JPH01220217A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ａ、産業上の利用分野
本発明は薄膜コバルト合金の磁性媒体、特に、もっとも
磁化しやすい軸が媒体表面と平行になるよう磁気記録層
の原子を配向することによって記録密度を最適化する媒
体構造と製造方法に関するものである。
磁化しやすい軸が媒体表面と平行になるよう磁気記録層
の原子を配向することによって記録密度を最適化する媒
体構造と製造方法に関するものである。
Ｂ、従来技術及び発明が解決しようとする問題点硬質磁
気ディスク表面の記Ｂ密度を高める研究から、薄膜媒体
は、ディスク媒体に粒子を用いる場合よりも多くの利点
を持つことが知られている。
気ディスク表面の記Ｂ密度を高める研究から、薄膜媒体
は、ディスク媒体に粒子を用いる場合よりも多くの利点
を持つことが知られている。
薄膜媒体は、材料の磁化の強さを示す残留磁気（Ｍｒ）
の値が大きい。非磁性ポリマ結合剤によ−〕で磁化が弱
まることがないためである。さらに磁性膜は本来、粒子
膜に用いられる酸化物粒子よりも強力な磁性材料である
。
の値が大きい。非磁性ポリマ結合剤によ−〕で磁化が弱
まることがないためである。さらに磁性膜は本来、粒子
膜に用いられる酸化物粒子よりも強力な磁性材料である
。
良好な薄ＩＩ！４Ｆａ気ディスクを製造するのは、厚さ
が均一な金属の磁ｔｔ層を被着するだけにとどまらない
。磁気異方性（材料が特定の方向に磁化される性質）は
厳密に制御しなければならない。そうでない場合、読み
取られた信号の変調などの悪影響がでる。縦方向の記録
に適した磁性膜をつくるＥ、１つの主眼点として、磁気
異方性が平面に現われるようにする。平面で配回した状
態を最適化するには、さらに、ディスクの回転時に平面
で信号の変化や変調を克服するとともに、磁気の向きを
不規則にまたは円周方向にすることが必要である。この
ような水平方向の整合が望ましいのは、角形比の高いヒ
ステリシス曲線を得るためであり、これによって記録密
度を高めることができる。
が均一な金属の磁ｔｔ層を被着するだけにとどまらない
。磁気異方性（材料が特定の方向に磁化される性質）は
厳密に制御しなければならない。そうでない場合、読み
取られた信号の変調などの悪影響がでる。縦方向の記録
に適した磁性膜をつくるＥ、１つの主眼点として、磁気
異方性が平面に現われるようにする。平面で配回した状
態を最適化するには、さらに、ディスクの回転時に平面
で信号の変化や変調を克服するとともに、磁気の向きを
不規則にまたは円周方向にすることが必要である。この
ような水平方向の整合が望ましいのは、角形比の高いヒ
ステリシス曲線を得るためであり、これによって記録密
度を高めることができる。
Ｃ１問題点を解決するための手段
薄膜コバルト合金媒体の磁性を水平記録の点で最適化す
るには、六法最密構造のコバルト原子群を、Ｃ軸を記録
面に平行にして配向する必要がある９、このためには、
コバルト原子を、コバルト（１１０）または（１００）
面に沿って露出しな）°層面に付着する必要がある。ク
ロム下層の原子の（１００）面を記録面と平行にするこ
とによって、（１１０）面に沿うクロムｉｌｌ造にコバ
ルト合金原子を付着することができる。
るには、六法最密構造のコバルト原子群を、Ｃ軸を記録
面に平行にして配向する必要がある９、このためには、
コバルト原子を、コバルト（１１０）または（１００）
面に沿って露出しな）°層面に付着する必要がある。ク
ロム下層の原子の（１００）面を記録面と平行にするこ
とによって、（１１０）面に沿うクロムｉｌｌ造にコバ
ルト合金原子を付着することができる。
２課特性を最適にするため原子の整合をとるとき、これ
を制御する因子はいくつかあるが、主要因は下層の同一
性、配向、そして厚みである。薄い（１００オングスト
ローム）クロム下層を、高速のスパッタ条件（毎分１０
００オングストローム以上）で１１着すると、いわゆる
（１１０）配向が得られる。これによりコバルト・プラ
チナ合金、コバルト・プラチナ・クロム合金などのコバ
ルト合金膜では、磁化容易軸（Ｃ軸）が平面にあるエピ
タキシャル成長が可能になる。
を制御する因子はいくつかあるが、主要因は下層の同一
性、配向、そして厚みである。薄い（１００オングスト
ローム）クロム下層を、高速のスパッタ条件（毎分１０
００オングストローム以上）で１１着すると、いわゆる
（１１０）配向が得られる。これによりコバルト・プラ
チナ合金、コバルト・プラチナ・クロム合金などのコバ
ルト合金膜では、磁化容易軸（Ｃ軸）が平面にあるエピ
タキシャル成長が可能になる。
また、磁気特性を最適化し、読取信号の変調を避けるに
