JPS63167431A - 光ピツクアツプ装置 - Google Patents

光ピツクアツプ装置

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JPS63167431A
JPS63167431A JP61311054A JP31105486A JPS63167431A JP S63167431 A JPS63167431 A JP S63167431A JP 61311054 A JP61311054 A JP 61311054A JP 31105486 A JP31105486 A JP 31105486A JP S63167431 A JPS63167431 A JP S63167431A
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optical system
hologram
semiconductor laser
lens
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誠 加藤
Yoshikazu Hori
義和 堀
Akimoto Serizawa
晧元 芹澤
Katsuyuki Fujito
藤戸 克行
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光ディスクあるいは光カードなど、光もしく
は光磁気媒体上に記憶される光学情報を記録・再生する
ピックアップ装置に関する。
従来の技術 高密度・大容量の記憶媒体として、ピット状パターンを
用いる光メモリ技術は、ディジタルオーディオディスク
、ビデオディスク、文書ファイルディスク、さらにはデ
ータファイルと用途を拡張しつつ、実用化されてきてい
る。ミクロンオーダに絞られた光ビームを介して情報の
記録再生が高い信頼性のもとに首尾よく遂行されるメカ
ニズムは、ひとえにその光情報をピックアップする構成
、とシわけその光学系に因っている。光ピックアップ装
置(以下OPUと略す)の基本的な機能は、(1)回折
限界の微小スポットを形成する集光性、(11)前記光
学系の焦点制御とビット信号検出、およびoij)同ト
ラッキング制御の3種類に大別される。これらは目的、
用途に応じて、各種の光学系ならびに光電変換検出方式
の組合せによって実現されている。第7図は、従来のO
PUの一例を示す模式図である。通常TEooモードで
発振する半導体レーザ光源1からの発散波面(電場:水
平偏波)をコリメートレンズ2で平行ビームとし、偏光
ビームスプリッタ3で左方の四分の一波長板(114λ
板)4に選択反射する。Aλ板を通過しだ円偏光波面は
、集光レンズ系6で大略1μm程度のスポットに絞られ
、光デイスク媒体面6上に到達し、ピット状パターンを
照射する。媒体面6で反射・回折された光束は、再び集
光レンズ系6を逆に進んで四分の一波長板4を通過する
と垂直偏波の平行ビームとなり、偏光ビームスプリッタ
3を透過してプリズムハーフミラ−7で2方向に分割さ
れる。
一方の反射光は集光レンズ9、ならびに非点収差を付与
する円柱状レンズ10を通って四分割フォトディテクタ
11に入射し、焦点制御信号に変換される。他方の透過
光は、ファーフィールドパターンのまま、トラッキング
制御信号検出用の二分割フォトディテクタ8に入る。
ここで、具λ板4は、偏光ビームスプリッタ3と組合わ
せることによって、光量の利用効率を高めることと同時
に、半導体レーザへの戻り方を抑圧して、信号光成分に
不要なノイズが増加しないための工夫である。しかし、
再生専用ディスクのOPUでは、光量設計に余裕があシ
、μλ板と偏光ビームスプリッタを省くことが可能であ
り、とくに小型化、低価格化のためには、部品の省略。
複合化が計られている。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、再生専用OPHにおいても、ビーム分割
手段、非点収差あるいはナイフェツジ法などKよる焦点
制御手段、またトラッキング制御手段を独立、もしくは
