルオキシカルボニル−L−ア
ルギニル)ヒドラジデート89η(収率38%)が油状
物として得られた。
ニル−L−アルギニン15211gヲ加えて室温で一夜
攪拌した。反応終了後、反応混合物よりメチレンクロリ
ドで佃出し、抽出液を2回水洗後、乾燥し減圧下で溶媒
を留去することによって油状物が得られた。得られた油
状物をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーに
付し、展開溶媒としてメチレンクロリド−メタノール=
25:1で精製するトフェニルペンジルホスホロ(N’
−yt−y−ルーN2−ベンジルオキシカルボニル−し
−バリル−ジ−N−ベンジルオキシカルボニル−L−ア
ルギニル)ヒドラジデート89η(収率38%)が油状
物として得られた。
(1) 核磁気共鳴スペクト/L/ (CDCl2
.δ:ppm)0.85(6H,d、 J=6Hz)
165(4H,m)2.72 (3/2H,d、 J
=8Hz ) 2.76 (372H。
.δ:ppm)0.85(6H,d、 J=6Hz)
165(4H,m)2.72 (3/2H,d、 J
=8Hz ) 2.76 (372H。
a、 J:8I(Z) 190(31(、m) 4
.55(IH。
.55(IH。
m) 5.1 (8H,m) 7.1〜7.3(2
5H,m)2)フェニルハイドロゲンホスホロ(N’−
メチル−N2 L−ハ+)ルーシーアルギニル)ヒド
ラジデート NH2−C=庸 N■ しn3 υn 1)で得られたフェニルベンジルホスホロ(N1−メチ
ル−N2−ベンジルオキシカルボニル−し−バリル−ジ
−N−ベンジルオキシカルボニル−L−フルギニル)ヒ
ドラジテート150Jlllを50%メタノール水に溶
解した後、酸化白金1aomyを加え水素気流下で室温
で3.5時間攪拌した。
5H,m)2)フェニルハイドロゲンホスホロ(N’−
メチル−N2 L−ハ+)ルーシーアルギニル)ヒド
ラジデート NH2−C=庸 N■ しn3 υn 1)で得られたフェニルベンジルホスホロ(N1−メチ
ル−N2−ベンジルオキシカルボニル−し−バリル−ジ
−N−ベンジルオキシカルボニル−L−フルギニル)ヒ
ドラジテート150Jlllを50%メタノール水に溶
解した後、酸化白金1aomyを加え水素気流下で室温
で3.5時間攪拌した。
反応終了後、反応混合物よりメタノールを低温下で減圧
下で除去した。得られた残留物をダイヤイオンHP20
(三菱化成工業((社))に付して精製し、次いで吸着
、水洗し、次いで20%メタノール溶液で浴出する画分
を集め凍結乾燥するとフェニルハイドロゲンホスホロ(
N1−メチル−N2−L−パリルーム−アルギニル)ヒ
ドラジデー) 48 ty (収率66%)が白色粉末
として得られた。
下で除去した。得られた残留物をダイヤイオンHP20
(三菱化成工業((社))に付して精製し、次いで吸着
、水洗し、次いで20%メタノール溶液で浴出する画分
を集め凍結乾燥するとフェニルハイドロゲンホスホロ(
N1−メチル−N2−L−パリルーム−アルギニル)ヒ
ドラジデー) 48 ty (収率66%)が白色粉末
として得られた。
(1) 核磁気共鳴スペクトル (D20.δ: p
pm )0.84 (6H,d、 J=6Hz )
1.64 (5H。
pm )0.84 (6H,d、 J=6Hz )
1.64 (5H。
broad) 2.80 (3H,d、 J:8H2
) 3.08(3H,broadのt ) 4.2
4 (IH,broadのt)7.2(5H,m) 実施例5゜ p−クロロフェニルハイドロゲンホスホロ(Nl−メチ
