JPS6314271B2 - - Google Patents
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- JPS6314271B2 JPS6314271B2 JP16520479A JP16520479A JPS6314271B2 JP S6314271 B2 JPS6314271 B2 JP S6314271B2 JP 16520479 A JP16520479 A JP 16520479A JP 16520479 A JP16520479 A JP 16520479A JP S6314271 B2 JPS6314271 B2 JP S6314271B2
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- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 7
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 58
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
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- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 7
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 7
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Landscapes
- Sorption Type Refrigeration Machines (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、浸管型直焚高温再生器に係り、特に
吸収式冷凍サイクルに使用される浸管型直焚高温
再生器(以下単に再生器と称することがある)に
関する。
吸収式冷凍サイクルに使用される浸管型直焚高温
再生器(以下単に再生器と称することがある)に
関する。
この種の再生器は、吸収式冷凍サイクルの蒸発
器で発生した冷媒蒸気を吸収した希リチウムブロ
マイド(以下、LiBrと称する)溶液を加熱濃縮
し濃縮LiBr溶液と冷媒蒸気とを得るためのもの
であり、第1図および第2図に示す如く、主に、
本体1と、該本体の一端に取付けられたバーナ1
0と、本体1内を貫通している炉筒11と、該炉
筒に設けられた溶液管12,13と、炉筒11の
側壁に取付けられた高温燃焼ガス案内用バツフル
14と、本体1の他端に設けられた煙突15とか
らなつている。バーナ10でガス、灯油等を燃焼
して得られた高温燃焼ガス20は、炉筒11内を
水平に直進し、平滑溶液管12及びフイン付溶液
管13の周りを流過して熱交換した後、煙突15
より排出される。一方、LiBr溶液21は、炉筒
11と溶液管12,13で加熱沸騰されて濃縮さ
れる。
器で発生した冷媒蒸気を吸収した希リチウムブロ
マイド(以下、LiBrと称する)溶液を加熱濃縮
し濃縮LiBr溶液と冷媒蒸気とを得るためのもの
であり、第1図および第2図に示す如く、主に、
本体1と、該本体の一端に取付けられたバーナ1
0と、本体1内を貫通している炉筒11と、該炉
筒に設けられた溶液管12,13と、炉筒11の
側壁に取付けられた高温燃焼ガス案内用バツフル
14と、本体1の他端に設けられた煙突15とか
らなつている。バーナ10でガス、灯油等を燃焼
して得られた高温燃焼ガス20は、炉筒11内を
水平に直進し、平滑溶液管12及びフイン付溶液
管13の周りを流過して熱交換した後、煙突15
より排出される。一方、LiBr溶液21は、炉筒
11と溶液管12,13で加熱沸騰されて濃縮さ
れる。
このような構造の再生器は、直焚式であるため
小型コンパクトであるという長所を有するが、反
面、高温の燃焼ガスを直接再生器内へ送るため、
均一な加熱がむずかしく、温度の局部的な上昇を
生じやすいという欠点がある。この温度の局部的
な上昇は、吸収液として腐食作用が大である
LiBr液を使用する吸収式冷凍サイクルの再生器
にとつては非常に重要な問題である。
小型コンパクトであるという長所を有するが、反
面、高温の燃焼ガスを直接再生器内へ送るため、
均一な加熱がむずかしく、温度の局部的な上昇を
生じやすいという欠点がある。この温度の局部的
な上昇は、吸収液として腐食作用が大である
LiBr液を使用する吸収式冷凍サイクルの再生器
にとつては非常に重要な問題である。
再生器においては、一般に液温を約160℃に加
熱し、LiBr濃度が60〜65%になるようにLiBr溶
液を濃縮する。第3図はLiBr溶液の温度と金属
の腐食速度の関係を示すグラフであり、図中a,
bはLiBr濃度がそれぞれ65%、62%のLiBr溶液
が停止状態の場合、cはLiBr濃度が65%のLiBr
溶液が流動状態の場合を示す。この図よりLiBr
濃度が60〜65%のLiBr溶液は特に停止状態の場
合、160〜175℃になると急激に金属に対する腐食
