JPS63140976A - ビ−ムプロフアイルモニタ− - Google Patents
ビ−ムプロフアイルモニタ−Info
- Publication number
- JPS63140976A JPS63140976A JP28842786A JP28842786A JPS63140976A JP S63140976 A JPS63140976 A JP S63140976A JP 28842786 A JP28842786 A JP 28842786A JP 28842786 A JP28842786 A JP 28842786A JP S63140976 A JPS63140976 A JP S63140976A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductors
- intensity distribution
- measured
- measure
- conductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えば荷電粒子装置などをこおけるビーム
をモニターするビーム10フアイルモニター斜視図する
ものである。
をモニターするビーム10フアイルモニター斜視図する
ものである。
第2同は、雑誌(“〜Iultiwire and S
ingle RodBeam Profile Mon
1tors in the TARN″N、Tokud
aeta4. INS −NUMA−19,Mar、
1980 ) に記載されたもので、lイオン蓄積に
用いられたX方向のビーム位HH,−4・強度分布を測
定するビームプロファイルモニターを示す構成図である
。図において、(1)はX方向に並べて配置され、X方
向のビームの位置・強度分布を測定する導線で、例えば
BeCuの導線、(2)はこの導線(υを支持する支持
体で、例えばセラミックフレーム、(3)は導線(1)
のそれぞれからの引出8、(4)はセラミックフレーム
(2)を支持するモニター支持棒、(5)は支持棒(4
)をX方向に動かす移動機溝で、例えばモニター駆動モ
ータである。導線(1)、セラミックフレーム(2)、
引出線(3)、支持棒(4)でビームの測定センサーを
構成している。
ingle RodBeam Profile Mon
1tors in the TARN″N、Tokud
aeta4. INS −NUMA−19,Mar、
1980 ) に記載されたもので、lイオン蓄積に
用いられたX方向のビーム位HH,−4・強度分布を測
定するビームプロファイルモニターを示す構成図である
。図において、(1)はX方向に並べて配置され、X方
向のビームの位置・強度分布を測定する導線で、例えば
BeCuの導線、(2)はこの導線(υを支持する支持
体で、例えばセラミックフレーム、(3)は導線(1)
のそれぞれからの引出8、(4)はセラミックフレーム
(2)を支持するモニター支持棒、(5)は支持棒(4
)をX方向に動かす移動機溝で、例えばモニター駆動モ
ータである。導線(1)、セラミックフレーム(2)、
引出線(3)、支持棒(4)でビームの測定センサーを
構成している。
次(こ動作について説明する。ビーム検出用のセンサー
を構成する導線(1]は1本又は複数本平行、かつほぼ
等間隔ζこX方向lこ張られている。ビームが導線(υ
に当1こると、ビームエネルギーやビーム種類によって
、ビームは導線(1)内で止まるか、導線(1)を突き
抜けるかする。ビームが導線(1)内で止まった場合、
それがそのまま検出電流となって引出線(3)より測定
される。また、ビームが導線(1)を突き抜ける場合は
、その際に金属表面から2次電子が放出され、検出電流
として測定される。どちらの場合にも、ビーム強度に比
例し1こ検出電流が得られる。この導線(1)はy軸に
平行に張っているため、任意のX位置に来たビームは、
y位置(こは無関係にそのX位置にある導線(1)によ
り検出される。従って、X方向のビームの位置・強度分
布を測定することができる。導線(1)が複数本の場合
、ビーム径が複数の導線(1)で構成される導線群の幅
以内であれば、ビームの強度分布を測定できる。
を構成する導線(1]は1本又は複数本平行、かつほぼ
等間隔ζこX方向lこ張られている。ビームが導線(υ
に当1こると、ビームエネルギーやビーム種類によって
、ビームは導線(1)内で止まるか、導線(1)を突き
抜けるかする。ビームが導線(1)内で止まった場合、
それがそのまま検出電流となって引出線(3)より測定
される。また、ビームが導線(1)を突き抜ける場合は
、その際に金属表面から2次電子が放出され、検出電流
として測定される。どちらの場合にも、ビーム強度に比
例し1こ検出電流が得られる。この導線(1)はy軸に
平行に張っているため、任意のX位置に来たビームは、
y位置(こは無関係にそのX位置にある導線(1)によ
り検出される。従って、X方向のビームの位置・強度分
布を測定することができる。導線(1)が複数本の場合
、ビーム径が複数の導線(1)で構成される導線群の幅
以内であれば、ビームの強度分布を測定できる。
この装置において、ビームの強度分布の測定精度をtげ
るTこめには、導線(1)の本数を増やさなければなら
ず、信号処理回路が複雑になる。これを避ける方法とし
て、導線(1]の位置を変えることが考えられる。例え
ば、導線間の間隔の172だけX方向に動かして同じ測
定を行なえば、測定点は2倍に増え、測定精度は局くな
る。この導線(1)の移動はセラミックフレーム(2)
を、支持棒(4)を介してモータ(5)で動かすことに
より実現できる。
るTこめには、導線(1)の本数を増やさなければなら