ル−N2− L−アルギニル)ヒドラジデート 1)トリ(N−アリルオキシカルボニル)−り八h アルギニン塩酸塩1gを水−7七トン(1:1)混合溶
液10m1に溶解した後、4N−水酸化す) IJクム
水溶液でpH12〜12.5に調整した。次いで、これ
にアリルオキシカルボニルクロリド2.289を含むア
セトン溶液4.5dを0℃で徐々に加えた。反応液のp
gは12〜12.5に保つように2N−水酸化ナトリウ
ム水溶液を加えて調整した。加え終った後、そのまま約
1時間攪拌した。反応終了後、反応混合物K 2N−塩
酸溶液を加えpH7,5に 調整した。次いで反応混合
物より低温下でアセトンを留去した。次いで、残留物を
pH3,5に調整した後、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を無水硫酸す) IJウムで乾燥後、抽出液より溶媒
を留去した。得られた残留物6.51/をシリカゲルを
用いたカラムクロマトグラフィーに付し、展開溶媒とし
てメチレンクロリド−メタノール(30: 1 )を用
いて溶出し、溶出液より溶媒を留去するとトリ(N−ア
リルオキシカルボニル)−L−アルギニン約4.3 ’
i 7>f %うれた。
) 3.08(3H,broadのt ) 4.2
4 (IH,broadのt)7.2(5H,m) 実施例5゜ p−クロロフェニルハイドロゲンホスホロ(Nl−メチ
ル−N2− L−アルギニル)ヒドラジデート 1)トリ(N−アリルオキシカルボニル)−り八h アルギニン塩酸塩1gを水−7七トン(1:1)混合溶
液10m1に溶解した後、4N−水酸化す) IJクム
水溶液でpH12〜12.5に調整した。次いで、これ
にアリルオキシカルボニルクロリド2.289を含むア
セトン溶液4.5dを0℃で徐々に加えた。反応液のp
gは12〜12.5に保つように2N−水酸化ナトリウ
ム水溶液を加えて調整した。加え終った後、そのまま約
1時間攪拌した。反応終了後、反応混合物K 2N−塩
酸溶液を加えpH7,5に 調整した。次いで反応混合
物より低温下でアセトンを留去した。次いで、残留物を
pH3,5に調整した後、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を無水硫酸す) IJウムで乾燥後、抽出液より溶媒
を留去した。得られた残留物6.51/をシリカゲルを
用いたカラムクロマトグラフィーに付し、展開溶媒とし
てメチレンクロリド−メタノール(30: 1 )を用
いて溶出し、溶出液より溶媒を留去するとトリ(N−ア
リルオキシカルボニル)−L−アルギニン約4.3 ’
i 7>f %うれた。
+l) 元素分析値(%)C18H26NA08とし
て計算値 C,50,70; H,6,15: N、
13.14実測値 C,49,00; I(,5,76
: N、12.01(2) 核磁気共鳴スペクトル(
CDC13,δ:ppm)1.75(4H,m) 3
.9(2H,m) 4.6(6H,m)5.0〜5.
4(6H,m) 5.7(3H,m)(3)〔α]、
+zto° (C:1.45. cuct3)2)ビス
−p−クロロフェニルホスホロ(N1−メチル)ヒドラ
ジデート p−クロルフェニルホスホ、リルジクロリト1.2gを
メチレンクロリドに溶解した後、−5℃〜−10″Cで
トリエチルアミン5054%次いでp−クロロフェノー
ル642.8119を加え、そのまま1時間攪拌した。
て計算値 C,50,70; H,6,15: N、
13.14実測値 C,49,00; I(,5,76
: N、12.01(2) 核磁気共鳴スペクトル(
CDC13,δ:ppm)1.75(4H,m) 3
.9(2H,m) 4.6(6H,m)5.0〜5.
