JPS6314428A - マスク装置 - Google Patents
マスク装置Info
- Publication number
- JPS6314428A JPS6314428A JP61159012A JP15901286A JPS6314428A JP S6314428 A JPS6314428 A JP S6314428A JP 61159012 A JP61159012 A JP 61159012A JP 15901286 A JP15901286 A JP 15901286A JP S6314428 A JPS6314428 A JP S6314428A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- masks
- mask
- glass plate
- grains
- transparent glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、大型基板のフォトレジストのパターニングに
使用するマスク装置に関するものである。
使用するマスク装置に関するものである。
従来の技術
近年、フォトレジストを使用し、基板の微細加工が行な
われている。しかし、例えば液晶表示素子に使用されて
いる基板などを考えても、微細加工の行なわれる基板は
、ますます大型化、高精度化へと進んでいる。
われている。しかし、例えば液晶表示素子に使用されて
いる基板などを考えても、微細加工の行なわれる基板は
、ますます大型化、高精度化へと進んでいる。
以下図面を参照しながら、上述した従来の大型基板のフ
ォトレジストのパターニング方法およびそれに使用する
マスク装置について説明する。
ォトレジストのパターニング方法およびそれに使用する
マスク装置について説明する。
第３図において、１はマスク、２はマスクホルダー、３
はレジスト、４は基板である。マスク１はマスクホルダ
ー２に固定されている。基板４上に塗布されたレジスト
３は、マスク１を介して露光され、その後現像により、
パターニングが行なわれる。第３図において、マスク１
とレジスト３とは、数〜数十ミクロンの距離をはなして
固定する。このような露光方法は通常プロキシミティと
呼ばれるものであり、マスク１面とレジスト３面が直接
接触することがない。そのためフォトレジストの破壊、
ゴミのマスク１への付着がなく、基板４の歩留りを著し
く上げられる。
はレジスト、４は基板である。マスク１はマスクホルダ
ー２に固定されている。基板４上に塗布されたレジスト
３は、マスク１を介して露光され、その後現像により、
パターニングが行なわれる。第３図において、マスク１
とレジスト３とは、数〜数十ミクロンの距離をはなして
固定する。このような露光方法は通常プロキシミティと
呼ばれるものであり、マスク１面とレジスト３面が直接
接触することがない。そのためフォトレジストの破壊、
ゴミのマスク１への付着がなく、基板４の歩留りを著し
く上げられる。
これに対して第４図においては、マスク１面とレジスト
３面を直接接触させているもので、これではフォトレジ
ストの破壊、ゴミのマスク１への付着等の問題が発生し
、基板４の歩留りは悪くなる０ 発明が解決しようとする問題点 第３図の構成ではたしかに効果はあるのであるが、それ
はマスクが数センチ角程度の大きさまでで、十数センチ
角〜数十センチ角の大型マスクでは、第６図のごとくマ
スク１の自重によるたわみが、特にマスク１の中心部で
数十ミクロン以上となり、このため大聖マスクでは第３
図の露光は難しく、通常しかたなく第４図のコンタクト
露光による低歩留の露光が行われていた。
３面を直接接触させているもので、これではフォトレジ
ストの破壊、ゴミのマスク１への付着等の問題が発生し
、基板４の歩留りは悪くなる０ 発明が解決しようとする問題点 第３図の構成ではたしかに効果はあるのであるが、それ
はマスクが数センチ角程度の大きさまでで、十数センチ
角〜数十センチ角の大型マスクでは、第６図のごとくマ
スク１の自重によるたわみが、特にマスク１の中心部で
数十ミクロン以上となり、このため大聖マスクでは第３
図の露光は難しく、通常しかたなく第４図のコンタクト
露光による低歩留の露光が行われていた。
本発明は上記問題点に鑑み、マスクのたわみを少なくシ
、大型マスクでの歩留りの高い第３図のプロキシミティ
露光を可能にするものである。
、大型マスクでの歩留りの高い第３図のプロキシミティ
露光を可能にするものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明は、マスクをそれよ
りも厚い透明ガラス板に液体と粒子を介して固定するも
のである。
りも厚い透明ガラス板に液体と粒子を介して固定するも
のである。
作用
本発明は上記した構成によって、マスクをそれよりも厚
い透明ガラス板に液体と粒子を介して固定するので、マ
スクのたわみが少なく、犬をマスクでの歩留υの高いプ
ロキシミティ露光が可能となるものである。
い透明ガラス板に液体と粒子を介して固定するので、マ
スクのたわみが少なく、犬をマスクでの歩留υの高いプ
ロキシミティ露光が可能となるものである。
実施例
以下本発明の一実施例を説明する。
第１図は本発明の第１の実施例の断面図である。
第１図において、１はマスク、２はマスクホルダー、３
はレジスト、４は基板、５はマスク１より厚い透明ガラ
ス板、６は液体層、７は全面に分散された粒子、８は吸
引装置である。
はレジスト、４は基板、５はマスク１より厚い透明ガラ
ス板、６は液体層、７は全面に分散された粒子、８は吸
引装置である。
以上のように構成されたマスク装置について説明する。
排気装置８が、透明ガラス板５とマスクホルダー２とマ
スク１でかこまれた液体層６′ｊｔ吸引することにより
、マスク１は粒子７によって得られる一定の間隔をあけ
て透明ガラス板らに押しあてられ、たわみなく固定され
る。また粒子７による露光時の影は実用上問題ない。マ
スク１は吸引を止め、リークさせることで簡単にはずせ
る。