は、Ｉｉａ化容易軸を不規則にするかまたは円周方向に
揃えるのがよい。媒体の角形比（Ｓ ＝ Ｍ ｒ ／
Ｍ ｓ ）は、磁性層の磁気特性をみる尺度である。大
きな値（ｌに近い）が望ましく、これは信号安定度が高
く、変換時間が短くなることを示す。角形比（Ｓ）は１
選択する磁性層の素材と、磁化容易軸の向きによって決
まる。
は、Ｉｉａ化容易軸を不規則にするかまたは円周方向に
揃えるのがよい。媒体の角形比（Ｓ ＝ Ｍ ｒ ／
Ｍ ｓ ）は、磁性層の磁気特性をみる尺度である。大
きな値（ｌに近い）が望ましく、これは信号安定度が高
く、変換時間が短くなることを示す。角形比（Ｓ）は１
選択する磁性層の素材と、磁化容易軸の向きによって決
まる。
Ｄ、実施例
第１図は、本発明による薄膜ディスクの断面である。現
用の硬質ディスク製品はほぼすべて、ディスクの磁性膜
がアルミニウム合金基板上にある。代表的な外径１３０
１のディスクで、基板６の厚みは１．９ｍｎ＋である。
用の硬質ディスク製品はほぼすべて、ディスクの磁性膜
がアルミニウム合金基板上にある。代表的な外径１３０
１のディスクで、基板６の厚みは１．９ｍｎ＋である。
基板６の上に重なる第１層７は、硬質ニッケル・リン（
Ｎ ｉ Ｐ）合金を無電解めっき法によってアルミ面に
被着したものである。この面はしたがって硬さがカーボ
ン鋼に等しく （６００ｋｇ／ｎ＋ｍ”） 、非常に
薄くテ脆イｆｄｌ性層にとって堅固なベースになる。さ
らに、ＮｉＰにより、研磨処理を施すことできわめて精
度のよい、平滑な表面仕上げが可能になる。このような
仕上げは柔らかいアルミニウム面だけでは実現しにくい
。研磨仕上げＮｉＰの表面組織は、これに続（ディスク
構造の各層で反復する。最終的なディスクの表面は、記
録ヘッドが接近でき、ディスクの摩耗を促進するような
ヘッドとディスクの相ａ作用を極力少なくするよう、凹
凸が全くない状態でなければならない。
Ｎ ｉ Ｐ）合金を無電解めっき法によってアルミ面に
被着したものである。この面はしたがって硬さがカーボ
ン鋼に等しく （６００ｋｇ／ｎ＋ｍ”） 、非常に
薄くテ脆イｆｄｌ性層にとって堅固なベースになる。さ
らに、ＮｉＰにより、研磨処理を施すことできわめて精
度のよい、平滑な表面仕上げが可能になる。このような
仕上げは柔らかいアルミニウム面だけでは実現しにくい
。研磨仕上げＮｉＰの表面組織は、これに続（ディスク
構造の各層で反復する。最終的なディスクの表面は、記
録ヘッドが接近でき、ディスクの摩耗を促進するような
ヘッドとディスクの相ａ作用を極力少なくするよう、凹
凸が全くない状態でなければならない。
アルミ基板６は最初、研磨して平滑度を高める（４０オ
ングストロ一ムＲＭＳ）、別に、表面に円周方向（環状
）の組織を付加してもよい（径方向で６５オングストロ
ーム）。これは、環状の溝に沿う粒子の並びが良好なた
め、粘着や摩耗をすくなくすると同時に磁気特性を改′
善する。表面に組織を加えた場合のディスク表面の均一
性、粗面度をもってしても、記録ヘッドは干渉や相互作
用を起こすことなく、内径で７マイクロインチの間隔を
保つことができる。
ングストロ一ムＲＭＳ）、別に、表面に円周方向（環状
）の組織を付加してもよい（径方向で６５オングストロ
ーム）。これは、環状の溝に沿う粒子の並びが良好なた
め、粘着や摩耗をすくなくすると同時に磁気特性を改′
善する。表面に組織を加えた場合のディスク表面の均一
性、粗面度をもってしても、記録ヘッドは干渉や相互作
用を起こすことなく、内径で７マイクロインチの間隔を
保つことができる。
ＮｉＰ層７を加えたあと、クロム下層８、強磁性コバル
ト合金の磁性層９、保護被覆１０を、スパッタリング装
置で順次塗布する。この工程は全体をインライン・プロ
セスで行なえる。この場合、複数のディスクを支持する
垂直パレットを数分間スパッタし、大量のディスクを低
コストで製造でき、非常に均一な膜厚と磁気特性が得ら
れる。スパッタリング工程から出したあと、滑材の有機
単層１１を、特別設計の機器を用い、温度条件を厳密に
制御して被着する。
ト合金の磁性層９、保護被覆１０を、スパッタリング装
置で順次塗布する。この工程は全体をインライン・プロ
セスで行なえる。この場合、複数のディスクを支持する
垂直パレットを数分間スパッタし、大量のディスクを低
コストで製造でき、非常に均一な膜厚と磁気特性が得ら
れる。スパッタリング工程から出したあと、滑材の有機
単層１１を、特別設計の機器を用い、温度条件を厳密に
制御して被着する。
記録密度の高い薄膜ディスクを製造するには、強磁性記
録材料の均一かつ平滑な膜を塗布するだけでは充分でな
い、記録材料の層の原子は、磁化容易軸を、水平記録を