結合して構成する必要がある。そのために従来用いられ
てきた光学部品は、ビームスプリッタ、レンズ、プリズ
ム等いずれも大量に製作・組立・調整することは容易で
なく、小型化、低価格化、量産性、高信頼性の面で問題
があった。
これらの問題が生じる共通の理由として、第1に高精度
の平面あるいは非球面を要する光学部品は、多くの工程
を経て初めて所望の加工が実現されるのでプレス手段等
を用いるが如き生産が一般に困難であること、第2に多
数の部品を組み合わせて所定の総合性能を発揮させるた
めには、組立・調整にも多くの時間と複雑な検査・測定
装置を要すること、第3に部品の小型化に限界があると
ころから、全光学系の小型化にも大きな制約があった。
これらの問題を部分的に解決する方法として、たとえば
、第7図のコリメートレンズ2(あるいは9)をフレネ
ルレンズで構成し、金型を用いてプレス加工成形する技
術が開発されてきている。
しかし、これは部品点数の削減にはならず、面数がよシ
多い部品であるプリズム形ビームスプリンタなどは置き
換えられないまま残される。
上述の理由は、複合機能を有する光学素子を導入するこ
とにより解決されるとして、第6図すに示すごときホロ
グラム素子21を集光レンズ5に接近させて配置する試
みも最近報告されている。
(0)木材、小野、須釜、太田;61年秋季 応用物理
学会予稿集、 30P −ZE−1、P、 227(1
986)o(2)同;第22回微小光学研究会講演論文
;TOI、 4 (1986)P、 38 )従来、ホ
ログラム記録に適した波長域(λ1:400〜500n
m)で素子を作成し、OPU光源として適する近赤外あ
るいは赤色レーザ(λ2:〜800nm、633nm)
で再生すると、ホログラムのレンズ作用に対して顕著な
収差が発生し、その補正が困難であった。
そこで、ホログラム素子は、同図aに示すような光学系
を用いて2点P1.P2 と参照光源Rとの干渉縞(実
際にはホログラム面の片側半分には波面230と231
.残る片面に波面230と232との干渉縞)をξ−η
面で形成した、いわゆるレンズレスフーリエ変換ホログ
ラム系の考え方で設計されており、「ウェッジプリズム
法」あるいは「ダブルナイフェツジ法」と等価な効果を
有するようにホログラム素子21は211と212の部
分に2分割した形で、電子ビーム描画によって実現され
る。こうすると、確かに使用する光源1の設計波長λ2
に限っては、無収差のホログラムレンズ21が作成でき
、しかも、光源の若干のスペクトル幅の変動に対する収
差がビーム検出器(7オトデイテクタ)22の光電変換
面上に現われても、4分割光電変換面221.222.
223 。
224を用いたプッシュプル法で変動を実用上支障ない
範囲に押えることが可能となる。しかし、第11図にお
いて、電子ビーム描画が可能な素子21のパターンは、
格子や双曲線形状のような単純パターンの場合に限定さ
れ、もっと一般のホログラム系を精度よく形成する技術
は全く開示されていない。また従来ホログラム素子は、
集束パワーとしてのレンズ機能を極力抑えた「レンズレ
スフーリエ変換型ホログラム」として構成されたが、ピ
ックアップ光源の設計波長λからのわずかな波長ずれ(
Δλ=±2onm)に対してもフォーカスオフセットを
生じ、半導体レーザのロフトによる波長ずれを調整する
ためにフォトディテクタを光軸方向に位置調整するめん
どうな工程を設ける必要があった。
本発明は、第1にOPHの焦点ならびにトラッキング制
御を安定に実現する複合機能形のホログラム素子を提供
するものであり、電子ビーム描画とか特定波長での記録
再生といった制約を課することなく、もっと一般的な光
学原理に立脚したホログラム素子を用いて安定かつ簡単
化された光学系を構成可能ならじめる。その場合、本発
明では、ホログラム素子に集束パワーは付与しないレン
ズフーリエ変換型として任意波長でホログラム素子を設
計・製作でき、光軸方向での前記位置調整は不要とされ
る。
第2に本発明では、ホログラム素子あるいはフレネルレ
ンズといった薄膜状素子の安定動作に必要な光源のコヒ
ーレンス変動を実用上支障ない範囲に抑圧する光学系を
