JPS631443A - シ−ト状物のプラズマ処理装置 - Google Patents
シ−ト状物のプラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPS631443A JPS631443A JP61143773A JP14377386A JPS631443A JP S631443 A JPS631443 A JP S631443A JP 61143773 A JP61143773 A JP 61143773A JP 14377386 A JP14377386 A JP 14377386A JP S631443 A JPS631443 A JP S631443A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum container
- discharge
- electrode
- sheet
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、シート状物のプラズマ処理装置、詳しくは
、プラズマ雰囲気にある真空容器内で、回転するドラム
形状の放電電極の外周面にシート状物を沿わせて，低温
プラズマ処理する装置に関するものである． ［従来゛の技術］ 近年、プラズマ処理は、たとえばプラスチックフイルム
，布帛などのシート状物の化学的，物理的．力学的，光
学的もしくは電気的性質または表面構造を改善する処理
方法として注目されている．つまり、プラズマ処理によ
って，シート状物の接着性，摩擦特性，風合，光沢もし
くは染色堅牢度を向上させ、または帯電防止，表面硬化
．粗面化，プロツキング防止もしくは染色物の濃色化を
図り得ることが知られている（たとえば、特開昭５７−
１８７３７号公報、特開昭６０一１４９４４１号公報参
照）． この種のシート状物のプラズマ処理装置は、従来より、
真空容器を貫通する回転軸に固定されたドラム形状の放
′７Ｍ．電極と、これに対向する棒状の放電電極とを真
空容器内に設けている．そして、真空容器が，上記両放
電電極を接続する電気回路から絶縁されていることによ
って、両放電電極から真空容器へのプラズマ放電を防止
して，電力の浪費を防止している。
、プラズマ雰囲気にある真空容器内で、回転するドラム
形状の放電電極の外周面にシート状物を沿わせて，低温
プラズマ処理する装置に関するものである． ［従来゛の技術］ 近年、プラズマ処理は、たとえばプラスチックフイルム
，布帛などのシート状物の化学的，物理的．力学的，光
学的もしくは電気的性質または表面構造を改善する処理
方法として注目されている．つまり、プラズマ処理によ
って，シート状物の接着性，摩擦特性，風合，光沢もし
くは染色堅牢度を向上させ、または帯電防止，表面硬化
．粗面化，プロツキング防止もしくは染色物の濃色化を
図り得ることが知られている（たとえば、特開昭５７−
１８７３７号公報、特開昭６０一１４９４４１号公報参
照）． この種のシート状物のプラズマ処理装置は、従来より、
真空容器を貫通する回転軸に固定されたドラム形状の放
′７Ｍ．電極と、これに対向する棒状の放電電極とを真
空容器内に設けている．そして、真空容器が，上記両放
電電極を接続する電気回路から絶縁されていることによ
って、両放電電極から真空容器へのプラズマ放電を防止
して，電力の浪費を防止している。
［発明が解決しようとする問題点］
ところが、シート状物のプラズマ処理装置は、処理を施
すシート状物の幅が広いことなどから、一般にその設備
が大がかりになるので、これが工業的に採用されるため
には，大きな設備費に見合う処理能力を備える必要があ
る．つまり，元々、プラズマ雰囲気を作るプラズマ処理
装置の大きな入力を，さらに増大させて，プラズマ密度
を上昇させることによって、処理能力を向上する必要が
ある．しかし、電気抵抗の小さいプラズマ雰囲気である
真空容器内では、上記入力を大きくしていった場合、互
いに絶縁された放電用の電気回路と真空容器との間に，