行なう装置のディスクの表面に平行して配向しなければ
ならない。これは、コバルト合金の記録材料を用いると
きいくらか困難を伴う。六方最密分子構造のＣ軸は、は
とんどの材料塗布法で水モではなく垂直になりやすいか
らである。
録材料の均一かつ平滑な膜を塗布するだけでは充分でな
い、記録材料の層の原子は、磁化容易軸を、水平記録を
行なう装置のディスクの表面に平行して配向しなければ
ならない。これは、コバルト合金の記録材料を用いると
きいくらか困難を伴う。六方最密分子構造のＣ軸は、は
とんどの材料塗布法で水モではなく垂直になりやすいか
らである。
強磁性コバルト合金の記録材料を塗布する面を（１００
）面とした薄いクロム下層を塗布することで、コバルト
合金の［１１０３面がクロム下層の（１００）面に付着
するよう条件を制御できることがわかっている。これは
コバルト合金のＣ軸。
）面とした薄いクロム下層を塗布することで、コバルト
合金の［１１０３面がクロム下層の（１００）面に付着
するよう条件を制御できることがわかっている。これは
コバルト合金のＣ軸。
すなわちディスク表面に平行な磁化容易軸を、水平記録
に最適な配向とする。第２図に示すように。
に最適な配向とする。第２図に示すように。
六方最密構造のコバルト合金である強磁性材料では、中
央の原子を６個の原子が密接に取り巻いている。図示の
とおり、Ｃ軸は中心点で図面に対して直角である。これ
がもっとも磁化しやすい軸である。Ｃ軸は、コバルト合
金の組織を１図面に対して昨直な破線で示した平面であ
る（１００）または（１１０１而に沿ってクロム下層に
付着することにより、所望の水平配向とすることができ
る。
央の原子を６個の原子が密接に取り巻いている。図示の
とおり、Ｃ軸は中心点で図面に対して直角である。これ
がもっとも磁化しやすい軸である。Ｃ軸は、コバルト合
金の組織を１図面に対して昨直な破線で示した平面であ
る（１００）または（１１０１而に沿ってクロム下層に
付着することにより、所望の水平配向とすることができ
る。
（１００）而はクロムード層と化合せず、Ｃ軸の配向を
磨面状とするコバルト合金原子の間隔は、クロム原子の
（１００）面と揃うことはなく、コバルト合金の結晶構
造がエピタキシャルに成長する余地を与える。しかしコ
バルト合金の（１１０）面の原子間隔は、はぼ理想的に
クロム下層の（１０１面と一致する。
磨面状とするコバルト合金原子の間隔は、クロム原子の
（１００）面と揃うことはなく、コバルト合金の結晶構
造がエピタキシャルに成長する余地を与える。しかしコ
バルト合金の（１１０）面の原子間隔は、はぼ理想的に
クロム下層の（１０１面と一致する。
第３図は、薄膜クロム下層とコバルト合金の磁性薄膜と
の界面を示す略図である。下層表面のクロム原子（実線
円５）は、（１００）而を示すときのパターンである。
の界面を示す略図である。下層表面のクロム原子（実線
円５）は、（１００）而を示すときのパターンである。
六方最密コバルト原子構造は、（１１０）面が紙面に平
行であり、破線円４で示したクロムの（１００）表面の
格子間位置によ（収まる。したがって原子の（１００）
面が露出面に平行なりロム膜が形成されると、（１１０
）面が媒体表面と平行なコバルト磁性材料のエビクキシ
ャル成長か生じ、Ｃ軸、すなわち磁化容易軸は媒体表面
と平行になる。
行であり、破線円４で示したクロムの（１００）表面の
格子間位置によ（収まる。したがって原子の（１００）
面が露出面に平行なりロム膜が形成されると、（１１０
）面が媒体表面と平行なコバルト磁性材料のエビクキシ
ャル成長か生じ、Ｃ軸、すなわち磁化容易軸は媒体表面
と平行になる。
クロム下層の形成の際、温度を１５０度以上に上げ、毎
分１０００か６４０００オングストロームの高速スパッ
タリングを行ない、厚みを５０から２００オングストロ
ームにすることで、所要の（１００１面がＦ層表面にな
った状態でクロム下層が被着することがわかっている。
分１０００か６４０００オングストロームの高速スパッ
タリングを行ない、厚みを５０から２００オングストロ
ームにすることで、所要の（１００１面がＦ層表面にな
った状態でクロム下層が被着することがわかっている。
第４図に示すとおり、角形比が最大になるのは、下層の
厚みが５０から２００オングストロームの範囲のときで
ある。これにより厚い層の場合、クロム結晶横道は不規
則になり、１００に加えてばかの面も現われやすくなる
６ 強磁性コバルト合金の記録層は次に、クロム原子の配向
を変えるかまたは酸化によるクロト下層の化学的変化を
起こす雰囲気中におかずに、同じ装置でスパッタ？ｌ！
着する。スパッタリングによる強磁性層は、ｌａ磁化容