提供するものであり、従来の半導体レーザ装置を基礎と
して、光学系を複雑、高価にすることなく所望のコヒー
レントビームと高い信号対雑音比が得られる。
問題点を解決するための手段 本発明は、上述の問題点を解決するために、(i)半導
体レーザ、コリメート光学系、および回折素子とで光帰
還を有する光源光学系を構成して光源のコヒーレンスを
安定化し、(11)前記回折素子からの回折光のうち非
帰還ビームを所定記憶媒体上へ微小スポット状に収束す
る光学系へ導びき、前記微小スポットのたとえばフォー
カシングおよびトラッキングビーム制御光学系と接続す
ることによって安定な信号検出が可能となシ、さらに(
ill)望ましくは楓波長板と、偏光選択反射膜を施し
た回折素子を用いることによって光源系とビーム制御光
学系を光学的に完全に分離してより安定な信号検出を実
現でき、(φレンズフーリエ変換ホログラム素子を併用
して、光学系を簡素化できる。
作用 レンズフーリエ変換ホログラムの特質については、文献
((3) rホログラフィによる漢字メモリ」。
加藤、藤戸、佐藤;画像電子学会 研究会予稿了9−0
4−1 (1979,11,) (4)5peckle
等に詳しく報告、解析されているように、一般画像の記
録再生光学系に適用された実績((5) r光学式漢字
編集処理システム」佐藤他;電子通信学会研究会資料、
 EC7B−53(1978) 47 )  を有する
が、本発明では、ビーム制御用手段として実用上支障な
い限シ、再生光学系光軸近傍波面についてフーリエ変換
が成立すればよく、ホログラム素子からの波面再生に用
いるレンズは、コリメートレンズで代用できるし、ある
いは単にホログラム素子を収束球面波で照射するだけで
、その集光面上に所望の再生像を得ることが可能である
本発明では、上述の構成を備えることによって以下の如
く問題点を解決している。
(1)ホログラム素子の作成過程では、ホログラム記録
に適したコヒーレント光源の波長λ1を用いて非点収差
波面、もしくはナイフェツジ光学系等所定波面のレンズ
フーリエ変換型のホログラム記録系を用い、したがって
、 (2)OPUの光学系では、半導体レーザなど所与の光
源波長λ2に対してほぼ無収差の収束レンズを用い、も
しくは等価な収束波面をホログラム素子に照射すること
で焦点ならびにトラッキング制御に必要な所望の波面を
光電変換面(7オトデイテクタ)上に形成でき、 (3)さらにまだ、半導体レーザ光源のコヒーレント変
動に対する対策として、回折素子の回折格子面をコリメ
ートビームに対して傾けた配置でその回折波の一部を半
導体レーザに帰還する構成とし、かつ非帰還光成分、た
とえば、零次回折光は収束光学系へ導びく光学系構成と
することによって、要すれば収束光学系の入射側に猛波
長板を設けることによって戻り光ノイズの発生を抑圧可
能である。ここで回折格子はビーム分割手段の役割も果
しており、更に複合機能の発揮には、 (4)  ホログラム素子からの一方の再生像、たとえ
ば非点収差を有する収束ビームを焦点制御用に、まだ、
ホログラムからのQ次透過光成分は、ファーフィールド
位置で直接トラッキング制御用に利用することができ、
また (6)  ホログラム素子基板の裏面も反射面として活
用可能となり、偏光面選択用の多層誘電体薄膜を形成す
ることも容易であるので、(3)で述べた回折素子上に
偏光面選択膜を施すことによシ、複合回折素子一枚で、
偏光ビームスプリッタ。
光帰還ビームスベクトル分離、ならびにビーム制御光学
素子の機能を兼用させうる。
実施例 第1図aは、本発明の一実施例によるOPU装置の概略
構成を示す。1は短波長の半導体レーザ(波長λ2=8
00nm)、2はコリメートレンズ(焦点距離f2=2
0mm )、30は、半導体レーザの波長λ2に対して
一般計例ではその格子間隔d=λ2/5in45°==
1.131μ とした回折素子(回折格子)であり、表
面に偏光選択反射膜をコーティングされている。偏光選
択膜は偏光ビームスプリッタに用いられる誘電体多層膜
をコーティングしたものであるが、ムU、ムβなどを半