速度が増すことが明らかであり、従つて液温が
160℃以上となり、LiBr濃度が60〜65%となる再
生器は、器内の液流動が停滞すると停滞域におい
て著るしく腐食が発生することとなる。
熱し、LiBr濃度が60〜65%になるようにLiBr溶
液を濃縮する。第3図はLiBr溶液の温度と金属
の腐食速度の関係を示すグラフであり、図中a,
bはLiBr濃度がそれぞれ65%、62%のLiBr溶液
が停止状態の場合、cはLiBr濃度が65%のLiBr
溶液が流動状態の場合を示す。この図よりLiBr
濃度が60〜65%のLiBr溶液は特に停止状態の場
合、160〜175℃になると急激に金属に対する腐食
速度が増すことが明らかであり、従つて液温が
160℃以上となり、LiBr濃度が60〜65%となる再
生器は、器内の液流動が停滞すると停滞域におい
て著るしく腐食が発生することとなる。
上記の理由から、再生器においては、液温の局
部的な上昇を避け、液温を均一にして、一定温度
(例えば160℃)以下に保持する必要があり、また
液の停滞域の発生による局部濃縮を防止するた
め、液を均一に流動させることが必要となる。
部的な上昇を避け、液温を均一にして、一定温度
(例えば160℃)以下に保持する必要があり、また
液の停滞域の発生による局部濃縮を防止するた
め、液を均一に流動させることが必要となる。
そこで、本発明者らは、液温の上昇と関係が深
い燃焼ガスの流動とLiBr溶液の流動をそれぞれ
二次元水流モデルと二次元気泡モデルによつて観
察した。その結果、燃焼ガスの流動については、
第4図に示すように、燃焼ガス20の大部分のガ
ス23が溶液管群の領域31を流れて次第に冷却
されるが、残りのガス22は、溶液管群の端部管
33とバツフル14と炉筒側壁32との間の領域
30を、ほとんど冷却されずに流れ、端部管33
と炉筒側壁32の温度を局所的に上昇させること
が判明した。従つて、端部管33の腐食が最も激
しく、かつ、炉筒側壁32の温度上昇によつて、
炉筒側壁32と本体1との間の側部流路内の
LiBr溶液が加熱されて水蒸気を発生することに
なる。
い燃焼ガスの流動とLiBr溶液の流動をそれぞれ
二次元水流モデルと二次元気泡モデルによつて観
察した。その結果、燃焼ガスの流動については、
第4図に示すように、燃焼ガス20の大部分のガ
ス23が溶液管群の領域31を流れて次第に冷却
されるが、残りのガス22は、溶液管群の端部管
33とバツフル14と炉筒側壁32との間の領域
30を、ほとんど冷却されずに流れ、端部管33
と炉筒側壁32の温度を局所的に上昇させること
が判明した。従つて、端部管33の腐食が最も激
しく、かつ、炉筒側壁32の温度上昇によつて、
炉筒側壁32と本体1との間の側部流路内の
LiBr溶液が加熱されて水蒸気を発生することに
なる。
この側部流路51内の水蒸気の発生がLiBr溶
液の流動に及ぼす影響を調べる目的で二次元気泡
モデル実験を行なつた結果、第5図に示すような
溶液流動不良が、特に平滑溶液管12とフイン付
溶液管13の境界領域に、発生することが判明し
た。即ち、溶液管50内で沸騰した水蒸気40を
携行したLiBr溶液41は、両側の側部流路51
より流下して再び溶液管50の下方へ循環しよう
とするが、側部流路51内で発生した前記の水蒸
気40により、LiBr溶液の流下ができなくなる
ので、溶液管下方へLiBr溶液が供給されず、溶
液管50の下部部分にLiBr溶液停滞域42が発
生する。従つて、この停滞域のLiBr溶液の温度
が上昇し、その部分の腐食が激しくなる。
液の流動に及ぼす影響を調べる目的で二次元気泡
モデル実験を行なつた結果、第5図に示すような
溶液流動不良が、特に平滑溶液管12とフイン付
溶液管13の境界領域に、発生することが判明し
た。即ち、溶液管50内で沸騰した水蒸気40を
携行したLiBr溶液41は、両側の側部流路51
より流下して再び溶液管50の下方へ循環しよう
とするが、側部流路51内で発生した前記の水蒸
気40により、LiBr溶液の流下ができなくなる
ので、溶液管下方へLiBr溶液が供給されず、溶
液管50の下部部分にLiBr溶液停滞域42が発
生する。従つて、この停滞域のLiBr溶液の温度
が上昇し、その部分の腐食が激しくなる。
本発明の目的は、上記した従来の直焚高温再生
器において発生する燃焼ガス流動不良による局所
腐食を解消した新規な直焚高温再生器を提供する
ことにある。
器において発生する燃焼ガス流動不良による局所
腐食を解消した新規な直焚高温再生器を提供する
ことにある。
本発明の容旨は、本体内部に炉筒と溶液管群を
配置し、炉筒側壁に高温燃焼ガス案内用バツフル
を取付けた浸管型直焚高温再生器ににおいて、炉
筒側壁に近接した溶液管群の端部管と相反する位
置で燃焼ガスの流れ方向にバツフルを配置し、こ
のバツフルをバツフル間と炉筒側壁と端部管との
間に燃焼ガスをさえぎつてその循環流を発生させ
る長さに設定したことを特徴とする浸管型直焚高
温再生器にある。と炉筒側壁と溶液管群の端部管
との間に燃焼ガスの循環流を発生するように、バ
ツフルと端部管を配置したことを特徴とする浸管
型直焚高温再生器にある。
配置し、炉筒側壁に高温燃焼ガス案内用バツフル
