JPS63139634A - 静電チヤツク - Google Patents
静電チヤツクInfo
- Publication number
- JPS63139634A JPS63139634A JP61285468A JP28546886A JPS63139634A JP S63139634 A JPS63139634 A JP S63139634A JP 61285468 A JP61285468 A JP 61285468A JP 28546886 A JP28546886 A JP 28546886A JP S63139634 A JPS63139634 A JP S63139634A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrostatic chuck
- pulse
- electrode
- voltage
- resistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は静電チャックに係り、特にウェハを載置するト
レーに形成された静電チャックへの電源配線の接触状態
の良否を確認することを可能とした静電チャックに関す
る。
レーに形成された静電チャックへの電源配線の接触状態
の良否を確認することを可能とした静電チャックに関す
る。
（従来の技術）
従来から、ドライエツチング装置等の真空処理装置にお
いては、ウェハの処理を行なう際に、水冷放電電極にウ
ェハを密着させてウェハの冷却効率を高める手段として
、静電チャックが多く用いられている。
いては、ウェハの処理を行なう際に、水冷放電電極にウ
ェハを密着させてウェハの冷却効率を高める手段として
、静電チャックが多く用いられている。
上記静電チャックは、ウェハが固定される水冷放電電極
に、誘電体等の絶縁膜により被覆された静電チャック用
電極を接着し、この静電チャック用電極に直流電圧を印
加することによりウェハを静電的に固定するものである
。
に、誘電体等の絶縁膜により被覆された静電チャック用
電極を接着し、この静電チャック用電極に直流電圧を印
加することによりウェハを静電的に固定するものである
。
（発明が解決しようとする問題点）
ここで、発明者らは、放電が安定し均一なエツチングを
行なうことができることから、放電電極を真空容器の下
方に配置し、この電極の上面に、ウェハを載置したトレ
ーを密着させてエツチングを行なうドライエツチング装
置を開発した。このトレーには、ウェハを固定するため
の静電チャッりが形成されており、このトレーは搬送装
置により送られて上記放電電極の上面に載置され、放電
電極に露出して取付けられた電源の端子に静電チャック
の電極を接触させることにより、上記静電チャックの電
極に電圧を供給できるようにしている。
行なうことができることから、放電電極を真空容器の下
方に配置し、この電極の上面に、ウェハを載置したトレ
ーを密着させてエツチングを行なうドライエツチング装
置を開発した。このトレーには、ウェハを固定するため
の静電チャッりが形成されており、このトレーは搬送装
置により送られて上記放電電極の上面に載置され、放電
電極に露出して取付けられた電源の端子に静電チャック
の電極を接触させることにより、上記静電チャックの電
極に電圧を供給できるようにしている。
しかし、上記端子と静電チャックの電極とが完全に接触
していない場合や、静電チャックの誘電体膜が破損した
場合等には、ウェハを確実に保持した状態でエツチング
を行なうことができなくなるという問題を有しており、
このような端子の接触不良等を確認する手段はなかった
。
していない場合や、静電チャックの誘電体膜が破損した
場合等には、ウェハを確実に保持した状態でエツチング
を行なうことができなくなるという問題を有しており、
このような端子の接触不良等を確認する手段はなかった
。
本発明は上記した点に鑑みてなされたもので、静電チャ
ックの電源端子の接触状態を確認することのできる静電
チャックを提供することを目的とするものである。
ックの電源端子の接触状態を確認することのできる静電
チャックを提供することを目的とするものである。
（問題点を解決するための手段）
上記目的を達成するため本発明に係る静電チャックは、
誘電体膜で被覆された電極に直流電圧を印加する回路の
途中に接続された抵抗と、この抵抗に流れる電流に比例
した電圧と基準電圧とを比較して上記電圧が基準電圧よ
り高い場合にパルスを出力する比較演算器と、上記パル
スの幅を大きくして制御回路に出力する波形成形回路と
を設けて構成されている。
誘電体膜で被覆された電極に直流電圧を印加する回路の
途中に接続された抵抗と、この抵抗に流れる電流に比例
した電圧と基準電圧とを比較して上記電圧が基準電圧よ
り高い場合にパルスを出力する比較演算器と、上記パル
スの幅を大きくして制御回路に出力する波形成形回路と
を設けて構成されている。
（作 用）
本発明によれば、静電チャックに電圧を印加した瞬間、
上記抵抗に電流が流れ、この電流に比例した電圧と基準
電圧とを比較演算器により比較し、上記電圧が基準電圧
より高い場合にパルスを発生させる。すなわち、静電チ
ャックの電極と電線との接触が良好であれば、電流が流
れるためパルスが出力され、接触が不良であれば、確実
に電流が流れないためパルスが出力されないことになる
ことから接触状態の良否を検出できるものである。
上記抵抗に電流が流れ、この電流に比例した電圧と基準
電圧とを比較演算器により比較し、上記電圧が基準電圧
より高い場合にパルスを発生させる。すなわち、静電チ
ャックの電極と電線との接触が良好であれば、電流が流
れるためパルスが出力され、接触が不良であれば、確実