透明状態にコーティングして代用してもよい。その場合
、全反射角に近い角度で、コリメート光を回折素子30
へ入射させるのが回折効率の点で有利である。
コリメートレンズ2を介して入射する平行ビームは回折
素子30で回折されるが、1次回折光(あるいは高次回
折光)の一部は偏光選択膜で反射されてコリメート光学
系を逆進して半導体レーザ1に帰還ビームとして戻され
る。一方、非帰還ビーム、たとえば0次回折光はそのま
ま進んで鷲波長板4を通過して円偏光ビームの状態で集
光レンズ6(開口数N人= 0.5 、焦点距離f =
 4 mm )で約1μmφ程度の微小スポットを光デ
ィスクθ上のビット面(たとえば、ピット60の上)に
形成する。ピット面で反射・回折された光ビームは、再
びレンズ5、Aλ板4を通過して、往きの光路とは偏光
面が90’回転した状態で偏光ビームスプリッタ(回折
素子)30を真すぐ透過して、ビームスプリンタ7で分
割され、一方のビームは、前記微小スポットのファーフ
ィールドパター/全フォトディテクタ8の上に、又他方
の分割ビームは集光レンズ9および円柱レンズ10を介
して7オトデイテクタ11の上に非点収差パターンを形
成して、各々トラッキングならびにフォーカシング制御
用信号に変換される。このとき、回折素子30は、第1
図すに示す如く基板300の片面に回折格子301と偏
光選択反射膜302を設けており、(i)波長選択形光
帰還光学素子(回折格子)と(ii)偏光選択反射膜(
偏光ビームスプリッタ)を兼備えた複合機能素子の役割
を果す。また半導体レーザの片側端面には発振波長に対
する反射防止膜100を設けてあシ、半導体レーザは外
部共振器型として、端面101と回折格子面301の間
に共振器系を構成して狭帯域発振する。反射防止膜は必
ずしも必要でないが、望ましくは反射率を数多以下に設
計することにより、より安定な発振が得られる。外部共
振器型半導体レーザについては、文献((s) ” 0
scillation Center Frequen
eyTuning 、 Quantum F M No
1se 、 and DirectFrequency
 Modulation Characteristi
cs 1nQuant 、 Elect 、)vol 
、Q K−18(1982)961 。
(7)「ホログラフィックグレーティングを用いた外部
共振器型半導体レーザ」、朝食、萩原、長岡;昭61年
度電子通信学会光・電波部門全国大会・194)等に報
告されているとこであるが、本発明においては(i)光
ピックアップ光学系構成に必要な光学素子に複合機能を
附与して部品・素子数が削減され、同時に(11)半導
体レーザの発振モード安定化と雑音抑圧が計られ、した
がって(iii)ホログラムによって所望のビーム制御
用波面を記録・再生する技術の適用が可能となっている
。第1図で半導体レーザ1の片側端面101は完全反射
面としてもよいが、レーザ1への電流帰還モニタ用とし
てビーム1010を利用できる。なお、本実施例では、
反射型光ディスク6に対するピックアップ光学系で示し
たが、透過型光記憶媒体に対しては、ビーム制御光学系
を媒体からの透過光側に構成すればよいことは、単に設
計上のことがらである。
第2図は本発明の別の実施例によるOPU装置の概略構
成を示す。第1図の場合と比べて、光源光学系は同様の
光帰還が複合回折素子31の片面301.302を介し
て行なわれているが、ビーム制御光学系が複合回折素子
の裏面313にホログラムとして組込まれていることで
、部品・素子数をさらに削減している。また第1図の実
施例でコリメート光学系2.集光光学系5にはレンズ系
を用いているが、本実施例では薄膜状のフレネルレンズ
20.50.90を各々置換えた形で一層の小型・軽量
化が可能とされている。
上記構成において、本発明のOPUとしての動作と特徴
は、ホログラム素子12を製作する光学系を説明するこ
とにより完全に明らかとなる。第4図aが、非点収差波
面を正確に記録・再生できるホログラムとして実現する
光学系の概念図である。波長λ1のコヒーレントな平行
ビーム13を集光レンズ51で絞る光路中に円柱状レン
