JPS6316414A - 磁気記録体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、情報を残留磁化パターンの形で記録する磁
気記録体に関するものである。

［従来の技術］ 第３図は従来の磁気記録体を模式的に示す断面図である
０図において、１はアルミ合金を主体とする基板、２は
基板１の強度を補うためのメッキ処理等を施した下地硬
化層、３は磁性層の配向性と密着性向上のためのクロム
下地層、４はコバルト、コバルト−ニッケル合金等の磁
性体薄膜をスパッタリング等の方法により形成した磁性
層である。

磁気記録の原理は周知のように、強磁性体の薄層からな
る記録媒体を記録ヘッドに沿って走らせ、ヘッドギャッ
プ近傍に生じる記録磁界により記録媒体に入力信号に対
応した残留磁化パターンを記録するものである。

従来の磁気記録体は、その記録層に六方最密構造のコバ
ルトおよびコバルト系合金の磁化容易軸方向であるＣ軸
を膜面に平行に配向させ１面内方向に残留磁化パターン
を記録する。

［発明が解決しようとする間運点］ 従来の磁気記録体は以上のように構成されているので、
コバルトおよびニッケルを主成分とした合金の磁化容易
軸方向であるＣ軸を膜面に対して平行に配向させること
は容易ではなかった。また、面内方向にＣ軸配向させる
ことはスパッタ法成膜で制御されるが、スパッタ法によ
ると成膜精度が約３０００人／ｗｉｎ以下でないと安定
で再現性良好な膜を得ることは回置であるなどの問題点
があった。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、安定で再現性良好な磁気記録層が容易にでき
る磁気記録体を得ることを目的とする。

［問題点を解決するための手段］ この発明に係る磁気記録体は、コバルトおよびニッケル
を主成分とする磁気記録層を有し、同磁気記録層が、面
心立方格子構造をとり、その（１１１）面が膜面に平行
となるように配向せしめられたものである。

［作　用］ この発明における磁気記録体は、面心立方格子構造のコ
バルト−ニッケルの磁化容易軸が膜面と平行に向くこと
により面内記録を可能にする。

［発明の実施例］ 以下、この発明の一実施例を第１図について説明する。

図中、１はアルミ合金を主体とした基板、２はメッキ処
理等を施した下地硬化層、３はクロム下地層、５は磁気
記録層である。

ところで、クロム下地層３は、体心立方格子構造をとり
、その（１１０）面が膜面に平行となるような配向性を
もち、この上層である磁気記録層５の（１１１）面が膜
面に対して平行に配向する、換言すれば磁気記録層５の
［１１１１方向が膜面に垂直となるように配向すること
を助長する。

また、磁気記録層５は上記クロム下地層３上にコバルト
およびコバルト−ニッケル（すなわちコバルト−ニッケ
ル合金）の蒸着膜として形成され、しかも面心立方格子
構造をとり、そのコバルト−ニッケルの（１１１）面が
膜面に平行になるように、すなわち［ｌ　１１］方向が
膜面と垂直となるように配向させている。これにより面
心立方格子構造におけるコバルト−ニッケルの磁化容易
軸（Ｃ軸）が膜面と平行に向き、面内記録を可能にする
。

また、この発明は蒸着によりクロム下地層３や磁気記録
層５の膜形成を行なうのでスパッタリング等に比べ成膜
速度がはやくなる。

さらに、面心立方格子構造のコバルトおよびコバルト−
ニッケルは磁化容易軸が３方向を向いており、その個々
の異方性エネルギーの値に大きな差が認められない、す
なわち垂直方向と面内方向との磁気異方性エネルギーの
差が小さいので、この磁気記録体を面内記録および垂直
記録としての媒体に十分使用可能となるものである。

次に、この発明の実験結果の一例を説明する。

８０＋ａ＋ａφのガラス基板上に、クロムを真空蒸着法
により成膜した。この成膜条件は真空度を８Ｘ１０−”
　　　“ｔｏｒｒ　、膜厚を約３０００人、成膜速度を
１５００人／ｗｉｎとした。この上に、上記構造のコバ
ルト−ニッケルの磁気記録層を真空蒸着法により成膜し
た。この成膜条件は真空度をａｘｌｏ−’　ｔｏｒｒ、
　１ｇ厚を約５００人、成膜速度を１０００人／ｗｉｎ
とした。このようにして得た磁気記録体のｘ！！回析パ
ターンを・第２図に示す。この図から２θ斗４４″にシ
ャープなピークが認められることがわかる。

このシャープなピークは体心立方格子構造であるクロム
の（１１０）面と六方最密構造のコバルト−ニッケルの
（１１１）面の重なり合ったピークとして理解できる。

また、上記磁気記録体の磁気特性測定結果の一例を挙げ
ると、飽和磁束密度Ｂｓは１８００Ｇ。

残留磁束密度Ｂｒは１７００Ｇ、抗磁力Ｈｃは２０００
　ｅ　、角型比は０．９４となった、この結果からその
磁気記録体は角型比の良好な特性をもつことがわかる。

なお、上記実施例では、基板としてガラス板を用いたが
、その他アルミ合金やプラスチック等の基板を採用して
もよい。

［発明の効果コ 以上のようにこの発明によ九ば、磁気記録層が面心立方
格子構造をとり、その（１１１）面が膜面に平行となる
ように配向せしめられているので、安定して再現性の良
い磁気記録体を製作することができ、また成膜コストも
安価にできる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例による磁気記録体の模式的
断面図、第２図はこの発明の実験例によるＸ線回折パタ
ーン図であり、第３図は従来の磁気記録体の模式的断面
図である。 図において、３〜クロム下地層、５−・磁気記録層。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）コバルトおよびニッケルを主成分とする磁気記録
   層を有し、同磁気記録層が、面心立方格子構造をとり、
   その（１１１）面が膜面に平行となるように配向せしめ
   られたことを特徴とする磁気記録体。
2. （２）上記磁気記録層の下側にクロムを主成分とする下
   地層を有し、同下地層が、体心立方格子構造をとり、そ
   の（１１０）面が膜面に平行になるような配向性をもつ
   層として形成されたことを特徴とする特許請求の範囲第
   １項記載の磁気記録体。
3. （３）上記の磁気記録層および下地層がそれぞれ蒸着層
   として形成されたことを特徴とする特許請求の範囲第１
   項または第２項記載の磁気記録体。
4. （４）上記磁気記録層が面心立方構造のコバルトおよび
   コバルト−ニッケルを成分としていることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれかに記載の
   磁気記録体。