易軸Ｃ軸）をディスク平面に平行にした状態でエピタキ
シャルに成長する７薄膜記録層の塗布を終えたあと、保
護膜も同じ装置で塗布する。しかし保護膜の効果は原子
配向に依ｑしないため、塗布条件は磁気記録膜やクロム
下層はど厳密性を要しない。
厚みが５０から２００オングストロームの範囲のときで
ある。これにより厚い層の場合、クロム結晶横道は不規
則になり、１００に加えてばかの面も現われやすくなる
６ 強磁性コバルト合金の記録層は次に、クロム原子の配向
を変えるかまたは酸化によるクロト下層の化学的変化を
起こす雰囲気中におかずに、同じ装置でスパッタ？ｌ！
着する。スパッタリングによる強磁性層は、ｌａ磁化容
易軸Ｃ軸）をディスク平面に平行にした状態でエピタキ
シャルに成長する７薄膜記録層の塗布を終えたあと、保
護膜も同じ装置で塗布する。しかし保護膜の効果は原子
配向に依ｑしないため、塗布条件は磁気記録膜やクロム
下層はど厳密性を要しない。
縦方向に記Ｈする装置の場合、磁化容易軸を平面にし、
記録面に平行とすることに利点のあるのはもちろん１円
周方向に向けることで、記録能力を最適化することも出
来る。円周方向の配向性は。
記録面に平行とすることに利点のあるのはもちろん１円
周方向に向けることで、記録能力を最適化することも出
来る。円周方向の配向性は。
ディスクの記録面を組織化することによって高められる
。スパッタリングを行なっていない、表面が硬い研磨仕
上げの基板には、同心、円形の微小な溝を加え、ｙｉ状
の溝によって周期的にさえぎられる平坦、平面の研磨仕
上げランド面を形成する。
。スパッタリングを行なっていない、表面が硬い研磨仕
上げの基板には、同心、円形の微小な溝を加え、ｙｉ状
の溝によって周期的にさえぎられる平坦、平面の研磨仕
上げランド面を形成する。
この平面は研磨その他の方法で、凹凸が４０オングスト
ロームを越えない平滑度まで仕上げる。組織化の可能な
溝の深さは１００オングストロームを越えず、平均で９
０オングストロ一ム未満である。
ロームを越えない平滑度まで仕上げる。組織化の可能な
溝の深さは１００オングストロームを越えず、平均で９
０オングストロ一ム未満である。
この組織から他の利点も得られ、またスバ・ンタリング
を行なったクロムや薄膜磁性媒体で反復し、−ｒ−ビタ
キシャルに成長した磁性層の被着に影響を与える表面の
一部ともなり１Ｍｉ界中の磁化容易軸の環状配向を生じ
させる。
を行なったクロムや薄膜磁性媒体で反復し、−ｒ−ビタ
キシャルに成長した磁性層の被着に影響を与える表面の
一部ともなり１Ｍｉ界中の磁化容易軸の環状配向を生じ
させる。
Ｅ９発明の効果
高密度記録に最適な磁気特性を磁気記録層に与えること
ができる。
ができる。
第１図は本発明による磁性膜の断面図である。
第２図はコバルト合金の六方最密構造で、これに伴うＣ
軸と（１００）及び（１１０）の面の概略図である。第
３図はクロム下層の（１００）面とコバルト媒体の（１
１０）面の界面位置ける原子を示す概略図である。第４
図は、本発明を実施してえられる、クロム下層の厚みの
関数としての正方度を示す。 ６・・一基板、７・・・・ＮｉＰ層、８・・・・クロム
層。 ９・・・・磁性コバルト合金層、１０・・・・保護被覆
、１１・・・・有機単層 出願人 インターナショナル・ビジネスマシーンズ・
コーポレーション 代理人 弁理士 山 本 仁 朗（外１名） ＦＩＧ。３ ０ ２０ＯＬ＋ｏｏ ６００ ８００ １０００
＋２００１Ｌ＋ＯＯ１６００Ｃｒｌの犀２（オンゲスト
リーム） ＦＩＧ、 Ｌｌ−
軸と（１００）及び（１１０）の面の概略図である。第
３図はクロム下層の（１００）面とコバルト媒体の（１
１０）面の界面位置ける原子を示す概略図である。第４
図は、本発明を実施してえられる、クロム下層の厚みの
関数としての正方度を示す。 ６・・一基板、７・・・・ＮｉＰ層、８・・・・クロム
層。 ９・・・・磁性コバルト合金層、１０・・・・保護被覆
、１１・・・・有機単層 出願人 インターナショナル・ビジネスマシーンズ・
コーポレーション 代理人 弁理士 山 本 仁 朗（外１名） ＦＩＧ。３ ０ ２０ＯＬ＋ｏｏ ６００ ８００ １０００
＋２００１Ｌ＋ＯＯ１６００Ｃｒｌの犀２（オンゲスト
リーム） ＦＩＧ、 Ｌｌ−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）硬質の非強磁性基板と、該基板の上に設けられて
、記録面に平行な所定の結晶面を有する非強磁性金属層
と、該金属層の所定の結晶面の上にエピタキシャル成長
して、上記記録面に平行な磁化容易軸を有する強磁性コ
バルト合金薄膜とを有する磁気記録媒体。 （２）硬質の非強磁性基板と、該基板の上に設けられて