に電流が流れないためパルスが出力されないことになる
ことから接触状態の良否を検出できるものである。
また、静電チャックの誘電体膜が破損した場合には、電
流が連続的に流れることになるため、連続したパルスが
出力され、これにより、誘電体膜の破損を検出すること
ができるものである。
流が連続的に流れることになるため、連続したパルスが
出力され、これにより、誘電体膜の破損を検出すること
ができるものである。
さらに、この出力パルスは、極めて短かくこのままでは
制御回路でパルスを検出することができないので、波形
成形回路によりパルスの幅を大きくして、制御回路に出
力するようにしている。
制御回路でパルスを検出することができないので、波形
成形回路によりパルスの幅を大きくして、制御回路に出
力するようにしている。
（実施例）
以下、本発明の実施例を第１図および第２図を参照して
説明する。
説明する。
第１図は本発明の一実施例を示したもので、水冷電極１
の上面には、図示しない搬送装置により搬送されるトレ
ー２が載置されており、このトレー２の上面および下面
には、それぞれ誘電体膜３で被覆された静電チャックの
電極４が貼着されている。この電極４はトレー２の中心
を貫通して接続されるとともに、下面側の電極４の中央
部は露出されている。また、上記水冷電極１の中心には
、電源回路５に接続された電線６が絶縁して挿通されて
おり、この電線６の先端部は、上記露出した電極４に接
触するように水冷電極１の上面に露出している。
の上面には、図示しない搬送装置により搬送されるトレ
ー２が載置されており、このトレー２の上面および下面
には、それぞれ誘電体膜３で被覆された静電チャックの
電極４が貼着されている。この電極４はトレー２の中心
を貫通して接続されるとともに、下面側の電極４の中央
部は露出されている。また、上記水冷電極１の中心には
、電源回路５に接続された電線６が絶縁して挿通されて
おり、この電線６の先端部は、上記露出した電極４に接
触するように水冷電極１の上面に露出している。
また、上記電源回路５は、直流電源７を有しており、こ
の電源回路５および上記水冷電極１はそれぞれアースさ
れている。さらに、この電源回路５の途中には、抵抗８
が接続されるとともに、この抵抗８に流れる電流に比例
した電圧と、可変自在な基準電圧とを比較して上記電圧
が基準電圧より高い場合にパルスを出力する比較演算器
９が接続されている。この比較演算器９には、この比較
、演算器９から出力されるパルスの幅を太き（し、トラ
ンジスタ１０を介してＣＰＵ等の図示しない制御回路に
出力する波形成形回路１１が接続されている。
の電源回路５および上記水冷電極１はそれぞれアースさ
れている。さらに、この電源回路５の途中には、抵抗８
が接続されるとともに、この抵抗８に流れる電流に比例
した電圧と、可変自在な基準電圧とを比較して上記電圧
が基準電圧より高い場合にパルスを出力する比較演算器
９が接続されている。この比較演算器９には、この比較
、演算器９から出力されるパルスの幅を太き（し、トラ
ンジスタ１０を介してＣＰＵ等の図示しない制御回路に
出力する波形成形回路１１が接続されている。
本実施例においては、静電チャックの電極４に直流電源
７から電圧を印加することにより、トレー２上のウェハ
１２を静電的に固定するものであり、この電圧を印加し
た瞬間、第２図に示すように、上記抵抗８に電流が流れ
る。そして、この電流に比例した電圧と基準電圧とを比
較演算器９により比較し、上記電圧が基準電圧より高い
場合にパルスを発生させる。すなわち、静電チャックの
電極４と電線６との接触が良好であれば、電流が流れる
ためパルスが出力され、接触が不良であれば、第２図中
一点鎖線で示すように、確実に電流が流れないためパル
スが出力されないことになる。このＡ点の出力パルスの
時間ｔ１は、１〜１０００μｓｅｃと極めて短かくこの
ままでは制御回路でパルスを検出することができないの
で、波形成形回路１１によりパルスの幅を大きくしてＢ
点の出力パルスの時間ｔ２を０．１〜１ｓｅｃ程度に成
形し、制御回路に出力するようにしている。
７から電圧を印加することにより、トレー２上のウェハ
１２を静電的に固定するものであり、この電圧を印加し
た瞬間、第２図に示すように、上記抵抗８に電流が流れ
る。そして、この電流に比例した電圧と基準電圧とを比
較演算器９により比較し、上記電圧が基準電圧より高い
場合にパルスを発生させる。すなわち、静電チャックの
電極４と電線６との接触が良好であれば、電流が流れる
ためパルスが出力され、接触が不良であれば、第２図中
一点鎖線で示すように、確実に電流が流れないためパル
スが出力されないことになる。このＡ点の出力パルスの
時間ｔ１は、１〜１０００μｓｅｃと極めて短かくこの
ままでは制御回路でパルスを検出することができないの
で、波形成形回路１１によりパルスの幅を大きくしてＢ
点の出力パルスの時間ｔ２を０．１〜１ｓｅｃ程度に成
形し、制御回路に出力するようにしている。
したがって、本実施例においては、電極４への接触状態
が良好のときにのみ、制御回路にパルスが出力されるよ
うにしているので、この接触状態を確実に検出すること
が可能となる。また、静電チャックの誘電体膜３が破損
した場合には、第２図中破線で示すように、電流が連続
的に流れることになるため、連続したパルスが出力され
、これにより、誘電体膜３の破損を検出することができ
るものである。
が良好のときにのみ、制御回路にパルスが出力されるよ
うにしているので、この接触状態を確実に検出すること
が可能となる。また、静電チャックの誘電体膜３が破損
した場合には、第２図中破線で示すように、電流が連続