4(6H,m) 5.7(3H,m)(3)〔α]、
+zto° (C:1.45. cuct3)2)ビス
−p−クロロフェニルホスホロ(N1−メチル)ヒドラ
ジデート p−クロルフェニルホスホ、リルジクロリト1.2gを
メチレンクロリドに溶解した後、−5℃〜−10″Cで
トリエチルアミン5054%次いでp−クロロフェノー
ル642.8119を加え、そのまま1時間攪拌した。
次いでメチルヒドラジン460■を一5℃で加え、徐々
に0℃とした後、1時間攪拌した。反応終了後、反応混
合物にメチレンクロリドを加え水洗し、次いで無水硫酸
す) IJウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去すると
油状物1.651が得られた。
に0℃とした後、1時間攪拌した。反応終了後、反応混
合物にメチレンクロリドを加え水洗し、次いで無水硫酸
す) IJウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去すると
油状物1.651が得られた。
得られた油状物をシリカゲルを用いたフラッシュクロマ
トグラフィーに付し、展開溶媒としてメチレンクロリド
−メタノール(10G:3)を用い溶出し、溶出液より
溶媒を留去すルトヒスーp−クロロフェニルホスホロ(
N1−メチル)ヒドラジデート720■(収率59q6
)が得られた。
トグラフィーに付し、展開溶媒としてメチレンクロリド
−メタノール(10G:3)を用い溶出し、溶出液より
溶媒を留去すルトヒスーp−クロロフェニルホスホロ(
N1−メチル)ヒドラジデート720■(収率59q6
)が得られた。
fi+ 核磁気共鳴スペクトル(CDCJ、、δ:
ppm )2.98(3H,d、J=9Hz) 7
.2(8H,5)3)ビス(p−クロロフェニル)ホス
ホロ(N1−メチル−N2−)17−N−アリルオキシ
カルボニル−L−アルギニル)ヒドラジデート−P−4
0−〇シり2 1)で得られたトリ(N−アリルオキシカルボニル)−
L−アルギニy 750 N (1,76mmoj )
およびピバロイルクロリド212ηを用いてメチレンク
ロリド中−5℃でトリ(N−アリルオキシカルボニル)
−L−フルギニンピバリン酸無水物が得られた。得られ
たトリ(N−アリルオキシカルボニル)−1,−フルギ
ニンビバリン酸無水物に2)で得られた ビス−1)−
クロロフェニルホスホロ(N’−ylチル)ヒドラジデ
ート556■を加え徐々に室温に戻しそのまま2日間攪
拌した。
ppm )2.98(3H,d、J=9Hz) 7
.2(8H,5)3)ビス(p−クロロフェニル)ホス
ホロ(N1−メチル−N2−)17−N−アリルオキシ
カルボニル−L−アルギニル)ヒドラジデート−P−4
0−〇シり2 1)で得られたトリ(N−アリルオキシカルボニル)−
L−アルギニy 750 N (1,76mmoj )
およびピバロイルクロリド212ηを用いてメチレンク
ロリド中−5℃でトリ(N−アリルオキシカルボニル)
−L−フルギニンピバリン酸無水物が得られた。得られ
たトリ(N−アリルオキシカルボニル)−1,−フルギ
ニンビバリン酸無水物に2)で得られた ビス−1)−
クロロフェニルホスホロ(N’−ylチル)ヒドラジデ
ート556■を加え徐々に室温に戻しそのまま2日間攪
拌した。
反応終了後、反応混合物にメチレンクロリドを加え2回
水洗した。メチレンクロリド溶液を無水硫酸す) IJ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧下で留去すると油状物1.1
Fが得られた。
水洗した。メチレンクロリド溶液を無水硫酸す) IJ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧下で留去すると油状物1.1
Fが得られた。
得られた油状物をシリカゲルを用いたフラッシュクロマ
トグラフィーに付し、展開溶媒としてメチレンクロリド
−メタノール(SO:1)を用い溶出し、溶出液より溶
媒を留去すルトビス(p−クロロフェニル)ホスホロ(
N1−メチル−N2−トリーN−アリルオキシカルボニ
ル−L−アルギニル)ヒドラジテート620■(収率4
B%)が油状物として得られた。
トグラフィーに付し、展開溶媒としてメチレンクロリド
−メタノール(SO:1)を用い溶出し、溶出液より溶
媒を留去すルトビス(p−クロロフェニル)ホスホロ(
N1−メチル−N2−トリーN−アリルオキシカルボニ
ル−L−アルギニル)ヒドラジテート620■(収率4
B%)が油状物として得られた。
(11核磁気共鳴スペクトル(CDCJ3# δ:
ppm )1.8 (4H,m) 106 (3H,
d、 J=8Hz )3.90 (2H,m) 4.
55 (6H,m) 5.0〜5.4(6H,m)、
5.5〜6.2(3H,m) 7.2(8H+m
) 4)p−クロロフェニルノ1イドロゲンホスホロ(N1
−メチル−N2− L−アルギニル)ヒドラジデート 3)テ得うれたビス(p−クロロフェニル)ホスホロ(
N1−メチル−N2−トリーN−アリルオキシカルボニ
ル−L−アルギニル)ヒト乞 ラジデート200歓グルンクロリドー酢酸エチル(1:
1)混合浴液に溶解した後、テトラキストリフェニルホ
スフィンパラジウム(0)約5011g、トリフェニル
ホスフィン111119および2−エチルヘキサン酸1
88Mgを加えて痙温で1.5時間攪拌した。反応終了
後、反応混合物を0℃に冷却し、水4 mlおよび酢酸
エチルを加えて10分間攪拌した。次いで0.1 M
IJン酸緩衝液を加えた後、水層を分離した。水層を酢
酸エチルで洗浄後、CM−セファデックス約2011t
に付し、0.02Mリン酸緩衝液100dで洗浄し、次
いで0.05 M IJン酸緩衝液、0.1Mリン酸緩
衝液、0.2MIJン酸緩衝液および食塩水で順次展開
した。活性画分を集め、ダイヤイオンHP20(三菱化
成工業(株))を用い50%メタノール水で溶出し、溶
出液を凍結乾燥に付すとp−クロロフェニルノ・イドロ
ゲンホスホロ(N1−メチル−N2− L−アルギニル
)ヒドラジデート54 m9(収率53%)が得られた
。
ppm )1.8 (4H,m) 106 (3H,
d、 J=8Hz )3.90 (2H,m) 4.
55 (6H,m) 5.0〜5.4(6H,m)、
5.5〜6.2(3H,m) 7.2(8H+m
) 4)p−クロロフェニルノ1イドロゲンホスホロ(N1
−メチル−N2− L−アルギニル)ヒドラジデート 3)テ得うれたビス(p−クロロフェニル)ホスホロ(
N1−メチル−N2−トリーN−アリルオキシカルボニ
ル−L−アルギニル)ヒト乞 ラジデート200歓グルンクロリドー酢酸エチル(1:
1)混合浴液に溶解した後、テトラキストリフェニルホ
スフィンパラジウム(0)約5011g、トリフェニル
ホスフィン111119および2−エチルヘキサン酸1
88Mgを加えて痙温で1.5時間攪拌した。反応終了
後、反応混合物を0℃に冷却し、水4 mlおよび酢酸
エチルを加えて10分間攪拌した。次いで0.1 M
IJン酸緩衝液を加えた後、水層を分離した。水層を酢
酸エチルで洗浄後、CM−セファデックス約2011t
に付し、0.02Mリン酸緩衝液100dで洗浄し、次
いで0.05 M IJン酸緩衝液、0.1Mリン酸緩
衝液、0.2MIJン酸緩衝液および食塩水で順次展開
した。活性画分を集め、ダイヤイオンHP20(三菱化
成工業(株))を用い50%メタノール水で溶出し、溶
出液を凍結乾燥に付すとp−クロロフェニルノ・イドロ
ゲンホスホロ(N1−メチル−N2− L−アルギニル
)ヒドラジデート54 m9(収率53%)が得られた
。
fi+ 核磁気共鳴スペクトル(D20 、δ: p
pm )1.8(4H,m) 3.0(3H,d、
J=8Hz)3.22(2H,m) &50 (IH
,m)7.22(21(、d、J=10H2) 7.
46(2H,d。
pm )1.8(4H,m) 3.0(3H,d、
J=8Hz)3.22(2H,m) &50 (IH
,m)7.22(21(、d、J=10H2) 7.
46(2H,d。
J=10Hz)
実施例1乃至5と同様に実施して、以下の化合物が得ら
れた。
れた。
実施例6゜
1−(1−ヒドロキシアセトキシメチル)ノーイドロゲ
ンホスホノ(N1−メチル−N2− L −インロイシ
ル)ヒドラジデート !11 核磁気共鳴スペクトル(D20.δ:ppm
)0.7〜0.85 (6H,2ケのbroadの8)
1.3(3H。
ンホスホノ(N1−メチル−N2− L −インロイシ
ル)ヒドラジデート !11 核磁気共鳴スペクトル(D20.δ:ppm
)0.7〜0.85 (6H,2ケのbroadの8)
1.3(3H。
m) 2.85(3H,d、 J=8Hz) 3.
84(IH,m)3.90(3H,S) 5.35(
IH,d、 J=18Hz)実施例乙 1−(1−ヒドロキシアセトキシメチル)ハイドロゲン
ホスホノ(N1−メチル−N2−L−ロイシル)ヒドラ
ジデート +l) 核磁気共鳴スペクトル (neo、δ: p
pm )0.8 (6H,d、 J=6Hz ) 1
.35 (3H,m)2.90(3I(、d、 J=
8Hz ) 3.80 (IH,m)19G (3
H,s) 5.34 (IH,d、 J=18H2)
実施例日。
84(IH,m)3.90(3H,S) 5.35(
IH,d、 J=18Hz)実施例乙 1−(1−ヒドロキシアセトキシメチル)ハイドロゲン
ホスホノ(N1−メチル−N2−L−ロイシル)ヒドラ
ジデート +l) 核磁気共鳴スペクトル (neo、δ: p
pm )0.8 (6H,d、 J=6Hz ) 1
.35 (3H,m)2.90(3I(、d、 J=
8Hz ) 3.80 (IH,m)19G (3
H,s) 5.34 (IH,d、 J=18H2)
実施例日。
1−(1−ヒドロキシアセトキシメチル)ハイドロゲン
ホスホノ(N1−メチル−N2− L−7’ロリル)ヒ
ドラジデート (1) 核磁気共鳴スペクトル (I)2o、δ:p
pm)2.0〜14 (4H,m) 2.95 (3
H,d、 J=8Hz)3.0(1H,m) 3.5
0(2H,t、 J=6Hz)3.90(3H,S) 実施例9゜ 1−(1−ヒドロキシアセトキシメチル)ハイドロゲン
ホスホノ(N1−メチル−N2− I、 −アスパラギ
ル)ヒドラジデート (1) 核磁気共鳴スペクトル (D20. δ:
ppm )2.8(2H,m) 2.95(3H,d
、 J:6Hz)3.88(3H,S) 4.30(
IH,m) 5.32(IH。
ホスホノ(N1−メチル−N2− L−7’ロリル)ヒ
ドラジデート (1) 核磁気共鳴スペクトル (I)2o、δ:p
pm)2.0〜14 (4H,m) 2.95 (3
H,d、 J=8Hz)3.0(1H,m) 3.5
0(2H,t、 J=6Hz)3.90(3H,S) 実施例9゜ 1−(1−ヒドロキシアセトキシメチル)ハイドロゲン
ホスホノ(N1−メチル−N2− I、 −アスパラギ
ル)ヒドラジデート (1) 核磁気共鳴スペクトル (D20. δ:
ppm )2.8(2H,m) 2.95(3H,d
、 J:6Hz)3.88(3H,S) 4.30(
IH,m) 5.32(IH。
d、J=2QHz)
実施例10゜
アセトキシメチルハイドロゲンホスホノ(N1−メチル
−N2−L−アルギニル)ヒドラジデート fil 核磁気共鳴スペクトル (I)2o、 δ
:ppm)1.65(4H,m) 2.110(3H
,d、 J=8Hz)2.90(2H,d、 J=18
Hz) 3.2DC2H,m)実施例11゜ アセトキシメチルハイドロゲンホスホノ(N2−メチル
−N2−L−アルギニル)ヒドラジデート (1) 核磁気共鳴スペクトル(D20 、 δ:
ppm )1.75(4H,m) 2.90(2H,
d、J=18Hz)3.18(3H,S) 3.20
(2H,m)3.65(3H,s) 実施例12゜ フェニルハイドロゲンホスホロ(N1−メチル−N2−
L−インロイシル)ヒドラジデート(1)核磁気共鳴ス
ペクトル(D20 sδ: ppm )0.7〜0.8
(6I(、2ケのbroadの8) 1.20(3
H。
−N2−L−アルギニル)ヒドラジデート fil 核磁気共鳴スペクトル (I)2o、 δ
:ppm)1.65(4H,m) 2.110(3H
,d、 J=8Hz)2.90(2H,d、 J=18
Hz) 3.2DC2H,m)実施例11゜ アセトキシメチルハイドロゲンホスホノ(N2−メチル
−N2−L−アルギニル)ヒドラジデート (1) 核磁気共鳴スペクトル(D20 、 δ:
ppm )1.75(4H,m) 2.90(2H,
d、J=18Hz)3.18(3H,S) 3.20
(2H,m)3.65(3H,s) 実施例12゜ フェニルハイドロゲンホスホロ(N1−メチル−N2−
L−インロイシル)ヒドラジデート(1)核磁気共鳴ス
ペクトル(D20 sδ: ppm )0.7〜0.8
(6I(、2ケのbroadの8) 1.20(3
H。
m) 2.90(3m(、d、 J:8H2) 3
.80(IH,d。
.80(IH,d。
J:8H2) 7.20(5H,m)実施例13゜
フェニルハイトロゲンホスホロ(N1−メチル−N2−
L−フェニルアラニル−L−フルギニル)ヒドラジデー
ト (1) 核磁気共鳴スペクトル (D20. δ:
ppm)1.50(4H,m) 2.80(3H,d
、J=8I(z)2.90(4H,m) 3.64(
1)1.m)4、Hl(IH,m) 7.0〜7.4
(IOH,m)実施例14゜ フェニルハイトロゲンホスホロ(N1−メチル−N2−
L−イソロイシル−L−アルギニル)ヒドラジデート (11核磁気共鳴スペクトル (D20. δ:pp
m)0.80および0.88(6H,m) L、5
(7H,m)2.81(3H,d、 J:8H2)
s、a 〜3.2(3H,m)7.0〜7.5 (5H
,m) 実施例15゜ フェニルハイドロゲンホスホロ(N1−メチル−N2〜
L−ヒスチジル−L−アルギニル)ヒドラジデート (1) 核磁気共鳴スペクトル(D20 、δ:pp
m)1.7(4H,m) 2.92(3H,d、 J
=8Hz)3.0(2H,m) 15〜3.9(2H
,m) 4.1〜4.4(2H,m) 7.3(6
)i、 m) 7.80(IH。
L−フェニルアラニル−L−フルギニル)ヒドラジデー
ト (1) 核磁気共鳴スペクトル (D20. δ:
ppm)1.50(4H,m) 2.80(3H,d
、J=8I(z)2.90(4H,m) 3.64(
1)1.m)4、Hl(IH,m) 7.0〜7.4
(IOH,m)実施例14゜ フェニルハイトロゲンホスホロ(N1−メチル−N2−
L−イソロイシル−L−アルギニル)ヒドラジデート (11核磁気共鳴スペクトル (D20. δ:pp
m)0.80および0.88(6H,m) L、5
(7H,m)2.81(3H,d、 J:8H2)
s、a 〜3.2(3H,m)7.0〜7.5 (5H
,m) 実施例15゜ フェニルハイドロゲンホスホロ(N1−メチル−N2〜
L−ヒスチジル−L−アルギニル)ヒドラジデート (1) 核磁気共鳴スペクトル(D20 、δ:pp
m)1.7(4H,m) 2.92(3H,d、 J
=8Hz)3.0(2H,m) 15〜3.9(2H
,m) 4.1〜4.4(2H,m) 7.3(6
)i、 m) 7.80(IH。
broadのS)
実施例16゜
p−メトキシフェニルハイドロゲンホスホロ(N1−メ
チル−N2−L−アルギニル)ヒドラジデート fi+ 核磁気共鳴スペクトル (I)2o、δ:
ppm )1.8(4H,m) 2.92(3)1.
d、 J=8H2)3.0 (2H,broadのt
) 3.5 (IH,m) 3.72(3H,S
)6.74(2H,d、J=9Hz) 7.14(2
)(I d+ J =sHz )実施例17゜ 0−クロロフェニルハイドロゲンホスホロ(N1−メチ
ル−N2− L−アルギニル)ヒドラジデート (1) 核磁気共鳴スペクトル (D20. δ:
ppm)1.8(4H,m) 3.05(3H,d、
J=8H2) 3.20(2H,m) 3.55
(IH,broadのt) 7.1〜7.7(4H,
m) (N1−メチル−N” −L−アルギニル)ヒドラジデ
ート fxl 核磁気共鳴スペクトル(D20 、δ:pp
m)1.75(4H,m) 3.0(3H,d、 J
=8Hz)3.25 (2H,broadのt )
3.55(IH,m)7.1〜7.3 (4H,m)
チル−N2−L−アルギニル)ヒドラジデート fi+ 核磁気共鳴スペクトル (I)2o、δ:
ppm )1.8(4H,m) 2.92(3)1.
d、 J=8H2)3.0 (2H,broadのt
) 3.5 (IH,m) 3.72(3H,S
)6.74(2H,d、J=9Hz) 7.14(2
)(I d+ J =sHz )実施例17゜ 0−クロロフェニルハイドロゲンホスホロ(N1−メチ
ル−N2− L−アルギニル)ヒドラジデート (1) 核磁気共鳴スペクトル (D20. δ:
ppm)1.8(4H,m) 3.05(3H,d、
J=8H2) 3.20(2H,m) 3.55
(IH,broadのt) 7.1〜7.7(4H,
m) (N1−メチル−N” −L−アルギニル)ヒドラジデ
ート fxl 核磁気共鳴スペクトル(D20 、δ:pp
m)1.75(4H,m) 3.0(3H,d、 J
=8Hz)3.25 (2H,broadのt )
3.55(IH,m)7.1〜7.3 (4H,m)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有するアミノ酸ホスホロヒドラジデート誘導体。 式中、Xはα−アミノ酸残基を示し、R^1は水素原子
またはアルキル基を示し、R^2は水素原子またはアル
キル基を示し、R^3は酸素原子または硫黄原子を示し
、R^4は水素原子、アルキル基、アリール基またはア
ラルキル基を示し、R^5はアリールオキシ基または▲
数式、化学式、表等があります▼(R^6は水素原子ま
たはアルキル基を示し、R^7は水素原子またはアラル
キル基を示す。)を示す。 但し、Xがアルギニル基またはバリル−アルギニル基を
示し、R^1が水素原子を示し、R^2がメチル基を示
し、R^3が酸素原子を示し、R^4が水素原子を示し
、R^5が▲数式、化学式、表等があります▼を示す 化合物を除く。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61280289A JPS63132896A (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | アミノ酸ホスホロヒドラジデ−ト誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61280289A JPS63132896A (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | アミノ酸ホスホロヒドラジデ−ト誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63132896A true JPS63132896A (ja) | 1988-06-04 |
Family
ID=17622913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61280289A Pending JPS63132896A (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | アミノ酸ホスホロヒドラジデ−ト誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63132896A (ja) |
-
1986
- 1986-11-25 JP JP61280289A patent/JPS63132896A/ja active Pending
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