を取付けた浸管型直焚高温再生器ににおいて、炉
筒側壁に近接した溶液管群の端部管と相反する位
置で燃焼ガスの流れ方向にバツフルを配置し、こ
のバツフルをバツフル間と炉筒側壁と端部管との
間に燃焼ガスをさえぎつてその循環流を発生させ
る長さに設定したことを特徴とする浸管型直焚高
温再生器にある。と炉筒側壁と溶液管群の端部管
との間に燃焼ガスの循環流を発生するように、バ
ツフルと端部管を配置したことを特徴とする浸管
型直焚高温再生器にある。
以下、第6〜8図を参照して、本発明の実施例
を説明する。炉筒側壁32に近接した溶液管群の
端部管33と相反する位置で燃焼ガスの流れ方向
にバツフル14を配置し、このバツフル14をバ
ツフル14間と炉筒側壁32と端部管33との間
に燃焼ガスをさえぎつてその循環流を発生させる
長さに設定した構成である。
を説明する。炉筒側壁32に近接した溶液管群の
端部管33と相反する位置で燃焼ガスの流れ方向
にバツフル14を配置し、このバツフル14をバ
ツフル14間と炉筒側壁32と端部管33との間
に燃焼ガスをさえぎつてその循環流を発生させる
長さに設定した構成である。
溶液管群の端部管33とバツフル14と炉筒側
壁32との間の領域を流れる高温燃焼ガスの流動
状態は、バツフル14の間隔P、端部管33と炉
筒側壁32の間隔H等の構造因子と、ガス流速等
の流動面の因子に支配される。これらの因子と燃
焼ガスの流動状態の関係を、二次元水流モデル実
験と実機測定により検討した結果、ガス流速等の
流動面の因子の影響は少なく、構造因子でほぼ決
定されることが判明した。
壁32との間の領域を流れる高温燃焼ガスの流動
状態は、バツフル14の間隔P、端部管33と炉
筒側壁32の間隔H等の構造因子と、ガス流速等
の流動面の因子に支配される。これらの因子と燃
焼ガスの流動状態の関係を、二次元水流モデル実
験と実機測定により検討した結果、ガス流速等の
流動面の因子の影響は少なく、構造因子でほぼ決
定されることが判明した。
この燃焼ガスの流動状態と構造因子の関係を示
す一例が、第6図のグラフに示されている。この
グラフにおいて、横軸は、端部管33と炉筒側壁
32の間隔H(mm)、縦軸はバツフル14の間隔P
(mm)を表わしていて、グラフに示された曲線a
は、第4図に示されているような、炉筒側壁32
に沿つた流れと、後述の第7図に示されている循
環流との境界を示している。その際、曲線aの下
方の領域Iが前者の流れを、そして上方の領域
が後者の流れを示している。この曲線aの値が、
構造を最もコンパクトにし、しかも循環流を発生
させる最適値である。
す一例が、第6図のグラフに示されている。この
グラフにおいて、横軸は、端部管33と炉筒側壁
32の間隔H(mm)、縦軸はバツフル14の間隔P
(mm)を表わしていて、グラフに示された曲線a
は、第4図に示されているような、炉筒側壁32
に沿つた流れと、後述の第7図に示されている循
環流との境界を示している。その際、曲線aの下
方の領域Iが前者の流れを、そして上方の領域
が後者の流れを示している。この曲線aの値が、
構造を最もコンパクトにし、しかも循環流を発生
させる最適値である。
次に、バツフル14および端部管32の上記配
置構造により発生する燃焼ガスの循環流の作用に
ついて説明する。第7図には、燃焼ガス循環流の
形成状態が示されている。この循環流形成時には
領域30を流れる燃焼ガス22はバツフル14を
通過した直後に、循環流61の一部の低温ガス6
2と合流して冷却され、そして溶液管群内ガス2
3より更に冷却されるため、低温になる。従つ
て、端部管33への高温ガスの接触が防止でき
る。また、ガス22から炉筒側壁32への伝熱
は、循環流61が断熱層となるので少なくなる。
従つて第8図に示されているように、側部水路5
1内における水蒸気の発生や溶液管12,13内
におけるLiBr溶液の停滞がなくなり、溶液の流
動がスムーズとなる。なお、上記の循環流を平滑
溶液管12とフイン付溶液管13の境界領域に発
生させるようにすると、特に有利である。
置構造により発生する燃焼ガスの循環流の作用に
ついて説明する。第7図には、燃焼ガス循環流の
形成状態が示されている。この循環流形成時には
領域30を流れる燃焼ガス22はバツフル14を
通過した直後に、循環流61の一部の低温ガス6
2と合流して冷却され、そして溶液管群内ガス2
3より更に冷却されるため、低温になる。従つ
て、端部管33への高温ガスの接触が防止でき
る。また、ガス22から炉筒側壁32への伝熱
は、循環流61が断熱層となるので少なくなる。
従つて第8図に示されているように、側部水路5
1内における水蒸気の発生や溶液管12,13内
におけるLiBr溶液の停滞がなくなり、溶液の流
動がスムーズとなる。なお、上記の循環流を平滑
溶液管12とフイン付溶液管13の境界領域に発
生させるようにすると、特に有利である。
以上説明したとおり、本発明は、バツフルと炉
筒側壁と溶液管群の端部管との間に燃焼ガスの循
環流を発生するように、バツフルと端部管を配置
したので、端部管と炉筒側壁の温度上昇を防止す
ることができる。従つて、LiBr溶液による端部
管の腐食、並びに、側部流路内の水蒸気発生によ