ず、信号処理回路が複雑になる。これを避ける方法とし
て、導線(1]の位置を変えることが考えられる。例え
ば、導線間の間隔の172だけX方向に動かして同じ測
定を行なえば、測定点は2倍に増え、測定精度は局くな
る。この導線(1)の移動はセラミックフレーム(2)
を、支持棒(4)を介してモータ(5)で動かすことに
より実現できる。
従来のビーム10フアイルモニターは以上のように構成
されているので、測定は一方向に関してのみであり、例
えばX方向、X方向の2方向を測定したい場合には、2
方向にそれぞれ独立にモニターを用意しなければならず
、より広い設置場所が必要となり、また、コスト的にも
逝くなるという問題点があった。
されているので、測定は一方向に関してのみであり、例
えばX方向、X方向の2方向を測定したい場合には、2
方向にそれぞれ独立にモニターを用意しなければならず
、より広い設置場所が必要となり、また、コスト的にも
逝くなるという問題点があった。
この発明は、上記のような問題点を解消する1こめにな
されγこもので、一台で多方向のビームの位置・強度分
布を測定できる比較的コンパクトなビー1.プロファイ
ルモニターを得ることを目的とする。
されγこもので、一台で多方向のビームの位置・強度分
布を測定できる比較的コンパクトなビー1.プロファイ
ルモニターを得ることを目的とする。
〔問題点を解決する1こめの手段〕
この発明に係るビームプロファイルモニターは、一方向
に並べて配置され、ビームの位置、強度分布を測定する
複数の導線と、これらと電気的に絶縁され、一方向と交
叉する他方向に並べて配置され、ビームの位置・強度分
布を測定する複数の導線と、各導線を支持する支持体と
を有する複数方向測定センサー、並びにこの支持体を少
なくとも一方向と他方向の成分を持つ方向に移動しうる
移動機構を備えTこものである。
に並べて配置され、ビームの位置、強度分布を測定する
複数の導線と、これらと電気的に絶縁され、一方向と交
叉する他方向に並べて配置され、ビームの位置・強度分
布を測定する複数の導線と、各導線を支持する支持体と
を有する複数方向測定センサー、並びにこの支持体を少
なくとも一方向と他方向の成分を持つ方向に移動しうる
移動機構を備えTこものである。
この発明における複数方向測定センサーは、ビームの複
数方向に関する位置・強度分布が測定できる。また移動
機構は上記の複数方向のそれぞれの成分を持つ方向に移
動できるので、複数方向に精度よく測定できる。
数方向に関する位置・強度分布が測定できる。また移動
機構は上記の複数方向のそれぞれの成分を持つ方向に移
動できるので、複数方向に精度よく測定できる。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はこの発明の一実施例によるビームプロファイルモニ
ターを示す構成図である。図において、(1)〜(5)
は従来装置と同一、又は相当部分を示すものであり、(
6)は複数の導線(1)の配置されている方向と交叉す
る他方向(こ並べて配置され1こ複数の導線であり、導
線(1)とは゛tα気的に絶縁されている。この実施例
では、導線(1)はX方向に並べて配置され、導線(6
)はこれと直交するX方向に並べて配置されている。ま
た、駆動モータ(5)は、セラミックフレーム(2)を
X方向とX方向の成分を持つ方向に移動することができ
、この場合は、セラミックフレーム(2)をX軸及びy
@ lこ対して45°の角度に移動することができる
。
図はこの発明の一実施例によるビームプロファイルモニ
ターを示す構成図である。図において、(1)〜(5)
は従来装置と同一、又は相当部分を示すものであり、(
6)は複数の導線(1)の配置されている方向と交叉す
る他方向(こ並べて配置され1こ複数の導線であり、導
線(1)とは゛tα気的に絶縁されている。この実施例
では、導線(1)はX方向に並べて配置され、導線(6
)はこれと直交するX方向に並べて配置されている。ま
た、駆動モータ(5)は、セラミックフレーム(2)を
X方向とX方向の成分を持つ方向に移動することができ
、この場合は、セラミックフレーム(2)をX軸及びy
@ lこ対して45°の角度に移動することができる
。
次に動作について説明する。ビームのX方向の位置・強
度分布は導線(1)で測定され、X方向の位置・強度分
布は導線(6)で測定される。測定点を増やすために、
導線(11、(6)の位置を変える場合は、X軸に対し
て45°の角度で取り付けられた支持棒(4)を、その
角度、方向に駆動モータ(5)により動かす。
度分布は導線(1)で測定され、X方向の位置・強度分
布は導線(6)で測定される。測定点を増やすために、
導線(11、(6)の位置を変える場合は、X軸に対し
て45°の角度で取り付けられた支持棒(4)を、その
角度、方向に駆動モータ(5)により動かす。
この時、導線+1) 、 (6)はX及びy方向齋こ移
動し、X方向用導線(1)によりビームのX方向の位置
・強度分布が、ま1こ、X方向用導線(6)によりX方
向のそれが各々精度良く測定されることになる。この実
施例で、移動する傾きを45°とし1このは、x、X方
向に等しく動かすためで、用途により、その傾きは変九
ることができる。
動し、X方向用導線(1)によりビームのX方向の位置
・強度分布が、ま1こ、X方向用導線(6)によりX方
向のそれが各々精度良く測定されることになる。この実
施例で、移動する傾きを45°とし1このは、x、X方
向に等しく動かすためで、用途により、その傾きは変九
ることができる。
このように、上記実施例では、X方向とy方向の2方向
に対する位置・強度分布を測定でき、さら(ここの2方