局所的に大きな電気的不均一が生じ、このため、狭い隅
部、たとえば，真空容器を貫通する回転軸と、この回転
軸に近接する真空容器との間の部分が絶縁不十分となり
、真空容器内に電流が流れ、真空容器内壁が発光して、
やがて瞬時的な異常なアーク放電を生じる．したがって
、プラズマの放電状態が不安定になり，連続運転ができ
ない。
すシート状物の幅が広いことなどから、一般にその設備
が大がかりになるので、これが工業的に採用されるため
には，大きな設備費に見合う処理能力を備える必要があ
る．つまり，元々、プラズマ雰囲気を作るプラズマ処理
装置の大きな入力を，さらに増大させて，プラズマ密度
を上昇させることによって、処理能力を向上する必要が
ある．しかし、電気抵抗の小さいプラズマ雰囲気である
真空容器内では、上記入力を大きくしていった場合、互
いに絶縁された放電用の電気回路と真空容器との間に，
局所的に大きな電気的不均一が生じ、このため、狭い隅
部、たとえば，真空容器を貫通する回転軸と、この回転
軸に近接する真空容器との間の部分が絶縁不十分となり
、真空容器内に電流が流れ、真空容器内壁が発光して、
やがて瞬時的な異常なアーク放電を生じる．したがって
、プラズマの放電状態が不安定になり，連続運転ができ
ない。
この発明は上記従来の問題に鑑みてなされたもので、大
電力を流した状態で連続運転が可能な、つまり，工業的
に利用し得るシート状物のプラズマ処理装置を提供する
ことを目的としている．［問題点を解決するだめの手段
］ 上記目的を達成するために、この発明のシート状物のプ
ラズマ処理装置は、まず，真空容器が、ドラム形状の第
１の放電電極と、これに対向する第２の放電電極とを接
続する電気回路から絶縁されている．上記第１の放電電
極が固定される回転軸は、この回転軸における真空容器
を貫通する貫通部と、上記回転軸における第１の放電電
極から導出する導出部との間に絶縁部材が介在されてな
る． ［作用］ この発明によれば、真空容器が電気回路から絶縁されて
いるから、プラズマが真空容器に放電するロスを防止し
得る．また、回転軸における真空容器を貫通する貫通部
が、絶縁部材を介して，第１の放電電極から絶縁され、
かつ、真空容器が電気回路から絶縁されているから、回
転軸の貫通部とこれに近接する真空容器との間の部分、
つまり、狭い間部が絶縁不十分となるおそれがない．し
たがって、真空容器内に、異常なアーク放電の生じるお
それがない． ［実施例］ 以下この発明の実施例を図面にしたがって説明する． この発明の第１の実施例を示す第１図において、真空容
器ｌ内には、ドラム形状のドラム電極（第１の放電電極
）２と、このドラム電極２に対向する多数の棒電極（第
２の放電電極）３とが、平行に設置されている．これら
両放電電極２．３間には、交流電源４から、トランス５
ならびに上記両放電電極２，３を接続する電気回路６を
介して電圧が付加されている． 上記真空容器１は、ステンレス製で、プラズマ処理ガス
が封入されたガス容器７、ならびに、真空容器１内を真
空にするための真空排気装置８により，内部が極く低圧
のプラズマ処理ガスで充填された状態に保たれている．
Ａはシート状物で，巻出機１１から，ガイドロール１２
にガイドされ、回転駆動されているドラム電極２の外周
面に沿って、巻取機ｌ３に巻き取られる．つまり、巻出
機ｌ１のシート状物Ａは、プラズマ雰囲気に保持された
真空容器ｌ内のドラム電極２上で連続的に低温プラズマ
処理されて、巻取機１３に巻き取られる． 第２図において、上記ドラム電極２には、蒸留水または
シリコンオイルなどの導電性の小さい冷却媒体が流通す
る水ジャケツ｝２ａが設けられている．このドラム電極
２の両側壁部２ｂには、回転軸１４の一部である導出部
１４ａ，１４ｂがドラム電極２の両側壁部２ｂから導出
して、固着されている．上記回転軸１４は、右側の導出
部１４ｂに、絶縁体からなるたとえば両フランジ短管（
絶縁部材）１４ｃを介して、真空容器１を貫通する貫通
部１４ｄがフランジ接合されなる。上記回転軸１４は、