、記録面に平行な体心立方構造の（１００）面を有する
５０乃至２００オングストロームの厚さのクロム層と、
該クロム層の（１００）面上にエピタキシャル成長して
、六法最密構造の （１１０）面及びＣ軸が上記記録面に平行になっている
強磁性コバルト合金薄膜とを有する磁気記録媒体。 （３）平滑な表面を有する非強磁性基板を調整し、スパ
ッタリングによって、少なくとも１０００オングストロ
ーム／分の速度で上記基板の表面の上に５０乃至２００
オングストロームの厚さのクロム層を形成し、スパッタ
リングにより、上記表面に平行な磁化容易軸を有する強
磁性コバルト合金薄膜を上記クロム層の上にエピタキシ
ャル成長させる磁気記録媒体の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US16005688A | 1988-02-25 | 1988-02-25 | |
| US160056 | 1988-02-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01220217A true JPH01220217A (ja) | 1989-09-01 |
| JPH0524564B2 JPH0524564B2 (ja) | 1993-04-08 |
Family
ID=22575332
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63290382A Granted JPH01220217A (ja) | 1988-02-25 | 1988-11-18 | 磁気記録媒体 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0330356B1 (ja) |
| JP (1) | JPH01220217A (ja) |
| DE (1) | DE68910849T2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0260388A (ja) * | 1988-08-26 | 1990-02-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 静止画伝送装置 |
| JPH03257804A (ja) * | 1990-03-07 | 1991-11-18 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体 |
| JPH0536054A (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-12 | Nec Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| US5605733A (en) * | 1992-01-22 | 1997-02-25 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium, method for its production, and system for its use |
| US6761982B2 (en) | 2000-12-28 | 2004-07-13 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Magnetic recording medium, production process and apparatus thereof, and magnetic recording and reproducing apparatus |
| US6808830B2 (en) | 2001-12-28 | 2004-10-26 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium, production process and apparatus thereof, and magnetic recording and reproducing apparatus |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SG38900A1 (en) * | 1994-12-19 | 1997-04-17 | Hoya Corp | Method of manufacturing magnetic recording medium |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6316414A (ja) * | 1986-07-08 | 1988-01-23 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気記録体 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4698251A (en) * | 1985-01-22 | 1987-10-06 | Victor Company Of Japan, Limited | Magnetic recording medium and method of producing the same |