ズ1゜を配置し、互いに垂直な方向に向いた線状の集束
ビーム101,103およびその中間位置にほぼ円形状
のビーム1o2を得る。いま、ビーム102はX、−y
、座標面上にあるとしておく。この光学系は、従来、光
ピックアップ光学系で非点収差を発生するために用いら
れるのと同様のものであるが、ここで重要なことは、次
にフーリエ変換レンズ60(焦点距離f+  )を介し
て、前記円形状ビーム102のフーリエ変換波面をレン
ズ6oの後側フーリエ変換面(ξ−η座標で表示)にと
り出して、収差を含まない別の平面波と重ね合わせるこ
とによって、いわゆるレンズフーリエ変換型のホログラ
ム素子313を作成する。上記の参照波は、フーリエ変
換レンズ5oの前側焦点面の所定位置16から発散する
無収差の球面波を用いて容易に得られることは衆知の技
術である。ここで参照波は、平行ビーム13と互いに可
干渉な平行ビーム14をレンズ15で収束して容易に得
られる。
参照波は、レンズ50を通さず直接平面波をホログラム
面へ導びいても勿論よい。
さて、このようにして記録されたホログラム素子313
を、第4図すに示すような光学系に配置して波長λ2の
平行ビームで照射すると、フーリエ変換レンズ5(焦点
距離で)の後側焦点面(X2−Y2座標で表示)には、
非点収差を含む波面の再生像1021と、その共役像1
022がX2−Y2座座標点に関して互いに対称の位置
関係で再生され、各スポット像の前、後方向には水平も
しくは垂直方向の線状パターン1011.1031およ
び1012.1032が得られている。共役波面同志で
あるので一方は垂直方向の線状像1031がレンズ5に
近い位置にあり、他方は水平方向の像1o12が並んで
現われる。
第6図は、第2図で示した光学系の動作原理を、焦点制
御用光電変換素子11上に生じるビーム形状の面から説
明している。すなわち、いま第5図aで、集光レンズ6
によって絞られたビームが、光ディスクのピット面60
から前後に微小距離Δfだけ離れている(焦点合わせ誤
差を生じている)とき、ホログラム素子313を通って
回折されたビーム1021あるいは1022は、フォト
ディテクタ上で同図すもしくはdのような形状となる。
同図Cは、丁度焦点が合ったときの様子を示している。
焦点制御信号εは、四分割フォトディテクタの各セクタ
111〜114に対応する信号出力成分を各々S13 
S21 ”5 + 84として、ε=(S1+35 )
  (S2+34 ) 、(1)〉 によって与えられ、ε≧0の条件に従って焦点制御が実
行可能である。
トラッキング信号Jは1 、r=s2−s4.            (2)か
ら得られるが、サーボの安定性を考慮すると、第2図8
のように、ファーフィールドパターンを利用して別のフ
ォトディテクタから検出する方法が、より望ましい。
なお以上の説明で、非点収差は円筒状レンズによるもの
を利用したが、別の光学系、たとえば、収束球面波の光
軸に平行平板を斜けて挿入するとか、あるいは適当な別
の非球面素子を用いてもよい0 以上では、ビーム制御用波面として、非点収差を含む方
式について、レンズフーリエ変換ホログラムの記録光学
系と情報ピックアップ光学系の波面再生光学系を中心に
説明してきたが、本発明は、これらの原理に立つ装置に
限定されるものではなく、もっと一般のピックアップ従
来光学系を一枚のホログラム素子に代替することも可能
である。
すなわち、上記ビーム制御光学系以外に、従来開発され
ている各種の光学系、あるいは更に目的により適合する
ビーム制御光学系をあらかじめレンズフーリエ変換ホロ
グラム素子として波面記録しておくことが可能である。
一度記録された素子の格子状パターンは、複製が容易な
金型に転写し、さらに樹脂あるいは硝子材料を用いたレ
プリカ製作により大量の均一な素子を安価に得ることが
でき、光情報ピックアップ装置の設計・製作上多大の効
果を有するものである。複製されるパターンがフーリエ
変換型であるので、金型をイオンビーム加工等によって
ブレーズ化することが可能であり、フレネルゾーンプレ
ートのブレーズ化技術(河合、窪田、西田;第18回微