真空容器１の外部に設けられたモータ（図示せず）で回
転駆動され、上記導出部１４ａ，１４ｂ、ならびに，貫
通部１４ｄよりも外側の外側部１４ｅにおいて、軸受１
５Ａ．１５Ｂ，１５Ｃによって回転自在に軸支されてい
る．１６はメカニカルシールで，真空容器ｌの被貫通部
１ａと上記貫通部１４ｄとの間に介装され、真空容器１
の内部を外部に対してシールしている．なお、４０は碍
子で、回転軸１４と真空容姦１との間を絶縁し、回転軸
１４の支持部材４１との間に介装されている． １７，１８．１９はパイプで、回転軸１４に設けられた
長孔１４ｆ内に挿入され、水ジャケット２ａに直列に連
結され、その内部が冷却媒体の往路を形成している．一
方、２０．２１はパイプで、ドラム電極ｚ内に設けられ
、その内部が上記木ジャケツ｝２ａならびに回転，軸１
４内の長孔１４ｆに直列に連結され、長孔１４ｆととも
に、冷却媒体の復路を形成している。上記パイプ１８は
絶縁体からなり、第３図に明示するように、パイプ１７
．１９に、ねじ１８ａで接続されている．なお、４２は
シール用のゴムリング、４３はフランジ接合用のポルト
●ナットである．第２図の棒電極３は、その両端３ａが
一対の支持部材２２に固定され・ている．この支持部材
２２は碍子２３を介して真空容器１に支持されている． 上記電気回路６の一方は、真空容器ｌを電気回路６から
絶縁する導入端子６ａを介して真空容器ｌ内に挿入され
、棒電極３に接続されている．他方は、導入端子６ａ、
スリップリング２５および導線２７などを介してドラム
電極２に接続されている．つまり、真空容器ｌは電気回
路６から電気的に絶縁され、また、アースされた接地状
態に保たれている．なお、電気回路６および両放電電極
２，３は非接地状態に保たれて、真空容器１と厳格に絶
縁されている． 上記構成において、この発明は、真空容器１が電気回路
６から絶縁されているから、棒電極３から真空容器１に
プラズマが放電するおそれがないので、電力の浪費を防
止し得る． また，ドラム電極２からの導出部１４ｂと回転軸１４の
貫通部１４ｄとの間に絶縁体からなる短管１４ｃを介装
して，両者２．１４を絶縁している．つまり，ドラム電
極２が回転軸１４における真空容器１に貫通する貫通部
１４ｄから電気的に絶縁されている．一方、真空容器１
が電気回路６から絶縁されている．したがって、回転軸
ｌ４の貫通部１４ｃｌと、これに近接する真空容器ｌの
被貫通部１ａとの間の部分、つまり狭い隅部が絶縁茶十
分になるおそれがないので、真空容器内壁で異常なアー
ク放電の生じるおそれがなく、連続的な運転を図り得る
．また、真空容器ｌから外部へ突出する回転軸ｌ４の外
側部１４ｅが充電されていない状態に保持されるから、
作業者が感電するおそれがない． また、回転軸１４は、その導出部１４ａ，１４ｂをドラ
ム電極２と一体に形成し得るので、回転軸１４とドラム
電極２との芯出しが容易かつ正確になるから、軸受１５
Ａ，１５Ｂへの負担が軽減される． また、上記のように，回転軸１４の貫通部１４ｄが充電
されていないから、プラズマ雰囲気にさらされ、かつ複
雑な構造であるメカ三力ルシール１６におレ・て、アー
ク放電の生じるおそれがない．したがって、長期間の使
用に酎え得る。
電力を流した状態で連続運転が可能な、つまり，工業的
に利用し得るシート状物のプラズマ処理装置を提供する
ことを目的としている．［問題点を解決するだめの手段
］ 上記目的を達成するために、この発明のシート状物のプ
ラズマ処理装置は、まず，真空容器が、ドラム形状の第
１の放電電極と、これに対向する第２の放電電極とを接
続する電気回路から絶縁されている．上記第１の放電電
極が固定される回転軸は、この回転軸における真空容器
を貫通する貫通部と、上記回転軸における第１の放電電
極から導出する導出部との間に絶縁部材が介在されてな
る． ［作用］ この発明によれば、真空容器が電気回路から絶縁されて
いるから、プラズマが真空容器に放電するロスを防止し
得る．また、回転軸における真空容器を貫通する貫通部
が、絶縁部材を介して，第１の放電電極から絶縁され、