るLiBr溶液の流動不良を防ぐことができるとい
う優れた効果を有する。
筒側壁と溶液管群の端部管との間に燃焼ガスの循
環流を発生するように、バツフルと端部管を配置
したので、端部管と炉筒側壁の温度上昇を防止す
ることができる。従つて、LiBr溶液による端部
管の腐食、並びに、側部流路内の水蒸気発生によ
るLiBr溶液の流動不良を防ぐことができるとい
う優れた効果を有する。
本発明を再生器を例にとり説明してきたが、本
発明の応用分野はこれに限定されるものではなく
腐食性溶液を濃縮するための他の熱交換器、蒸発
器等にも本発明を適用できることはもちろんであ
る。
発明の応用分野はこれに限定されるものではなく
腐食性溶液を濃縮するための他の熱交換器、蒸発
器等にも本発明を適用できることはもちろんであ
る。
第1,2図は、従来の直焚高温再生器の縦断面
図と―線に沿つた断面図、第3図はLiBr溶
液の濃度及び温度と金属の腐食速度との関係を示
す図、第4,5図は従来の再生器の燃焼ガスと
LiBr溶液の流動状態を示す図、第6図は本発明
の実施例に係る再生器のバツフルの間隔、端部管
と炉筒側壁の間隔と燃焼ガス流動状態との関係を
示す図、第7,8図は本発明の実施例に係る再生
器の燃焼ガスとLiBr溶液の流動状態を示す図で
ある。 1……再生器本体、11……炉筒、12,13
……溶液管、14……バツフル、33……端部
管。
図と―線に沿つた断面図、第3図はLiBr溶
液の濃度及び温度と金属の腐食速度との関係を示
す図、第4,5図は従来の再生器の燃焼ガスと
LiBr溶液の流動状態を示す図、第6図は本発明
の実施例に係る再生器のバツフルの間隔、端部管
と炉筒側壁の間隔と燃焼ガス流動状態との関係を
示す図、第7,8図は本発明の実施例に係る再生
器の燃焼ガスとLiBr溶液の流動状態を示す図で
ある。 1……再生器本体、11……炉筒、12,13
……溶液管、14……バツフル、33……端部
管。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 本体内部に炉筒と溶液管群を配置し、炉筒側
壁に高温燃焼ガス案内用バツフルを取付けた浸管
型直焚高温再生器において、前記炉筒側壁に近接
した前記溶液管群の端部管と相反する位置で前記
燃焼ガスの流れ方向に前記バツフルを配置し、こ
のバツフルを該バツフル間と前記炉筒側壁と前記
端部管との間に前記燃焼ガスをさえぎつてその循
環流を発生させる長さに設定したことを特徴とす
る浸管型直焚高温再生器。 2 平滑溶液管とフイン付溶液管との境界領域に
跨るバツフルを該バツフル間と炉筒側壁と端部管
との間に燃焼ガスをさえぎつてその循環流を発生
させる長さに設定したことを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の浸管型直焚高温再生器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16520479A JPS5687766A (en) | 1979-12-18 | 1979-12-18 | Pipe immersing direct fire highhtemperature regenerator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16520479A JPS5687766A (en) | 1979-12-18 | 1979-12-18 | Pipe immersing direct fire highhtemperature regenerator |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5687766A JPS5687766A (en) | 1981-07-16 |
| JPS6314271B2 true JPS6314271B2 (ja) | 1988-03-30 |
Family
ID=15807808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16520479A Granted JPS5687766A (en) | 1979-12-18 | 1979-12-18 | Pipe immersing direct fire highhtemperature regenerator |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5687766A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63142501U (ja) * | 1987-02-28 | 1988-09-20 |
-
1979
- 1979-12-18 JP JP16520479A patent/JPS5687766A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5687766A (en) | 1981-07-16 |
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