JPS6315810Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6315810Y2 JPS6315810Y2 JP17934882U JP17934882U JPS6315810Y2 JP S6315810 Y2 JPS6315810 Y2 JP S6315810Y2 JP 17934882 U JP17934882 U JP 17934882U JP 17934882 U JP17934882 U JP 17934882U JP S6315810 Y2 JPS6315810 Y2 JP S6315810Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- retroreflective
- substrate
- light
- space
- frost
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 21
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 14
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 14
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は、結霜または結露を検知するための
装置に関し、特に再帰反射性光学手段を用いた結
霜・結露検知装置に関する。
装置に関し、特に再帰反射性光学手段を用いた結
霜・結露検知装置に関する。
再帰反射性光学手段を用いた結霜または結露検
知装置が、同一出願人の未公開の特願昭56−
102365号において開示されている。再帰反射性光
学手段を用いることにより、入射光線と反射光線
とを平行にし、それによつて投光素子と受光素子
との近接配置を達成せんとするものである。
知装置が、同一出願人の未公開の特願昭56−
102365号において開示されている。再帰反射性光
学手段を用いることにより、入射光線と反射光線
とを平行にし、それによつて投光素子と受光素子
との近接配置を達成せんとするものである。
ところで、この再帰反射性光学手段は透明フイ
ルム中に再帰反射球が樹脂中に多数分散された再
帰反射膜の形態を有する。したがつて、でき上が
つた再帰反射膜中の再帰反射球の密度は一様では
なかつた。このため再帰反射膜を用いた結霜・結
露検知装置では、再帰反射球の密度にばらつきが
あるため、再帰反射膜により反射される反射光の
強度は再帰反射膜上の位置によりばらついてい
た。そのため、再帰反射膜の一定の位置に投光素
子からの光が投射されるように構成した結霜・結
露検知装置では、各製品間において受光素子に与
えられる反射光の強度がかなりの範囲にわたりば
らつくという欠点が存在した。そのため結霜・結
露検知装置に接続される回路で補償すること、あ
るいは一定の範囲の出力を与える製品のみを選定
することなどが必要であつた。
ルム中に再帰反射球が樹脂中に多数分散された再
帰反射膜の形態を有する。したがつて、でき上が
つた再帰反射膜中の再帰反射球の密度は一様では
なかつた。このため再帰反射膜を用いた結霜・結
露検知装置では、再帰反射球の密度にばらつきが
あるため、再帰反射膜により反射される反射光の
強度は再帰反射膜上の位置によりばらついてい
た。そのため、再帰反射膜の一定の位置に投光素
子からの光が投射されるように構成した結霜・結
露検知装置では、各製品間において受光素子に与
えられる反射光の強度がかなりの範囲にわたりば
らつくという欠点が存在した。そのため結霜・結
露検知装置に接続される回路で補償すること、あ
るいは一定の範囲の出力を与える製品のみを選定
することなどが必要であつた。
それゆえに、この考案は、上述の欠点を解消
し、受光素子に与えられる反射光の強度にばらつ
きのない新規な結霜・結露検知装置を提供するこ
とを目的とする。
し、受光素子に与えられる反射光の強度にばらつ
きのない新規な結霜・結露検知装置を提供するこ
とを目的とする。
この考案は、要約すれば、基板と、この基板上
に形成された複数個の再帰反射球からなる再帰反
射性光学手段と、この光学手段に光を投光する投
光素子と、光学手段からの反射光を受光する受光
素子とを備え、基板上には所定数の再帰反射球が
収納されるスペースが形成されており、このスペ
ースによつて再帰反射球が一様に配列されている
ことを特徴とする、結霜・結露検知装置である。
に形成された複数個の再帰反射球からなる再帰反
射性光学手段と、この光学手段に光を投光する投
光素子と、光学手段からの反射光を受光する受光
素子とを備え、基板上には所定数の再帰反射球が
収納されるスペースが形成されており、このスペ
ースによつて再帰反射球が一様に配列されている
ことを特徴とする、結霜・結露検知装置である。
この考案の上述の目的およびその他の目的と特
徴は、図面を参照して行なう以下の説明により明
らかとなろう。
徴は、図面を参照して行なう以下の説明により明
らかとなろう。
第1図は、この考案の一実施例を示す概略斜視
図であり、第2図は第1図の−線断面図であ
る。第1図を参照して、基板1上に再帰反射性光
学手段として再帰反射膜2が形成されている。基
板1からは、連結部3,4が延びており、連結部
3,4の他方端部は、投光素子5および受光素子
6(第2図を参照されたい。)を備える支持部7
に固定されている。この結霜・結露検知装置で