スク１でかこまれた液体層６′ｊｔ吸引することにより
、マスク１は粒子７によって得られる一定の間隔をあけ
て透明ガラス板らに押しあてられ、たわみなく固定され
る。また粒子７による露光時の影は実用上問題ない。マ
スク１は吸引を止め、リークさせることで簡単にはずせ
る。
以上のように本実施例によれば、マスク１の自重による
たわみを防止することが出来る。
たわみを防止することが出来る。
次に本発明の第２の実施例について説明する。
第２図において、９はシール部であり、第１図の構成と
異なるのは、このシール部９を設けた点である。シール
部９は、マスク１とマスクホルダー２にはさまれた液体
層８が、長時間一定の厚さを保つように用いられている
。
異なるのは、このシール部９を設けた点である。シール
部９は、マスク１とマスクホルダー２にはさまれた液体
層８が、長時間一定の厚さを保つように用いられている
。
なお、第１及び第２の実施例において、液体中に界面活
性剤等を加えてもよい。
性剤等を加えてもよい。
発明の効果
以上のように本発明はマスクを、それより厚い透明ガラ
ス板に液体と粒子を介して固定することにより、マスク
のたわみを減少してプロキシミティ露光が行えるように
することができる。
ス板に液体と粒子を介して固定することにより、マスク
のたわみを減少してプロキシミティ露光が行えるように
することができる。
第１図は本発明の第１の実施例におけるマスク装置の断
面図、第２図は本発明の第２の実施例におけるマスク装
置の断面図、第３図及び第４図は従来例を示す断面図、
第５図は大型マスクの自重によるたわみの様子を示す断
面図である。 １・・・・・・マスク、２・・・・・・マスクホルダー
、３・・・・・・レジスト、４・・・・・・基板、５・
・・・・・透明ガラス板、６・・・・・・液体層、７・
・・・・・粒子、８・・・・・・吸引装置、９・・・・
・・シール部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 第３図 第４図 第５図
面図、第２図は本発明の第２の実施例におけるマスク装
置の断面図、第３図及び第４図は従来例を示す断面図、
第５図は大型マスクの自重によるたわみの様子を示す断
面図である。 １・・・・・・マスク、２・・・・・・マスクホルダー
、３・・・・・・レジスト、４・・・・・・基板、５・
・・・・・透明ガラス板、６・・・・・・液体層、７・
・・・・・粒子、８・・・・・・吸引装置、９・・・・
・・シール部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 第３図 第４図 第５図
Claims (3)
- （１）ガラス板よりなるマスクを、前記マスクよりも厚
い透明ガラス板に、粒子と液体を介して、固定したマス
ク装置。 - （２）液体は、水、アルコール、有機溶剤、オイルの少
なくとも一つよりなる特許請求の範囲第１項に記載のマ
スク装置。 - （３）粒子は、球体、ファイバー片、多面体の少なくと
も一つよりなる特許請求の範囲第１項または第２項に記
載のマスク装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61159012A JPS6314428A (ja) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | マスク装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61159012A JPS6314428A (ja) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | マスク装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6314428A true JPS6314428A (ja) | 1988-01-21 |
Family
ID=15684314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61159012A Pending JPS6314428A (ja) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | マスク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6314428A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5062496A (en) * | 1988-07-29 | 1991-11-05 | Mazda Motor Corporation | Structure for mounting air cleaner of engine |
| US7998233B2 (en) | 2007-11-26 | 2011-08-16 | Denso Corporation | Air cleaner unit for vehicle and fan shroud having the same |
-
1986
- 1986-07-07 JP JP61159012A patent/JPS6314428A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5062496A (en) * | 1988-07-29 | 1991-11-05 | Mazda Motor Corporation | Structure for mounting air cleaner of engine |
| US7998233B2 (en) | 2007-11-26 | 2011-08-16 | Denso Corporation | Air cleaner unit for vehicle and fan shroud having the same |
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