| US4652499A (en) * | 1986-04-29 | 1987-03-24 | International Business Machines | Magnetic recording medium with a chromium alloy underlayer and a cobalt-based magnetic layer |
-
1988
- 1988-11-18 JP JP63290382A patent/JPH01220217A/ja active Granted
-
1989
- 1989-02-13 DE DE68910849T patent/DE68910849T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-02-13 EP EP89301352A patent/EP0330356B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6316414A (ja) * | 1986-07-08 | 1988-01-23 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気記録体 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0260388A (ja) * | 1988-08-26 | 1990-02-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 静止画伝送装置 |
| JPH03257804A (ja) * | 1990-03-07 | 1991-11-18 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体 |
| JPH0536054A (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-12 | Nec Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| US5605733A (en) * | 1992-01-22 | 1997-02-25 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium, method for its production, and system for its use |
| US6761982B2 (en) | 2000-12-28 | 2004-07-13 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Magnetic recording medium, production process and apparatus thereof, and magnetic recording and reproducing apparatus |
| US6808830B2 (en) | 2001-12-28 | 2004-10-26 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium, production process and apparatus thereof, and magnetic recording and reproducing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0524564B2 (ja) | 1993-04-08 |
| DE68910849D1 (de) | 1994-01-05 |
| DE68910849T2 (de) | 1994-05-19 |
| EP0330356A1 (en) | 1989-08-30 |
| EP0330356B1 (en) | 1993-11-24 |
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