小光学研究会講演論文;マ013 (1985)P、3
3)に比べてレプリカ素子の回折効率を容易にブレーズ
化させうる。すなわちほぼ平行な格子状パターンからな
るホログラム全面に斜方よりビーム照射を施すことがで
きる。
本発明の実施例とじては、光デイスク光学系のビーム制
御系を中心に述べたが、記録・再生両機能を備えだ光学
系、さらに光磁気記憶・再生方式における光情報ピック
アップ装置としても適用できることは勿論である。
第3図は、本発明の他の実施例として、第1゜第2図の
光学系に等しく適用可能なホログラム素子による回折格
子の記録・再生原理を説明している。同図aで、互いに
コヒーレントな2光束の一方を長焦点の集光レンズ10
1に導びき、フーリエ変換レンズ5Qの前側焦点面にあ
るX軸上に設けられた幅δ1.δ2の広がりを有する微
小開口1002を照明、他の光束は集光レンズ150で
集光して参照光源160とし、7−リエ変換レンズ50
を介して同レンズの後側焦点面ξ−η上で重ね合わされ
、ホログラム3o11として記録される。ここで微小開
口1002には、何らかの拡散面、たとえば第3図Cに
示す様に回折格子1o03が設けられていて、ホログラ
ム3011の回折効率が充分大きくなる如く工夫されて
いる。
このようにして得られる回折格子3o11に偏光選択膜
をコーティングした後同図すのように、ミーグ面から角
度θだけ回転した面ξ−η′に設ける。点光源(半導体
レーザ活性層)から発したビーム161をコリメートレ
ンズ2で平行ビームとしてホログラム3011を照射す
ると、その回折光の一部は、コリメートレンズ2へ逆進
して前記点光源へ戻る「帰還ビーム」となるが、このピ
ームはホログラム3011からの再生された微小開口1
0o2の再生像1003であって、所定の広としてλ1
= 442 nm 、λ2=soonm。
となる。このビーム広がり幅は、光帰還光学系での回折
素子30の調整と保持に要する機構的精度(〜1μm以
下)を1桁程度は緩和する効果を有する。
回折素子3o11の格子ピッチ(平均)をP =1.1
3 pm 、口径をD = 8 mmとすると、格子本
数N=、−7000,したがって回折格子としての程度
である。実際の発振波長は、回折素子3oの傾き角を微
小に調整することにより、半導体レーザ1のゲイン幅内
でシングルモードを選択的に発振させることができる。
微小開口幅δ1.δ2は、必要以上に広げると、半導体
レーザ活性層近傍に帰還される光パワーが減少する他、
帰還光に含まれるスペクトル幅が比例的に拡大されるの
で適当な範囲に設定する必要がある。
発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発明はOPHの光学
系に(1)回折素子による半導体レーザへの光帰還を与
えて安定なシングルモード発振する光源系を備え高い信
号対雑音比の信号検出ができ、(11)レンズフーリエ
変換ホログラム素子を他の光学素子と組合わせて使用し
ており、ホログラムには非点収差波面、あるいはナイフ
ェツジからの回折波面等を記録するが、 (1)ホログラム作成波長λ1と異なる波長λ2で波面
再生しても、ホログラム自体は収差を発生せず、 (2)フーリエ逆変換レンズを使用して、焦点制御、ト
ラッキング制御用のビームをホログラム回折光から有効
に分割利用することが可能である。
(3)さらにまた、ホログラム素子基板の裏面を光帰還
ビーム回折およびビーム分割用反射・回折面として利用
でき、部品点数を極小に押え、光学系の小型化、低価格
化、信頼性の向上を大幅に進めることができる。
4)ホログラム素子は、光ディスクと同様、マスクとな
る金型から転写工程を経て、大量のレプリカを容易に生
産することが可能である。
(5)はぼ平行な格子パターンを記録したレンズフーリ
エ変換型ホログラムを用いるので、素子の回折効率を向
上させるために、イオンビーム等によるブレーズ化加工
を全面同時に実行することができ、高性能のマスクホロ
グラム金をを製作しうる。
また、(iii)光源がシングルモード発振するので、
ホログラム以外に、フレネルレンズの如き薄膜光学素子