かつ、真空容器が電気回路から絶縁されているから、回
転軸の貫通部とこれに近接する真空容器との間の部分、
つまり、狭い間部が絶縁不十分となるおそれがない．し
たがって、真空容器内に、異常なアーク放電の生じるお
それがない． ［実施例］ 以下この発明の実施例を図面にしたがって説明する． この発明の第１の実施例を示す第１図において、真空容
器ｌ内には、ドラム形状のドラム電極（第１の放電電極
）２と、このドラム電極２に対向する多数の棒電極（第
２の放電電極）３とが、平行に設置されている．これら
両放電電極２．３間には、交流電源４から、トランス５
ならびに上記両放電電極２，３を接続する電気回路６を
介して電圧が付加されている． 上記真空容器１は、ステンレス製で、プラズマ処理ガス
が封入されたガス容器７、ならびに、真空容器１内を真
空にするための真空排気装置８により，内部が極く低圧
のプラズマ処理ガスで充填された状態に保たれている．
Ａはシート状物で，巻出機１１から，ガイドロール１２
にガイドされ、回転駆動されているドラム電極２の外周
面に沿って、巻取機ｌ３に巻き取られる．つまり、巻出
機ｌ１のシート状物Ａは、プラズマ雰囲気に保持された
真空容器ｌ内のドラム電極２上で連続的に低温プラズマ
処理されて、巻取機１３に巻き取られる． 第２図において、上記ドラム電極２には、蒸留水または
シリコンオイルなどの導電性の小さい冷却媒体が流通す
る水ジャケツ｝２ａが設けられている．このドラム電極
２の両側壁部２ｂには、回転軸１４の一部である導出部
１４ａ，１４ｂがドラム電極２の両側壁部２ｂから導出
して、固着されている．上記回転軸１４は、右側の導出
部１４ｂに、絶縁体からなるたとえば両フランジ短管（
絶縁部材）１４ｃを介して、真空容器１を貫通する貫通
部１４ｄがフランジ接合されなる。上記回転軸１４は、
真空容器１の外部に設けられたモータ（図示せず）で回
転駆動され、上記導出部１４ａ，１４ｂ、ならびに，貫
通部１４ｄよりも外側の外側部１４ｅにおいて、軸受１
５Ａ．１５Ｂ，１５Ｃによって回転自在に軸支されてい
る．１６はメカニカルシールで，真空容器ｌの被貫通部
１ａと上記貫通部１４ｄとの間に介装され、真空容器１
の内部を外部に対してシールしている．なお、４０は碍
子で、回転軸１４と真空容姦１との間を絶縁し、回転軸
１４の支持部材４１との間に介装されている． １７，１８．１９はパイプで、回転軸１４に設けられた
長孔１４ｆ内に挿入され、水ジャケット２ａに直列に連
結され、その内部が冷却媒体の往路を形成している．一
方、２０．２１はパイプで、ドラム電極ｚ内に設けられ
、その内部が上記木ジャケツ｝２ａならびに回転，軸１
４内の長孔１４ｆに直列に連結され、長孔１４ｆととも
に、冷却媒体の復路を形成している。上記パイプ１８は
絶縁体からなり、第３図に明示するように、パイプ１７
．１９に、ねじ１８ａで接続されている．なお、４２は
シール用のゴムリング、４３はフランジ接合用のポルト
●ナットである．第２図の棒電極３は、その両端３ａが
一対の支持部材２２に固定され・ている．この支持部材
２２は碍子２３を介して真空容器１に支持されている． 上記電気回路６の一方は、真空容器ｌを電気回路６から
絶縁する導入端子６ａを介して真空容器ｌ内に挿入され
、棒電極３に接続されている．他方は、導入端子６ａ、
スリップリング２５および導線２７などを介してドラム
電極２に接続されている．つまり、真空容器ｌは電気回
路６から電気的に絶縁され、また、アースされた接地状
態に保たれている．なお、電気回路６および両放電電極
２，３は非接地状態に保たれて、真空容器１と厳格に絶
縁されている． 上記構成において、この発明は、真空容器１が電気回路
６から絶縁されているから、棒電極３から真空容器１に
プラズマが放電するおそれがないので、電力の浪費を防
止し得る． また，ドラム電極２からの導出部１４ｂと回転軸１４の
貫通部１４ｄとの間に絶縁体からなる短管１４ｃを介装
して，両者２．１４を絶縁している．つまり，ドラム電
極２が回転軸１４における真空容器１に貫通する貫通部
１４ｄから電気的に絶縁されている．一方、真空容器１
が電気回路６から絶縁されている．したがって、回転軸
ｌ４の貫通部１４ｃｌと、これに近接する真空容器ｌの
被貫通部１ａとの間の部分、つまり狭い隅部が絶縁茶十
分になるおそれがないので、真空容器内壁で異常なアー
ク放電の生じるおそれがなく、連続的な運転を図り得る
．また、真空容器ｌから外部へ突出する回転軸ｌ４の外
側部１４ｅが充電されていない状態に保持されるから、
作業者が感電するおそれがない． また、回転軸１４は、その導出部１４ａ，１４ｂをドラ
ム電極２と一体に形成し得るので、回転軸１４とドラム
電極２との芯出しが容易かつ正確になるから、軸受１５
Ａ，１５Ｂへの負担が軽減される． また、上記のように，回転軸１４の貫通部１４ｄが充電
されていないから、プラズマ雰囲気にさらされ、かつ複
雑な構造であるメカ三力ルシール１６におレ・て、アー
ク放電の生じるおそれがない．したがって、長期間の使
用に酎え得る。
ところで、この実施例では，絶縁体からなるパイプ１８
を介して、冷却媒体の往路を形成するパイプｌ７とパイ
ブ１９とを連結してい３．したがって、ドラム電極２か
ら冷却媒体を通して回転軸１４へ流れる電流が小さいの
で、回転軸１４の貫通部１４ｄおよび外側部１４ｅをド
ラム電極２から、より厳格に絶縁し得る． この発明において、絶縁体としてはセラミックス，ファ
インセラミックスまたは＃熱性，耐紫外線性もしくは＃
電子線性プラスチックスを単独で、あるいは、組合せて
用いることが好ましい．なお、パイプ１８の絶縁体とし
ては、上記の他に塩化ビニル，ゴムなども使用できる． 第４図はこの発明の両フランジ短管１４ｃの第２の実施
例を示す．この両フランジ短管１４ｃは、ステンレスな
どの金属からなる芯材３０の周りに，たとえばセラミッ
クス３１をコーティングしてなる．このようにした場合
、両フランジ短管１４ｃの機械的強度が向上する．なお
、この発明は、第５図のように、真空容器ｌの両側に、
巻出機ｌ１および巻取機１３が、それぞれ、他の真空容
器ＩＡおよびＩＢ内に設けられて、両真空容器ＩＡ．Ｉ
Ｂが真空容器ｌに７ランジ接合されたものについても適
用し得る．さらに、第６図のように、巻出機１１および
巻取機ｌ３を真空容器１の外部に設けても良い．なお、
この図において、９．１０は予備真空室で、複数のシー
ルロール（図示せず）とシール室（図示せず）とをシー
ト状物Ａの走行方行に設け、上記シール室内を真空吸引
することによって，大気圧より段階的に圧力を減じて、
真空容塁１内を所定圧力に保持するのを助ける． ［発明の効果コ 以上説明したように、この発明によれば、大きな電力を
消費するシート状物のプラズマ処理装置における電力の
浪費を防止し得るとともに、異常なアーク放電を防止し
得るので、上記処理装置が工業的な処理能力を得るとと
もに、これの連続運転が可能になる．また、真空容器か
ら突出する回転軸を介して、感電するおそれがない．ま
た、軸受への負担が軽減される．
を介して、冷却媒体の往路を形成するパイプｌ７とパイ
ブ１９とを連結してい３．したがって、ドラム電極２か
ら冷却媒体を通して回転軸１４へ流れる電流が小さいの
で、回転軸１４の貫通部１４ｄおよび外側部１４ｅをド
ラム電極２から、より厳格に絶縁し得る． この発明において、絶縁体としてはセラミックス，ファ
インセラミックスまたは＃熱性，耐紫外線性もしくは＃
電子線性プラスチックスを単独で、あるいは、組合せて
用いることが好ましい．なお、パイプ１８の絶縁体とし
ては、上記の他に塩化ビニル，ゴムなども使用できる． 第４図はこの発明の両フランジ短管１４ｃの第２の実施
例を示す．この両フランジ短管１４ｃは、ステンレスな
どの金属からなる芯材３０の周りに，たとえばセラミッ
クス３１をコーティングしてなる．このようにした場合
、両フランジ短管１４ｃの機械的強度が向上する．なお
、この発明は、第５図のように、真空容器ｌの両側に、
巻出機ｌ１および巻取機１３が、それぞれ、他の真空容
器ＩＡおよびＩＢ内に設けられて、両真空容器ＩＡ．Ｉ
Ｂが真空容器ｌに７ランジ接合されたものについても適
用し得る．さらに、第６図のように、巻出機１１および
巻取機ｌ３を真空容器１の外部に設けても良い．なお、
この図において、９．１０は予備真空室で、複数のシー
ルロール（図示せず）とシール室（図示せず）とをシー
ト状物Ａの走行方行に設け、上記シール室内を真空吸引
することによって，大気圧より段階的に圧力を減じて、
真空容塁１内を所定圧力に保持するのを助ける． ［発明の効果コ 以上説明したように、この発明によれば、大きな電力を
消費するシート状物のプラズマ処理装置における電力の
浪費を防止し得るとともに、異常なアーク放電を防止し
得るので、上記処理装置が工業的な処理能力を得るとと
もに、これの連続運転が可能になる．また、真空容器か
ら突出する回転軸を介して、感電するおそれがない．ま
た、軸受への負担が軽減される．
【図面の簡単な説明】
第１図はこの発明の第１の実施例を示す概略構成図、第
２図は第１図の縦断面図、第３図はこの発明の要部を示
す縦断面図，第４図はこの発明の第２の実施例を示す絶
縁部材の縦断面図、第５図および第６図はこの発明が適
用される他のシート状物のプラズマ処理装置の概略構成
図である．１・・・真空容器、２・・・第１の放電電極
（ドラム電極）、３・・・第２の放電電極（棒電極）、
６・・・電気回路、ｌ４・・・回転軸、Ｌ４ｂ・・・導
出部、１４ｃ・・・絶縁部材（両フランジ短管），１４
ｄ・・・貫通部，ｌ６・・・メカニカルシール、Ａ・・
・シート状物．Ａ：シ一ト１人゛τｍ 第３図 第４図
２図は第１図の縦断面図、第３図はこの発明の要部を示
す縦断面図，第４図はこの発明の第２の実施例を示す絶
縁部材の縦断面図、第５図および第６図はこの発明が適
用される他のシート状物のプラズマ処理装置の概略構成
図である．１・・・真空容器、２・・・第１の放電電極
（ドラム電極）、３・・・第２の放電電極（棒電極）、
６・・・電気回路、ｌ４・・・回転軸、Ｌ４ｂ・・・導
出部、１４ｃ・・・絶縁部材（両フランジ短管），１４
ｄ・・・貫通部，ｌ６・・・メカニカルシール、Ａ・・
・シート状物．Ａ：シ一ト１人゛τｍ 第３図 第４図
Claims (2)
- （１）真空容器を貫通する回転軸に固定されて回転し、
その外周面にシート状物を沿わせるドラム形状の第１の
放電電極と、この第１の放電電極に対向する第２の放電
電極とを真空容器の内部に設けたシート状物のプラズマ
処理装置であつて、上記真空容器が上記両放電電極を接
続する電気回路から電気的に絶縁され、上記回転軸は、
この回転軸における真空容器を貫通する貫通部と、上記
回転軸における第１の放電電極から導出する導出部との
間に絶縁部材が介在されてなるシート状物のプラズマ処
理装置。 - （２）上記貫通部と上記真空容器との間には、メカニカ
ルシールが介装されていることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載のシート状物のプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61143773A JPS631443A (ja) | 1986-06-19 | 1986-06-19 | シ−ト状物のプラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61143773A JPS631443A (ja) | 1986-06-19 | 1986-06-19 | シ−ト状物のプラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS631443A true JPS631443A (ja) | 1988-01-06 |
| JPH0475777B2 JPH0475777B2 (ja) | 1992-12-01 |
Family
ID=15346683