的に流れることになるため、連続したパルスが出力され
、これにより、誘電体膜３の破損を検出することができ
るものである。
以上述べたように本発明に係る静電チャックは、誘電体
膜で被覆された電極に直流電圧を印加する回路の途中に
接続された抵抗と、この抵抗に流れる電流に比例した電
圧と基準電圧とを比較して上記電圧が基準電圧より高い
場合にパルスを出力する比較演算器と、上記パルスの幅
を大きくして制御回路に出力する波形成形回路とを有し
てなり、静電チャックの電極の接触状態が良好の場合に
のみ上記パルスが出力されるようにしているので、この
パルスの有無により確実に接触状態の良否を検出するこ
とが可能となる。また、静電チャックの誘電体膜が破損
した場合には、連続的にパルスが出力されることにより
、誘電体膜の破損状態をも検出することができる等の効
果を奏する。
膜で被覆された電極に直流電圧を印加する回路の途中に
接続された抵抗と、この抵抗に流れる電流に比例した電
圧と基準電圧とを比較して上記電圧が基準電圧より高い
場合にパルスを出力する比較演算器と、上記パルスの幅
を大きくして制御回路に出力する波形成形回路とを有し
てなり、静電チャックの電極の接触状態が良好の場合に
のみ上記パルスが出力されるようにしているので、この
パルスの有無により確実に接触状態の良否を検出するこ
とが可能となる。また、静電チャックの誘電体膜が破損
した場合には、連続的にパルスが出力されることにより
、誘電体膜の破損状態をも検出することができる等の効
果を奏する。
第１図は本発明の一実施例を示す概略構成図、第２図は
電流の流れに対するパルスの発生状態を示す線図である
。 １・・・放電電極、２・・・トレー、３・・・誘電体膜
、４・・・電極、６・・・電線、７・・・直流電源、８
・・・抵抗、９・・・比較演算器、１１・・・波形成形
回路、１２・・・ウェハ。 出願人代理人 佐 藤 −雄 第１図 ８１間 第２図
電流の流れに対するパルスの発生状態を示す線図である
。 １・・・放電電極、２・・・トレー、３・・・誘電体膜
、４・・・電極、６・・・電線、７・・・直流電源、８
・・・抵抗、９・・・比較演算器、１１・・・波形成形
回路、１２・・・ウェハ。 出願人代理人 佐 藤 −雄 第１図 ８１間 第２図
Claims (1)
- 誘電体膜で被覆された電極に直流電圧を印加してウェハ
を静電的に固定する静電チャックにおいて、上記電圧を
印加する回路の途中に接続された抵抗と、この抵抗に流
れる電流に比例した電圧と基準電圧とを比較して上記電
圧が基準電圧より高い場合にパルスを出力する比較演算
器と、上記パルスの幅を大きくして制御回路に出力する
波形成形回路とを有することを特徴とする静電チャック
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61285468A JPS63139634A (ja) | 1986-11-29 | 1986-11-29 | 静電チヤツク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61285468A JPS63139634A (ja) | 1986-11-29 | 1986-11-29 | 静電チヤツク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63139634A true JPS63139634A (ja) | 1988-06-11 |
Family
ID=17691907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61285468A Pending JPS63139634A (ja) | 1986-11-29 | 1986-11-29 | 静電チヤツク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63139634A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018014383A (ja) * | 2016-07-20 | 2018-01-25 | 株式会社ディスコ | 吸着確認方法、離脱確認方法、及び減圧処理装置 |
| WO2026034300A1 (ja) * | 2024-08-09 | 2026-02-12 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5979545A (ja) * | 1982-10-29 | 1984-05-08 | Toshiba Corp | 静電チャック装置 |
-
1986
- 1986-11-29 JP JP61285468A patent/JPS63139634A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5979545A (ja) * | 1982-10-29 | 1984-05-08 | Toshiba Corp | 静電チャック装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018014383A (ja) * | 2016-07-20 | 2018-01-25 | 株式会社ディスコ | 吸着確認方法、離脱確認方法、及び減圧処理装置 |
| WO2026034300A1 (ja) * | 2024-08-09 | 2026-02-12 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
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