向の成分を持つ方向にセンサーを移動すれば、測定点が
増え、測定精度を高くすることができる。ま1こ、セン
サーの移動は一台の移動1掃で行なっているため、コン
パクトな装置で構成できる。
に対する位置・強度分布を測定でき、さら(ここの2方
向の成分を持つ方向にセンサーを移動すれば、測定点が
増え、測定精度を高くすることができる。ま1こ、セン
サーの移動は一台の移動1掃で行なっているため、コン
パクトな装置で構成できる。
なお、上記実施例では、フレーム(2)の移動は、x
−y平面内として説明し1こが、これに限るものではな
く、x −y平面(こ対して任意の角度方向撹動かして
もよい。
−y平面内として説明し1こが、これに限るものではな
く、x −y平面(こ対して任意の角度方向撹動かして
もよい。
ま1こ、上記実施例では、x * Y 2方向の測定で
考えたが、この方向は任意の方向に選べ、さらに、フレ
ーム(2)に張る導線の方向を増やすこと(こより、複
数方向の測定が可能である。ただし、異なる方向(こ配
置した導線間において、電気的(こ絶縁されているよう
にする。
考えたが、この方向は任意の方向に選べ、さらに、フレ
ーム(2)に張る導線の方向を増やすこと(こより、複
数方向の測定が可能である。ただし、異なる方向(こ配
置した導線間において、電気的(こ絶縁されているよう
にする。
さら(こ、上記実施例では、導線は測定したい方向に対
して直角に張ったが、この角度は正確1こ直角でなくて
もよい。1こだし、その場合、測定点が導線の幅齋こ加
えてその角度の分だけ広がり、測定誤差となる。同様に
導線は等間隔に平行に配置されていなくてもよい。
して直角に張ったが、この角度は正確1こ直角でなくて
もよい。1こだし、その場合、測定点が導線の幅齋こ加
えてその角度の分だけ広がり、測定誤差となる。同様に
導線は等間隔に平行に配置されていなくてもよい。
以tのように、この発明によれば、一方向に並べて配置
され、ビームの位置・強度分布を測定する複数の導線と
、これらと電気的に絶縁され、一方向と交叉する他方向
に並べて配置され、ビームの位置・強度分布を測定する
複数の導線と、各導線を支持する支持体とを有する複数
方向測定センサー、並びにこの支持体を少なくとも一方
向と他方向の成分を持つ方向をこ移動しうる移動機構を
備えたことにより、ビームの複数方向の位置・強度分布
を測定できる、比較的コンパクトなビームプロファイル
モニターが得られる効果がある。
され、ビームの位置・強度分布を測定する複数の導線と
、これらと電気的に絶縁され、一方向と交叉する他方向
に並べて配置され、ビームの位置・強度分布を測定する
複数の導線と、各導線を支持する支持体とを有する複数
方向測定センサー、並びにこの支持体を少なくとも一方
向と他方向の成分を持つ方向をこ移動しうる移動機構を
備えたことにより、ビームの複数方向の位置・強度分布
を測定できる、比較的コンパクトなビームプロファイル
モニターが得られる効果がある。
第1図はこの発明の一実施例によるビームフ゛ロファイ
ルモニターを示す構成図、第2図は従来のビームフ゛ロ
ファイルモニターを示す構成図である。 (1)、(6)・・・導線、(21、(4)・・・支持
体、(5)・・・移動機構。 (導線Lll 、 (6)、支持体(21、(4)で複
数方向測定センサーを構成する。〕 なお、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
ルモニターを示す構成図、第2図は従来のビームフ゛ロ
ファイルモニターを示す構成図である。 (1)、(6)・・・導線、(21、(4)・・・支持
体、(5)・・・移動機構。 (導線Lll 、 (6)、支持体(21、(4)で複
数方向測定センサーを構成する。〕 なお、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (2)
- (1)一方向に並べて配置され、ビームの位置・強度分
布を測定する複数の導線と、これらと電気的に絶縁され
、上記一方向と交叉する他方向に並べて配置され、ビー
ムの位置・強度分布を測定する複数の導線と、上記各導
線を支持する支持体とを有する複数方向測定センサー、
並びにこの支持体を少なくとも上記一方向と他方向の成
分を持つ方向に移動しうる移動機構を備えたビームプロ
フアイルモニター。 - (2)一方向と他方向とは互いに垂直に交叉することを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載のビームプロフア
イルモニター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28842786A JPS63140976A (ja) | 1986-12-02 | 1986-12-02 | ビ−ムプロフアイルモニタ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28842786A JPS63140976A (ja) | 1986-12-02 | 1986-12-02 | ビ−ムプロフアイルモニタ− |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63140976A true JPS63140976A (ja) | 1988-06-13 |
| JPH0567195B2 JPH0567195B2 (ja) | 1993-09-24 |
Family