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61143773A Granted JPS631443A (ja) | 1986-06-19 | 1986-06-19 | シ−ト状物のプラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS631443A (ja) |
-
1986
- 1986-06-19 JP JP61143773A patent/JPS631443A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0475777B2 (ja) | 1992-12-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4223048A (en) | Plasma enhanced chemical vapor processing of semiconductive wafers | |
| EP0508833B1 (en) | Surface treating method and apparatus | |
| US5627435A (en) | Hollow cathode array and method of cleaning sheet stock therewith | |
| US5938854A (en) | Method and apparatus for cleaning surfaces with a glow discharge plasma at one atmosphere of pressure | |
| US8709351B2 (en) | Atmospheric treater with roller confined discharge chamber | |
| KR870010942A (ko) | 플라즈마표면처리장치 및 방법 | |
| JPWO2010052846A1 (ja) | 巻取式真空処理装置 | |
| CN101277576A (zh) | 双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统 | |
| JPS62136596A (ja) | 金属ウエブへの連続電解処理装置 | |
| JPS631443A (ja) | シ−ト状物のプラズマ処理装置 | |
| JP3341179B2 (ja) | 大気圧グロ−放電用電極及び該電極を使用したプラズマ処理方法 | |
| JP4306033B2 (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
| JP2002058995A (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
| JPS6411055B2 (ja) | ||
| JP2002143795A (ja) | 液晶用ガラス基板の洗浄方法 | |
| JPH043771B2 (ja) | ||
| JP2001102198A (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
| CN216338713U (zh) | 材料表面处理装置 | |
| JPS63134052A (ja) | シ−ト状物のプラズマ処理装置 | |
| JPH0527455B2 (ja) | ||
| JPS62289233A (ja) | シ−ト状物のプラズマ処理装置 | |
| JPH0357146B2 (ja) | ||
| JP2509412Y2 (ja) | 焼鈍・乾燥システム | |
| JPH0646990Y2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JP3517666B2 (ja) | ガス密閉機構およびこのガス密閉機構を使用した表面処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |