JPS63137427A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPS63137427A JPS63137427A JP28462686A JP28462686A JPS63137427A JP S63137427 A JPS63137427 A JP S63137427A JP 28462686 A JP28462686 A JP 28462686A JP 28462686 A JP28462686 A JP 28462686A JP S63137427 A JPS63137427 A JP S63137427A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- susceptor
- shaft
- rotated
- etching
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体製造装置、特に反応性イオンエツチング
（ＲＩＢ）装置のエツチング速度の均一性を図る装置で
ある。
（ＲＩＢ）装置のエツチング速度の均一性を図る装置で
ある。
従来、この種の反応性イオンエツチング（ＲＩＥ）装置
は第２図に示すように反応容器１３内の上部に電源１５
に接続した電極１４が設置され、その下部にサセプター
軸１２を中心に回動するサセプター１０が電極１４と向
き合せに設置され、サセプター１０の表面には同一円周
上に配列したウェーハ１１を受は入れる凹部１０ａ、
１０ａ・・・が設けられており、サセプター１０の凹部
１０ａ内にウェーハ１１を収容して該サセプターを一定
方向に回転させながらエツチングを行っている。１６は
ウェーハ１１を加熱するヒーターである。
は第２図に示すように反応容器１３内の上部に電源１５
に接続した電極１４が設置され、その下部にサセプター
軸１２を中心に回動するサセプター１０が電極１４と向
き合せに設置され、サセプター１０の表面には同一円周
上に配列したウェーハ１１を受は入れる凹部１０ａ、
１０ａ・・・が設けられており、サセプター１０の凹部
１０ａ内にウェーハ１１を収容して該サセプターを一定
方向に回転させながらエツチングを行っている。１６は
ウェーハ１１を加熱するヒーターである。
上述した従来の反応性イオン（ＲＩＥ）装置ではサセプ
ター１０は回転するが、ウェーハ１１はサセプター１０
上にて自転しないため、ウェーハの向きはエツチング中
一定となっている。ところで反応容器内でエツチングガ
ス濃度の分布に差があるため、同一面内でエツチング速
度を比較した場合に、サセプター外周部側のウェーハの
エツチング速度の方がサセプターの軸側のウェーハのエ
ツチング速度よりも速くなるため、同一面内の外周部側
ではオーバーエッチによる配線細りゃ下地に損傷を与え
ることが起こるという欠点がある。
ター１０は回転するが、ウェーハ１１はサセプター１０
上にて自転しないため、ウェーハの向きはエツチング中
一定となっている。ところで反応容器内でエツチングガ
ス濃度の分布に差があるため、同一面内でエツチング速
度を比較した場合に、サセプター外周部側のウェーハの
エツチング速度の方がサセプターの軸側のウェーハのエ
ツチング速度よりも速くなるため、同一面内の外周部側
ではオーバーエッチによる配線細りゃ下地に損傷を与え
ることが起こるという欠点がある。
本発明の目的はウェーハ面内のエツチング速度を均一に
する半導体製造装置を提供することにある。
する半導体製造装置を提供することにある。
上述した従来の反応性イオンエツチング（ＲＩＩＩり装
置に対し、本発明はサセプターを回転させるのと同時に
サセプター内部のウェーハ部トレーをサセプターの回転
方向と逆方向に回転させることにより、同一ウェーハ面
内でのエツチングガス濃度分布を一様にして面内のエツ
チング速度のばらつきを小さくし、外周部側での配線細
りゃ下地の損傷を防止するという独創的内容を有する。
置に対し、本発明はサセプターを回転させるのと同時に
サセプター内部のウェーハ部トレーをサセプターの回転
方向と逆方向に回転させることにより、同一ウェーハ面
内でのエツチングガス濃度分布を一様にして面内のエツ
チング速度のばらつきを小さくし、外周部側での配線細
りゃ下地の損傷を防止するという独創的内容を有する。
本発明は反応容器内にてウェーハを反応性イオンエツチ
ング処理する半導体製造装置において、前記反応容器内
にサセプターを回転可能に設置し、ウェーハを個々に保
持する複数個のトレーを同一円周上に配列し該トレーを
前記サセプター上に。
ング処理する半導体製造装置において、前記反応容器内
にサセプターを回転可能に設置し、ウェーハを個々に保
持する複数個のトレーを同一円周上に配列し該トレーを
前記サセプター上に。
該サセプターと別個独立に回転可能に設けたことを特徴
とする半導体製造装置である。
とする半導体製造装置である。
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
第１図において、反応容器６内の上部に電源８に接続さ
れた電極７を設置し、その下部にサセプター軸４を中心
に回転するサセプター１を電極７と向き合せに設置する
。サセプター１上の同一円上に配列して形成された各凹
部１ａの底部に貫通孔１ｂを設け、トレー３のトレー軸
５を貫通孔１ｂに通して該トレー３をサセプター１の凹
部１ａ内に回転可能に収容し、トレー３のトレー軸５に
、サセプター１と別個独立に回転駆動する駆動部９を連
動させる。１９はトレー軸５との接触を避けて設置した
ウェーハ加熱用ヒーターである。
れた電極７を設置し、その下部にサセプター軸４を中心
に回転するサセプター１を電極７と向き合せに設置する
。サセプター１上の同一円上に配列して形成された各凹
部１ａの底部に貫通孔１ｂを設け、トレー３のトレー軸
５を貫通孔１ｂに通して該トレー３をサセプター１の凹
部１ａ内に回転可能に収容し、トレー３のトレー軸５に
、サセプター１と別個独立に回転駆動する駆動部９を連
動させる。１９はトレー軸５との接触を避けて設置した
ウェーハ加熱用ヒーターである。
実施例において、各トレー２にエツチングを行うウェー
ハ３を置き、サセプター軸４を一定の方向、例えば時計
回りの方向へ回転させると同時にトレー軸５を前述のサ
セプター軸４と逆の回転方向、すなわち、反時計回りの
方向へ回転させ、エツチングを開始する。
ハ３を置き、サセプター軸４を一定の方向、例えば時計
回りの方向へ回転させると同時にトレー軸５を前述のサ
セプター軸４と逆の回転方向、すなわち、反時計回りの
方向へ回転させ、エツチングを開始する。