ID=17730076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28842786A Granted JPS63140976A (ja) | 1986-12-02 | 1986-12-02 | ビ−ムプロフアイルモニタ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63140976A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01320500A (ja) * | 1988-06-22 | 1989-12-26 | Mitsubishi Electric Corp | 放射線照射装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS508240A (ja) * | 1973-06-01 | 1975-01-28 | ||
| JPS58114709U (ja) * | 1982-01-29 | 1983-08-05 | 株式会社リコー | ビ−ム径測定装置 |
| JPS6068542A (ja) * | 1983-09-22 | 1985-04-19 | Tokyo Erekutoron Kk | イオン注入装置 |
-
1986
- 1986-12-02 JP JP28842786A patent/JPS63140976A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS508240A (ja) * | 1973-06-01 | 1975-01-28 | ||
| JPS58114709U (ja) * | 1982-01-29 | 1983-08-05 | 株式会社リコー | ビ−ム径測定装置 |
| JPS6068542A (ja) * | 1983-09-22 | 1985-04-19 | Tokyo Erekutoron Kk | イオン注入装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01320500A (ja) * | 1988-06-22 | 1989-12-26 | Mitsubishi Electric Corp | 放射線照射装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0567195B2 (ja) | 1993-09-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0159781A1 (en) | Sensing apparatus | |
| US7948122B2 (en) | Displacement device | |
| US5541856A (en) | X-ray inspection system | |
| JP4024386B2 (ja) | プローブステーション | |
| US4798004A (en) | Displacement detecting apparatus | |
| JP2020059117A (ja) | エンドツール計測位置座標決定システムを有するロボットシステム | |
| JPH0567195B2 (ja) | ||
| EP0256034B1 (en) | Apparatus and method for spatially characterizing and controlling a particle beam | |
| US6496013B1 (en) | Device for testing circuit boards | |
| KR100642064B1 (ko) | 전파를 이용한 차량 위치 결정 장치 | |
| JPH07260452A (ja) | 三次元形状計測方法 | |
| JPH11190602A (ja) | 配管間距離等測定装置 | |
| JP2855066B2 (ja) | 荷電粒子線強度分布測定装置 | |
| JP2018179619A (ja) | プローブユニット及びプリント配線板検査装置 | |
| JPH0712906A (ja) | 磁界測定装置の校正用コイル | |
| JPH01242984A (ja) | ビームプロフアイルモニタ | |
| JPH09243723A (ja) | 磁気測定装置のセンサ取付け校正用装置 | |
| KR900001985B1 (ko) | 반도체 디바이스 측정장치 | |
| JP2870924B2 (ja) | イオンビームのモニタ方法およびその装置 | |
| US3308294A (en) | Tiltable specimen holder for electron microscopes with electrical deflecting means to wobble the electron beam image | |
| GB2071320A (en) | Measuring instrument | |
| JP2008196950A (ja) | 三相用電機部品 | |
| US11037734B2 (en) | Mounting structure for capacitor and resistor, input unit, and measuring apparatus | |
| SU773531A1 (ru) | Устройство дл регистрации векторных свойств электрического пол объекта | |
| JP2756866B2 (ja) | レーザ燈台を用いた測量装置の受光器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |