JPS6315005Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 技術分野 本考案は、金属または酸化物または窒化物等の
セラミツク、ガラス等の表面の鏡面加工を行うポ
リシング盤の改良に関するものである。

背景技術 この種のポリシング盤においては、金属または
酸化物または窒化物等のセラミツク、ガラス等の
工作物との摩擦で盤本体が発熱するものである
が、その発熱温度が一定でないため、工作物の平
面度や研磨スピード等を安定させることができな
い。

従来、その定盤の温度を一定にするべく、盤本
体内に冷却水の流動パイプ等をスパイラル状に配
管するものが知られている（特開昭58−44956
号）。然し、これではパイプ等の軸線に接する周
辺部分にあつては速やかに冷却できても、多少離
れた部分になると冷却作用が及び難いため全体と
して冷却効率が悪い。また、冷却水の通路がスパ
イラル状になつているところから入口側にあつて
は冷却水が低温で速やかに冷却できるものの、出
口側に至ると冷却水が帯熱するために冷却作用が
低下して全体として均等な冷却処理を行えないば
かりでなく、パイプ等が劣化し易いところから使
用耐久性にも欠けるものである。

また、環状バツフルパネルの板面に上方及び下
方に突出する打出し突起を複数点在させて設け、
その各突起でポリシング盤となる装着板ユニツト
の中央開口部から流し込む冷却媒体を分散流動す
るものも知られている（特公昭48−14234号）。然
し、これでは突起がバツフルパネルの板面に点在
させて形成されているにすぎないため、装着板ユ
ニツトが回動するに伴つて冷却流体を遠心方向で
分散させるのみで数回循環させて流動するよう作
用するものではなく、その冷却媒体は装着板ユニ
ツトの帯熱を十分に吸収できる時間を持つて装着
板ユニツトの室内で流動せずに速やかに流通して
しまうことになる。

これに代えて、定盤の本体下面より水をかける
等の設備を付設するものもあるが、ポリシング装
置と一体で高価なものになるばかりでなく、既設
の装置には簡単に取付けることができない。

考案の開示 本考案は、簡単な機構でしかも的確に盤本体を
一定温度に保つことのできるポリシング盤を提供
すること、を目的とする。

即ち、本考案に係るポリシング盤においては、
水または所望温度の温湯を板面中央の注入口から
流し込む上盤と、その水または温湯を内面で流動
させて周側部の排出口より流し出す下盤とを貼り
合せてなり、上盤の注入口と対応する下盤の内面
位置から周側部との間にリング状の立壁部を少な
くとも一つ設けて下盤の内面に数区画の凹溝を形
成し、この立壁部の周側面を一部切欠いて下盤の
排出口から反対位置に水または温湯の流出口を設
け、上盤の注入口から流し込む水または温湯を下
盤の各凹溝に沿つて循環流動可能に構成されてい
る。

実施例 以下、添付図面を参照して説明すると、次の通
りである。

このポリシング盤は上盤１ａ、下盤１ｂの二枚
を互いに貼り合せることにより、盤本体１が円板
状に形成されている。その上盤１ａとしては軟質
金属板製のものが用いられ、また、下盤１ｂとし
ては細かい砥粒を膠または熱硬化性のプラスチツ
クなどで固着したもの或いは金属を用いて形成す
ることができる。このポリシング盤では下盤１ｂ
の下面が加工物の鏡面を形成するものであり、片
面ポリシングとして用いられるようになつてい
る。

これら盤本体１を形成するもののうち、上盤１
ａには水または所望温度の湯を流し込む注入口２
が板面中央に開孔されている。また、下盤１ｂに
は板平面を刳り抜き成形した凹溝３ａ，３ｂが設
けられている。この凹溝３ａ，３ｂは、上盤１ａ
の注入口２と対応する下盤１ｂの内面位置から周
側部４との間にリング状の立壁部５を周側部４と
同心円上に設けることにより数区画に区分させて
下盤１ｂの内面に設けられている。その立壁部５
には周側面を一部切欠いて水または温湯の流出口
６が設けられており、この流出口６は下盤１ｂの
周側部４を一部切欠いて形成した排出口７と反対
位置に設けられている。

このように構成するポリシング盤では上盤１ａ
の注入口２から水または温湯を流し込むと、立壁
部５で区画した凹溝３ａが受け取りしかも盤本体
１の回転で立壁部５の凹溝３ａに沿つて数回循環
動させつつ広く拡散して流出口６から次の区画に
徐々に流出動する。その次の凹溝３ｂでは排出口
７が立壁部５の流出口６と反対位置で周側部４に
形成されているから、水または温湯が排出口７よ
り直に流出されずに凹溝３ａの内面と同様に数回
循環動して徐々に排出されるようになる。この途
上でも水または温湯が上盤１ａの注入口２から流
し込まれているため、それが各凹溝３ａ，３ｂの
内部で循環する水または温湯に混和されることに
より循環流が高温にならず、盤本体１の内部から
作用して加工物を研磨する下盤１ｂに直接接触す
るところから盤本体１の温度を効率よく常時一定
に保つことができるようになる。

なお、上述した実施例では立壁部５を一つ設け
たが、これを周側部４と同心円上で間隔をへだて
て複数個設けると共に、その各立壁部に設ける流
出口を周側部４の排出口７より順次に反対位置に
形成して凹溝を３つ以上設けるよう構成すること
もできる。

考案の効果 以上の如く、本考案に係るポリシング盤に依れ
ば、上盤の注入口から流し込む水または温湯で盤
本体を所定温度に効率よく保てることにより簡単
な機構で金属工作物の平面度や研磨スピード等を
安定させることを可能にするものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例に係るポリシング盤
の展開斜視図、第２図は同ポリシング盤の組立斜
視図である。 １：盤本体、１ａ：上盤、１ｂ：下盤、２：注
入口、３ａ，３ｂ：凹溝、４：周側部、５：立壁
部、６：流出口、７：排出口。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 水または所望温度の温湯を板面中央の注入口
   から流し込む上盤と、その水または温湯を内面
   で流動させて周側部の排出口より流し出す下盤
   とを貼り合せた円板状のポリシング盤におい
   て、上記上盤の注入口と対応する下盤の内面位
   置から周側部との間にリング状の立壁部を少な
   くとも一つ設けて下盤の内面に数区画の凹溝を
   形成し、この立壁部の周側面を一部切欠いて下
   盤の排出口から反対位置に水または温湯の流出
   口を設け、上盤の注入口から流し込む水または
   温湯を下盤の各凹溝に沿つて循環流動可能に構
   成したことを特徴とするポリシング盤。 (2) 上記流出口が、下盤の周側部と同心円上で複
   数間隔をへだてて設けた各立壁部の周側面を一
   部切欠いて下盤の排出口から順次に反対位置に
   形成されているところの実用新案登録請求の範
   囲第１項記載のポリシング盤。