に高性能を発揮せしめることが可能であるし、さらにJ
V)光帰還光学系で、帰還に寄与しない回折光を取出し
て光ピックアップ光学系のビームを構成しているので光
パワーを有効に利用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す光情報ピックアップ装
置の概略構成図、第2図は本発明の別の実施例を説明す
る原理説明図、第3図は本発明の詳細な説明する概略構
成図、第4図は非点収差波面の記録・再生例を説明した
本発明の原理図、第5図は非点収差波面を記録再生する
本発明の実施例に関し、光電変換面に再生されるビーム
の状態を説明した概念図、第6図は従来のホログラム素
子を用いた光ピックアップ光学系の概念図、第7図は従
来の光ピックアップ光学系の構成例を示す図である。 1・・・・・・半導体レーザ、2・・・・・・コリメー
トレンズ、3o・・・・・・偏光ビームスプリッタ兼用
回折素子、4・・・・・・四分の一波長板、6・・・・
・・集光光学系、6・・・・・・光ディスク、313・
山・・レンズフーリエ変換ホログラム素子、8・・・・
・・フォトディテクタ、11・・川・フォトディテクタ
、10・・・・・・円柱レンズ、20・・・・・・7レ
ネルレンズ、302・・・・・・偏光選択反射面、10
0・・・・・・反射防止膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 Jθ2.俺A区択反躬−挟 第2図 (勾 JliE3図 (噌 第4図 第5図 (込) //J 箔6図 (η) 〃z (−b)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体レーザと、コリメート光学系と、前記半導
    体レーザへの光帰還およびビーム分割手段としての回折
    素子と、該回折素子から回折される非帰還ビームを所定
    記憶媒体上に微小スポット状で収束する光学系と、前記
    微小スポットのフォーカシングおよびトラッキング制御
    手段を具備したことを特徴とする光ピックアップ装置。
  2. (2)半導体レーザは、光帰還される端面が反射防止膜
    を施されてなる特許請求範囲第1項記載の光ピックアッ
    プ装置。
  3. (3)フォーカシングおよびトラッキング制御手段とし
    て所定波面をレンズフーリェ変換型ホログラムに記録し
    た回折素子を含んでなる特許請求範囲第1項記載の光ピ
    ックアップ装置。
  4. (4)光帰還ならびにビーム分割手段としての回折素子
    が微小開口のフーリェ変換ホログラムで形成された特許
    請求範囲第1項の光ピックアップ装置。
  5. (5)光帰還される端面が反射防止膜を施された半導体
    レーザと、コリメート光学系と、前記半導体レーザへの
    光帰還ならびにビーム分割手段としての偏光選択反射膜
    を施した回折素子と、四分の一波長板と、前記回折素子
    から回折される非帰還ビームを所定記憶媒体上に微小ス
    ポット状で収束する光学系と、前記微小スポットのフォ
    ーカシングおよびトラッキング制御手段を具備したこと
    を特徴とする光ピックアップ装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03250437A (ja) * 1989-08-04 1991-11-08 Ricoh Co Ltd 光情報記録再生装置及び二重回折格子
WO2000003390A1 (en) * 1998-07-09 2000-01-20 Sony Corporation Integrated optical device, optical pickup, and optical disk device
KR100544176B1 (ko) * 1999-08-19 2006-01-23 삼성전자주식회사 표면광 레이저 및 이를 채용한 광픽업장치

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