は、投光素子5より再帰反射膜2に光が投射さ
れ、再帰反射膜2により反射された光が受光素子
6に与えられる。今、結霜または結露が再帰反射
膜2の表面に生じた場合には、この反射光の光の
強度が減少するため、受光素子6からの出力によ
り各状態を識別することができる。なお、8は基
板1を機器に固定するための孔である。ここまで
は、同一出願人の未公開特願昭56−102365号の結
霜または結露検知装置と同一である。
図であり、第2図は第1図の−線断面図であ
る。第1図を参照して、基板1上に再帰反射性光
学手段として再帰反射膜2が形成されている。基
板1からは、連結部3,4が延びており、連結部
3,4の他方端部は、投光素子5および受光素子
6(第2図を参照されたい。)を備える支持部7
に固定されている。この結霜・結露検知装置で
は、投光素子5より再帰反射膜2に光が投射さ
れ、再帰反射膜2により反射された光が受光素子
6に与えられる。今、結霜または結露が再帰反射
膜2の表面に生じた場合には、この反射光の光の
強度が減少するため、受光素子6からの出力によ
り各状態を識別することができる。なお、8は基
板1を機器に固定するための孔である。ここまで
は、同一出願人の未公開特願昭56−102365号の結
霜または結露検知装置と同一である。
この実施例の特徴は、再帰反射膜2および基板
1の構成にある。基板1および再帰反射膜2を拡
大して平面図で示す第3図および第3図の−
線断面図である第5図を参照して、再帰反射膜2
は基板1上に接着された枠体10内に形成されて
いる。なお、理解を容易とするために再帰反射膜
2は基板1に比べて大きく表わしている。この枠
体10はその内側で再帰反射膜2を構成する再帰
反射球12が最密充填し得るような形状および大
きさを有する。この実施例の再帰反射膜2は、枠
体10内部のスペース10a内に多数の再帰反射
球12を最密充填し、次に透明な樹脂(図示せ
ず)を各再帰反射球2間に流し込むことにより作
られる。したがつて、多数の再帰反射球12がス
ペース10a内で一様に分布するため、再帰反射
膜2により反射される光の強度は、再帰反射膜2
上のいずれの位置でもほぼ等しい。このためこの
実施例の結霜・結露検知装置では、再帰反射膜2
のいずれの位置に対向して投光素子5および受光
素子6を配置してもよく、また完成した製品間の
出力のばらつきもほとんどない。
1の構成にある。基板1および再帰反射膜2を拡
大して平面図で示す第3図および第3図の−
線断面図である第5図を参照して、再帰反射膜2
は基板1上に接着された枠体10内に形成されて
いる。なお、理解を容易とするために再帰反射膜
2は基板1に比べて大きく表わしている。この枠
体10はその内側で再帰反射膜2を構成する再帰
反射球12が最密充填し得るような形状および大
きさを有する。この実施例の再帰反射膜2は、枠
体10内部のスペース10a内に多数の再帰反射
球12を最密充填し、次に透明な樹脂(図示せ
ず)を各再帰反射球2間に流し込むことにより作
られる。したがつて、多数の再帰反射球12がス
ペース10a内で一様に分布するため、再帰反射
膜2により反射される光の強度は、再帰反射膜2
上のいずれの位置でもほぼ等しい。このためこの
実施例の結霜・結露検知装置では、再帰反射膜2
のいずれの位置に対向して投光素子5および受光
素子6を配置してもよく、また完成した製品間の
出力のばらつきもほとんどない。
上述の実施例では、枠体10は、第4図からも
明らかなように、スペース10aを規定する凹部
を有しており、かつ基板1の上面に接着されて形
成されていた。しかしながら、第5図に第4図に
相当する断面図で示すように、スペース10aは
基板1自身に直接凹部の形態で形成してもよい。
また、スペース10aの底部に各再帰反射球12
が固定的に配置されるように、再帰反射球12の
大きさに適合する複数個の窪みを形成してもよ
い。これにより複数個の再帰反射球12の最密充
填または整列配置をよりたやすく実現し得る。
明らかなように、スペース10aを規定する凹部
を有しており、かつ基板1の上面に接着されて形
成されていた。しかしながら、第5図に第4図に
相当する断面図で示すように、スペース10aは
基板1自身に直接凹部の形態で形成してもよい。
また、スペース10aの底部に各再帰反射球12
が固定的に配置されるように、再帰反射球12の
大きさに適合する複数個の窪みを形成してもよ
い。これにより複数個の再帰反射球12の最密充
填または整列配置をよりたやすく実現し得る。
第6図はこの考案の他の実施例を示す平面図で
あり、第7図は第6図の−線断面図である。
この実施例では、再帰反射球12はメツシユ13
内部に配列されている。すなわちメツシユ13の
網目の1つ1つに再帰反射球12が充填されてい
る。再帰反射球12が充填されたメツシユ13に
透明樹脂(図示せず)が塗布または浸透されて、
再帰反射膜2が形成されている。このような再帰
反射膜2を基板1に接着することによりこの実施
例を得ることができる。第6図および第7図に示
した実施例では、メツシユ13の各網目が、それ
ぞれ、再帰反射球12を整列配置するためのスペ
ース13aを形成している。このように、この考
案の「スペース」とは、1個以上の所定数の再帰
反射球を収納し得る空間であり、このスペースに
より再帰反射球が基板1上で一様に配列される。
あり、第7図は第6図の−線断面図である。
この実施例では、再帰反射球12はメツシユ13