（発明の効果〕
以上説明したように本発明は反応性イオンエツチング（
ＲＩＥ）装置において、サセプタ一部を回転させるのと
同時にサセプタ一部内のウェーへ部トレーをその回転方
向と逆方向に回転させてエツチングを行うことにより、
ウェーハ面内のエツチングガス濃度分布が一様となりウ
ェーハの面内のエツチング速度が均一となるため、ウェ
ーハ面内ならびにウェーハ間のエツチングばらつきを小
さくすることができる効果がある。
ＲＩＥ）装置において、サセプタ一部を回転させるのと
同時にサセプタ一部内のウェーへ部トレーをその回転方
向と逆方向に回転させてエツチングを行うことにより、
ウェーハ面内のエツチングガス濃度分布が一様となりウ
ェーハの面内のエツチング速度が均一となるため、ウェ
ーハ面内ならびにウェーハ間のエツチングばらつきを小
さくすることができる効果がある。
第１図は本発明の反応性イオンエツチング装置の断面図
、第２図は従来の反応性イオンエツチング装置の断面図
である。 １・・・サセプター ２・・・ウェーハ３・・
・トレー ４・・・サセプター軸５・・・
トレー軸 ６・・・反応容器７・・・電極
８・・・電源１６・・・ヒーター 第１図
、第２図は従来の反応性イオンエツチング装置の断面図
である。 １・・・サセプター ２・・・ウェーハ３・・
・トレー ４・・・サセプター軸５・・・
トレー軸 ６・・・反応容器７・・・電極
８・・・電源１６・・・ヒーター 第１図
Claims (1)
- （１）反応容器内にてウェーハを反応性イオンエッチン
グ処理する半導体製造装置において、前記反応容器内に
サセプターを回転可能に設置し、ウェーハを個々に保持
する複数個のトレーを同一円周上に配列し該トレーを前
記サセプター上に、該サセプターと別個独立に回転可能
に設けたことを特徴とする半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28462686A JPS63137427A (ja) | 1986-11-29 | 1986-11-29 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28462686A JPS63137427A (ja) | 1986-11-29 | 1986-11-29 | 半導体製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63137427A true JPS63137427A (ja) | 1988-06-09 |
Family
ID=17680898
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28462686A Pending JPS63137427A (ja) | 1986-11-29 | 1986-11-29 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63137427A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04342126A (ja) * | 1991-05-17 | 1992-11-27 | Nec Corp | ドライエッチング装置 |
| US5496977A (en) * | 1992-06-30 | 1996-03-05 | Sega Enterprises, Ltd. | Multiple circuit switch with improved multiposition for joypad actuator |
| US5498843A (en) * | 1992-06-30 | 1996-03-12 | Sega Enterprises, Ltd. | Control key multiple electrical contact switching device |
| US5525770A (en) * | 1992-07-31 | 1996-06-11 | Sega Enterprises, Ltd. | Control-key mechanism having improved operation feeling |
| KR100489189B1 (ko) * | 2002-01-14 | 2005-05-11 | 주성엔지니어링(주) | 서셉터 구조물 |
-
1986
- 1986-11-29 JP JP28462686A patent/JPS63137427A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04342126A (ja) * | 1991-05-17 | 1992-11-27 | Nec Corp | ドライエッチング装置 |
| US5496977A (en) * | 1992-06-30 | 1996-03-05 | Sega Enterprises, Ltd. | Multiple circuit switch with improved multiposition for joypad actuator |
| US5498843A (en) * | 1992-06-30 | 1996-03-12 | Sega Enterprises, Ltd. | Control key multiple electrical contact switching device |
| US5525770A (en) * | 1992-07-31 | 1996-06-11 | Sega Enterprises, Ltd. | Control-key mechanism having improved operation feeling |
| USRE36349E (en) * | 1992-07-31 | 1999-10-26 | Sega Enterprises | Control-key mechanism having improved operation feeling |
| USRE36738E (en) * | 1992-07-31 | 2000-06-20 | Sega Enterprises, Ltd. | Selective multiple position switch with common pivoted operator |
| KR100489189B1 (ko) * | 2002-01-14 | 2005-05-11 | 주성엔지니어링(주) | 서셉터 구조물 |
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