内部に配列されている。すなわちメツシユ13の
網目の1つ1つに再帰反射球12が充填されてい
る。再帰反射球12が充填されたメツシユ13に
透明樹脂(図示せず)が塗布または浸透されて、
再帰反射膜2が形成されている。このような再帰
反射膜2を基板1に接着することによりこの実施
例を得ることができる。第6図および第7図に示
した実施例では、メツシユ13の各網目が、それ
ぞれ、再帰反射球12を整列配置するためのスペ
ース13aを形成している。このように、この考
案の「スペース」とは、1個以上の所定数の再帰
反射球を収納し得る空間であり、このスペースに
より再帰反射球が基板1上で一様に配列される。
また、メツシユ13は、第6図に示したものに
限らず、第8図に部分平面図で示すように網目状
に複数個の再帰反射球12が形成されるものでも
よい。再帰反射球12の分布密度を一様にすると
いう効果を有することに変わりはないからであ
る。
限らず、第8図に部分平面図で示すように網目状
に複数個の再帰反射球12が形成されるものでも
よい。再帰反射球12の分布密度を一様にすると
いう効果を有することに変わりはないからであ
る。
以上のように、この考案によれば、基板上に所
定数の再帰反射球が収納されるスペースが形成さ
れており、このスペースにより再帰反射球が一様
に配列されているため、再帰反射膜の任意の位置
での反射光の強度を一様とすることができ、した
がつて製品間の反射光強度のばらつきを極めて効
果的に防止し得る。
定数の再帰反射球が収納されるスペースが形成さ
れており、このスペースにより再帰反射球が一様
に配列されているため、再帰反射膜の任意の位置
での反射光の強度を一様とすることができ、した
がつて製品間の反射光強度のばらつきを極めて効
果的に防止し得る。
第1図はこの考案の一実施例の概略斜視図であ
る。第2図は第1図の−線断面図であ。第3
図は、第1図および第2図に示した実施例の基板
1を拡大して示す平面図である。第4図は第3図
の−線断面図である。第5図はスペースの変
形例を示す断面図であり、第4図に相当する図で
ある。第6図はこの考案の他の実施例の基板およ
び再帰反射膜を示す平面図であり第3図に相当す
る図である。第7図は、第6図の−線断面図
である。第8図は、メツシユの変形例を示す略平
面図である。 1……基板、2……再帰反射性光学手段として
の再帰反射膜、5……投光素子、6……受光素
子、10a……スペース、12……再帰反射球、
13a……スペース。
る。第2図は第1図の−線断面図であ。第3
図は、第1図および第2図に示した実施例の基板
1を拡大して示す平面図である。第4図は第3図
の−線断面図である。第5図はスペースの変
形例を示す断面図であり、第4図に相当する図で
ある。第6図はこの考案の他の実施例の基板およ
び再帰反射膜を示す平面図であり第3図に相当す
る図である。第7図は、第6図の−線断面図
である。第8図は、メツシユの変形例を示す略平
面図である。 1……基板、2……再帰反射性光学手段として
の再帰反射膜、5……投光素子、6……受光素
子、10a……スペース、12……再帰反射球、
13a……スペース。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 基板と、この基板上に形成された複数個の再帰
反射球からなる再帰反射性光学手段と、前記光学
手段に光を投光する投光素子と、前記光学手段か
らの反射光を受光する受光素子とを備える結霜・
結露検知装置であつて、 前記基板上には、所定数の再帰反射球が収納さ
れるスペースが形成されており、そのスペースに
よつて前記再帰反射球が一様に配列されているこ
とを特徴とする、結霜・結露検知装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17934882U JPS5982840U (ja) | 1982-11-25 | 1982-11-25 | 結霜・結露検知装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17934882U JPS5982840U (ja) | 1982-11-25 | 1982-11-25 | 結霜・結露検知装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5982840U JPS5982840U (ja) | 1984-06-04 |
| JPS6315810Y2 true JPS6315810Y2 (ja) | 1988-05-06 |
Family
ID=30389153
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17934882U Granted JPS5982840U (ja) | 1982-11-25 | 1982-11-25 | 結霜・結露検知装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5982840U (ja) |
-
1982
- 1982-11-25 JP JP17934882U patent/JPS5982840U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5982840U (ja) | 1984-06-04 |
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