JPS63168403A - 光重合性組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
=産業上の利用分野〕
本発明は、不飽和単量体と光重合開始剤と必要二応じて
線状有機高分子重合体とを含有する光重=性組成物に関
し、特に印刷用原版の作成等に有]な光硬化像を提供し
うる光重合性組成物に関す、ものである。
線状有機高分子重合体とを含有する光重=性組成物に関
し、特に印刷用原版の作成等に有]な光硬化像を提供し
うる光重合性組成物に関す、ものである。
二従来の技術〕
重合可能なエチレン性不飽和化合物と、光重合1始剤と
、更に必要に応じて適当な皮膜形成能を−する線状有機
高分子重合体、熱重合防止剤等を1和させ感光性組成物
として写真的手法によってコ像複製を行う方法は現在広
く知られるところで、る。すなわち特公昭35−509
3号公報、特・昭35−8495号公報等に記載されて
いる様−1該感光性組成物は活性光線の照射により光重
−を起こし、不溶化することから、感光性組成物−適当
な皮膜となし、所望の画像の陰画を通して=性光線の照
射を行い、適当な溶媒により未感光〕のみを除去する(
以下単に現像と呼ぶ。)ことにより所望の光重合画像を
形成させることができる。このタイプの感光性組成物は
印刷版等の感光剤として極めて有用である事は論を待た
ない。
、更に必要に応じて適当な皮膜形成能を−する線状有機
高分子重合体、熱重合防止剤等を1和させ感光性組成物
として写真的手法によってコ像複製を行う方法は現在広
く知られるところで、る。すなわち特公昭35−509
3号公報、特・昭35−8495号公報等に記載されて
いる様−1該感光性組成物は活性光線の照射により光重
−を起こし、不溶化することから、感光性組成物−適当
な皮膜となし、所望の画像の陰画を通して=性光線の照
射を行い、適当な溶媒により未感光〕のみを除去する(
以下単に現像と呼ぶ。)ことにより所望の光重合画像を
形成させることができる。このタイプの感光性組成物は
印刷版等の感光剤として極めて有用である事は論を待た
ない。
従来より、重合可能なエチレン性不飽和化合物の光重合
開始剤として、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエチ
ルエーテル、ミヒラーケトン、アンスラキノン、アクリ
ジン、フェナジン、ベンゾフェノン、2−エチルアント
ラキノン等が代表的なものとして知られている。しかし
ながらこれらの光重合開始剤を用いた光重合性組成物は
、短波長の紫外線には感応するもの感度が低かったり、
長波長の紫外線や例えばアルゴンレーザーのごとき可視
光線には殆ど感応せず重合開始能力を示さないという問
題点があった。可視光線にする感光材料としても特公昭
44−20189号明細書に開示されている光還元性染
料と脂肪族アミンの複合系、特開昭48−84183号
に記載されている環状シス−α−ジカルボニル化合物と
染料の複合系、特公昭45−37377号明細書に開示
されているヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発
生剤及び染料の系、特開昭47−2528、特開昭54
−155292号明細書に開示されているヘキサアリー
ルビイミダゾールとP−ジアルキルアミノベンジリデン
ケトンの系、特開昭54−151024号明細書に開示
されている置換トリアジンとメロシアニン色素の系など
が提案されている。近年、紫外線に対する高感度化や、
レーザーを用いて画像を形成する方法が検討され、印刷
版作成におけるUVプロジェクション露光法、レーザー
直接製版、レーザーファクシミリ、ホログラフィ−等が
既に実用の段階にあり、これらに対応する高感度な感光
材料が開発されているところである。しかし未だ十分な
感度を有しているとは言えない。
開始剤として、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエチ
ルエーテル、ミヒラーケトン、アンスラキノン、アクリ
ジン、フェナジン、ベンゾフェノン、2−エチルアント
ラキノン等が代表的なものとして知られている。しかし
ながらこれらの光重合開始剤を用いた光重合性組成物は
、短波長の紫外線には感応するもの感度が低かったり、
長波長の紫外線や例えばアルゴンレーザーのごとき可視
光線には殆ど感応せず重合開始能力を示さないという問
題点があった。可視光線にする感光材料としても特公昭
44−20189号明細書に開示されている光還元性染
料と脂肪族アミンの複合系、特開昭48−84183号
に記載されている環状シス−α−ジカルボニル化合物と
染料の複合系、特公昭45−37377号明細書に開示
されているヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発
生剤及び染料の系、特開昭47−2528、特開昭54
−155292号明細書に開示されているヘキサアリー
ルビイミダゾールとP−ジアルキルアミノベンジリデン
ケトンの系、特開昭54−151024号明細書に開示
されている置換トリアジンとメロシアニン色素の系など
が提案されている。近年、紫外線に対する高感度化や、
レーザーを用いて画像を形成する方法が検討され、印刷
版作成におけるUVプロジェクション露光法、レーザー
直接製版、レーザーファクシミリ、ホログラフィ−等が
既に実用の段階にあり、これらに対応する高感度な感光
材料が開発されているところである。しかし未だ十分な
感度を有しているとは言えない。
本発明の目的は、上記の問題点を解決するためになされ
たものであり、高感度な光重合性組成物を提供すること
である。特に400nm以上の可視光線、特にArレー
ザーの出力に対応する48BnlII付近の光に対して
も感度の高い光重合開始剤及び光重合開始剤系を含んだ
光重合性組成物を提供することである。
たものであり、高感度な光重合性組成物を提供すること
である。特に400nm以上の可視光線、特にArレー
ザーの出力に対応する48BnlII付近の光に対して
も感度の高い光重合開始剤及び光重合開始剤系を含んだ
光重合性組成物を提供することである。
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結
果、有機過酸化物とある特定の化合物を組み合わせた光
重合開始剤系がエチレン性不飽和結合を有する重合可能
な化合物の光重合速度を著しく増大させ、また400n
m以上の可視光線に対しても高感度を示すことを見いだ
し、本発明に到達したものである。
果、有機過酸化物とある特定の化合物を組み合わせた光
重合開始剤系がエチレン性不飽和結合を有する重合可能
な化合物の光重合速度を著しく増大させ、また400n
m以上の可視光線に対しても高感度を示すことを見いだ
し、本発明に到達したものである。
すなわち本発明は、エチレン性不飽和二重結合を少なく
とも1個有する付加重合可能な化合物と光重合開始剤と
、必要に応じて綿状有機高分子重合体とを含む光重合性
組成物において、該光重合開始剤が少なくとも下記の(
イ)、(ロ)及び(ハ)の化合物の組合せであることを
特徴とする光重合性組成物。
とも1個有する付加重合可能な化合物と光重合開始剤と
、必要に応じて綿状有機高分子重合体とを含む光重合性
組成物において、該光重合開始剤が少なくとも下記の(
イ)、(ロ)及び(ハ)の化合物の組合せであることを
特徴とする光重合性組成物。
(イ)有機過酸化物
(ロ)一般式;
(ただし式中R5〜R1はお互いに独立して、水素原子
、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、了り−
ル基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換ア
ルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基を表す。また、R
1−R4はそれが結合できる炭素原子と共に非金属原子
から成る環を形成していても良い。 R,はR1又は−
Z−R,であり、Zはカルボニル基、スルホニル基、ス
ルフィニル基、 又はアリーレンジカルボニル基を表し
、R1、R7は互いに独立して、水素原子、アルキル基
、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ヘテ
ロ芳香族基、置換へテロ芳香族基、シアノ基、アルコギ
シ基、置換アルコキシ基、カルボキシ基、アルケニル基
、置換アルケニル基を表す。またRs、Rhは共に非金
属原子から成る環を形成しても良い。XはO,S、NH
lまたは置換基を有する窒素原子を表す。Yは、酸素原
子、又は異なる水素原子、シアノ基、アルコキシカルボ
ニル基、置換アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、置換アリールオキシカルボニル基、アシ
ル基、置換アシル基、アリールカルボニル基、置換アリ
ールカルボニル基、アルキルチオ基、了り−ルチオ基、
アルキルスルホニル基、了り−ルスルホニル基、フルオ
ロスルホニル基を表す。但し、G、と62は共に水素原
子ではない。またGI、Gzはそれが形成できる炭素原
子と共に非金属原子から成る環を形成していても良い。
、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、了り−
ル基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換ア
ルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基を表す。また、R
1−R4はそれが結合できる炭素原子と共に非金属原子
から成る環を形成していても良い。 R,はR1又は−
Z−R,であり、Zはカルボニル基、スルホニル基、ス
ルフィニル基、 又はアリーレンジカルボニル基を表し
、R1、R7は互いに独立して、水素原子、アルキル基
、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ヘテ
ロ芳香族基、置換へテロ芳香族基、シアノ基、アルコギ
シ基、置換アルコキシ基、カルボキシ基、アルケニル基
、置換アルケニル基を表す。またRs、Rhは共に非金
属原子から成る環を形成しても良い。XはO,S、NH
lまたは置換基を有する窒素原子を表す。Yは、酸素原
子、又は異なる水素原子、シアノ基、アルコキシカルボ
ニル基、置換アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、置換アリールオキシカルボニル基、アシ
ル基、置換アシル基、アリールカルボニル基、置換アリ
ールカルボニル基、アルキルチオ基、了り−ルチオ基、
アルキルスルホニル基、了り−ルスルホニル基、フルオ
ロスルホニル基を表す。但し、G、と62は共に水素原
子ではない。またGI、Gzはそれが形成できる炭素原
子と共に非金属原子から成る環を形成していても良い。
)
(ハ)一般式
(ただし、式中、Arは下記の一般式の−っから選ばれ
た芳香族基を表し、Re 、R9は水素原子又はアルキ
ル基を表し、又、RIlとR7は互いに結合してアルキ
レン基を表しても良い。) 1(11+ (ただし式中、R3゜〜RI4は互いに独立して水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換ア
ルコキシ基、−3−R,s基、 So R+s基又は
−S Oz R+ s基を表す。
た芳香族基を表し、Re 、R9は水素原子又はアルキ
ル基を表し、又、RIlとR7は互いに結合してアルキ
レン基を表しても良い。) 1(11+ (ただし式中、R3゜〜RI4は互いに独立して水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換ア
ルコキシ基、−3−R,s基、 So R+s基又は
−S Oz R+ s基を表す。
またR7゜〜RI4基の少なくとも一つは−3R+s基
、 So R+s基又は−SO□R1s基を表す。
、 So R+s基又は−SO□R1s基を表す。
RI5は水素アルキル基、アルケニル基、RI&は水素
原子、アルキル基、アシル基を表す。Y1ビ9 以下、本発明について詳細に説明する。
原子、アルキル基、アシル基を表す。Y1ビ9 以下、本発明について詳細に説明する。
本発明に使用するエチレン性不飽和結合を有する重合可
能な化合物とは、その化学構造中に少なくとも1個のエ
チレン性不飽和結合を有する化合物である。例えばモノ
マー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオ
リゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合
体などの化学的形態をもつものである。モノマーおよび
その共重合体の例としては、不飽和カルボン酸およびそ
の塩、脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、脂肪
族多価アミン化合物とのアミド等があげられる。
能な化合物とは、その化学構造中に少なくとも1個のエ
チレン性不飽和結合を有する化合物である。例えばモノ
マー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオ
リゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合
体などの化学的形態をもつものである。モノマーおよび
その共重合体の例としては、不飽和カルボン酸およびそ
の塩、脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、脂肪
族多価アミン化合物とのアミド等があげられる。
不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル酸、メタ
クリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、
マレイン酸などがある。
クリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、
マレイン酸などがある。
不飽和カルボン酸の塩としては、前述の酸のナトリウム
塩およびカリウム塩などがある。
塩およびカリウム塩などがある。
また脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸と
のエステルの具体例としては、アクリル酸エステルとし
て、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレン
グリコールトリアクリレート、1,3−ブタンジオール
ジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレ
ート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロ
パントリ (アクリロイル−オキシプロピル)エーテル
トリメチロールエタントリアクリレート、1゜4−シク
ロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレング
リコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールト
リアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリ
レート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトール
テトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート
、ソルビトールへキサアクリレート、ポリエステルアク
リレートオリゴマー等がある。
のエステルの具体例としては、アクリル酸エステルとし
て、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレン
グリコールトリアクリレート、1,3−ブタンジオール
ジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレ
ート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロ
パントリ (アクリロイル−オキシプロピル)エーテル
トリメチロールエタントリアクリレート、1゜4−シク
ロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレング
リコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールト
リアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリ
レート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトール
テトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート
、ソルビトールへキサアクリレート、ポリエステルアク
リレートオリゴマー等がある。
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコ
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタ
クリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、1.3−ブタンジオー
ルジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリ
レート、ペンタエリスリトールトリメタクリート、ジペ
ンタエリスリトールジメタクリレート、ソルビトールト
リメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート
、ビス−(p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキ
シプロポキシ)フェニルクジメチルメタン、ビス−p−
<アクリルオキシエトキシ)フェニルクジメチルメタン
等がある。
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタ
クリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、1.3−ブタンジオー
ルジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリ
レート、ペンタエリスリトールトリメタクリート、ジペ
ンタエリスリトールジメタクリレート、ソルビトールト
リメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート
、ビス−(p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキ
シプロポキシ)フェニルクジメチルメタン、ビス−p−
<アクリルオキシエトキシ)フェニルクジメチルメタン
等がある。
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールシイ
タコネート、プロピレングリコールシイタコネート、1
,3−ブタンジオールシイタコネート、■、4−ブタン
ジオールシイタコネート、テトラメチレングリコールシ
イタコネート、ペンタエリスリトールシイタコネート、
ソルビトールテトライタコネート等がある。
タコネート、プロピレングリコールシイタコネート、1
,3−ブタンジオールシイタコネート、■、4−ブタン
ジオールシイタコネート、テトラメチレングリコールシ
イタコネート、ペンタエリスリトールシイタコネート、
ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジク
ロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート
、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトール
テトラクロトネート等がある。
ロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート
、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトール
テトラクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロ
トネート、ソルビトールテトライソクロトネート等があ
る。
ジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロ
トネート、ソルビトールテトライソクロトネート等があ
る。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールシマ
レート、トリエチレングリコールシマレート、ペンタエ
リスリトールシマレート、ソルビトールテトラマレート
等がある。
レート、トリエチレングリコールシマレート、ペンタエ
リスリトールシマレート、ソルビトールテトラマレート
等がある。
また、その他のエステルとして、エチレングリコールモ
ノ (メタ)アクリレート、プロピレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)ア
クリレート等がある。
ノ (メタ)アクリレート、プロピレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)ア
クリレート等がある。
さらにエチレングリコール(メタ)アクリレート、トリ
メチロールエタントリアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ (メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ
)アクリレート、トリメチロールプロパントリ (アク
リロイルオキシプロピル)エーテル、トリ (アクリロ
イロキシエチル)イソシアヌレート等がある。
メチロールエタントリアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ (メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ
)アクリレート、トリメチロールプロパントリ (アク
リロイルオキシプロピル)エーテル、トリ (アクリロ
イロキシエチル)イソシアヌレート等がある。
さらに、前述のエステルの混合物もあげることができる
。
。
脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミド
のモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリル
アミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1.6−へ
キサメチレンビス−アクリルアミド、1.6−ヘキサメ
チレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミン
トリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド
、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
のモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリル
アミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1.6−へ
キサメチレンビス−アクリルアミド、1.6−ヘキサメ
チレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミン
トリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド
、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
その他の例としては、特公昭48−41708号公報中
に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(
II)で示される水酸基を含有するビニル七ツマ−を付
加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有
するビニルウレタン化合物等があげられる。
に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(
II)で示される水酸基を含有するビニル七ツマ−を付
加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有
するビニルウレタン化合物等があげられる。
CHz = C(R)COOCHzCH(R’ )OH
(II )(ただし、RおよびR′はHあるいはC11
3を示す。) また、特公昭48−41708号、特公昭50−603
4号、特開昭51−37193号各広報に記載されてい
るようなウレタンアクリレート類、特開昭48−641
83号、特公昭49−43191号、特公昭52−30
490号各広報定記載されているポリエステルアクリレ
ート類、エポキシ樹脂と、(メタ)アクリル酸を反応さ
せたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレート
やメタクリレートをあげることができる。さらに日本接
着協会誌Vo1. 20.Th 7.300〜308
ページに光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介さ
れているものも使用することができる。なお、これらの
使用量は、全成分に対して5〜50重量%(以下%と略
称する)好ましくは、10〜40%である。
(II )(ただし、RおよびR′はHあるいはC11
3を示す。) また、特公昭48−41708号、特公昭50−603
4号、特開昭51−37193号各広報に記載されてい
るようなウレタンアクリレート類、特開昭48−641
83号、特公昭49−43191号、特公昭52−30
490号各広報定記載されているポリエステルアクリレ
ート類、エポキシ樹脂と、(メタ)アクリル酸を反応さ
せたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレート
やメタクリレートをあげることができる。さらに日本接
着協会誌Vo1. 20.Th 7.300〜308
ページに光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介さ
れているものも使用することができる。なお、これらの
使用量は、全成分に対して5〜50重量%(以下%と略
称する)好ましくは、10〜40%である。
本発明に使用される「有機過酸化物」としては分子中に
酸素−酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとんど
全てが含まれるが、その例としては、メチルエチルケト
ンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、
3,3.5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイ
ド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチル
アセトンパーオキサイド、1,1−ビス(ターシャリイ
ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘ
キサン、1.1−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ
)シクロヘキサン、n−ブチル−4゜4−ビス(ターシ
ャリイブチルパーオキシ)ハレラート、2,2−ビス(
ターシャリイブチルパーオキシ)ブタン、ターシャリイ
ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオ
キサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサ
イド、パラメンタンハイドロパーオキサイド、2.5−
ジメチルヘキサン−2,5−シバイドロバ−オキサイド
、1,1.3.3−テトラメチルブチルハイドロパーオ
キサイド、ジターシャリイブチルパーオキサイド、ター
シャリイブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオ
キサイド、ビス(ターシャリイブチルパーオキシイソプ
ロビル)ベンゼン、2.5−ジメチル−2,5−ジ(タ
ーシャリイブチルパーオキシ)ヘキサン、2.5−ジメ
チル−2,5−ジ(ターシャリイブチルパーオキシ)ヘ
キシン−3、アセチルパーオキサイド、イソブチリルパ
ーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイ
ルパーオキサイド、ウラロイルパーオキサイド、3,5
.5−)リメチルヘキサノイルバーオキサイド、過酸化
こはく酸、過酸化ベンゾイル、2.4−ジクロロベンゾ
イルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサイド
、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−
エチルヘキシルバーオキシジカーボネート、ジー2−エ
トキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイ
ソプロピルバーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−
3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、ター
シャリイブチルパーオキシアセテート、ターシャリイブ
チルパーオキシピバレート、ターシャリイブチルパーオ
キシネオデカノエート、ターシャリイブチルパーオキシ
ベンゾエート、ターシャリイブチルパーオキシ−3゜5
.5−)リメチルヘキサノエート、ターシャリイブチル
パーオキシラウレート、ターシャリイブチルパーオキシ
ベンゾエート、ジターシャリイブチルジパーオキシイソ
フタレート、2.5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイ
ルパーオキシ)ヘキサン、ターシャリイブチル過酸化マ
レイン酸、ターシャリイブチルパーオキシイソプロピル
カーボネート、3.3’、4.4’−テトラ−(t−ブ
チルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3゜3’
、4.4’−テトラ−(t−アミルバーオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、3.3’、4゜4′−テトラ(t
−へキシルバーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3
.3’、4.4’−テトラ(t−オクチルバーオキシカ
ルボニル)ベンゾフェノン、3.3’、4.4’−テト
ラ (クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
3゜3’、4.4’−テトラ(p−イソプロピルクミル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルポニルジ
(t−プチルパーオキシ二水素二フタラード)、カルボ
ニルジ(t−ヘキシルバーオキシ二水素二フタラード)
等がある。
酸素−酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとんど
全てが含まれるが、その例としては、メチルエチルケト
ンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、
3,3.5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイ
ド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチル
アセトンパーオキサイド、1,1−ビス(ターシャリイ
ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘ
キサン、1.1−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ
)シクロヘキサン、n−ブチル−4゜4−ビス(ターシ
ャリイブチルパーオキシ)ハレラート、2,2−ビス(
ターシャリイブチルパーオキシ)ブタン、ターシャリイ
ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオ
キサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサ
イド、パラメンタンハイドロパーオキサイド、2.5−
ジメチルヘキサン−2,5−シバイドロバ−オキサイド
、1,1.3.3−テトラメチルブチルハイドロパーオ
キサイド、ジターシャリイブチルパーオキサイド、ター
シャリイブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオ
キサイド、ビス(ターシャリイブチルパーオキシイソプ
ロビル)ベンゼン、2.5−ジメチル−2,5−ジ(タ
ーシャリイブチルパーオキシ)ヘキサン、2.5−ジメ
チル−2,5−ジ(ターシャリイブチルパーオキシ)ヘ
キシン−3、アセチルパーオキサイド、イソブチリルパ
ーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイ
ルパーオキサイド、ウラロイルパーオキサイド、3,5
.5−)リメチルヘキサノイルバーオキサイド、過酸化
こはく酸、過酸化ベンゾイル、2.4−ジクロロベンゾ
イルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサイド
、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−
エチルヘキシルバーオキシジカーボネート、ジー2−エ
トキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイ
ソプロピルバーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−
3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、ター
シャリイブチルパーオキシアセテート、ターシャリイブ
チルパーオキシピバレート、ターシャリイブチルパーオ
キシネオデカノエート、ターシャリイブチルパーオキシ
ベンゾエート、ターシャリイブチルパーオキシ−3゜5
.5−)リメチルヘキサノエート、ターシャリイブチル
パーオキシラウレート、ターシャリイブチルパーオキシ
ベンゾエート、ジターシャリイブチルジパーオキシイソ
フタレート、2.5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイ
ルパーオキシ)ヘキサン、ターシャリイブチル過酸化マ
レイン酸、ターシャリイブチルパーオキシイソプロピル
カーボネート、3.3’、4.4’−テトラ−(t−ブ
チルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3゜3’
、4.4’−テトラ−(t−アミルバーオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、3.3’、4゜4′−テトラ(t
−へキシルバーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3
.3’、4.4’−テトラ(t−オクチルバーオキシカ
ルボニル)ベンゾフェノン、3.3’、4.4’−テト
ラ (クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
3゜3’、4.4’−テトラ(p−イソプロピルクミル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルポニルジ
(t−プチルパーオキシ二水素二フタラード)、カルボ
ニルジ(t−ヘキシルバーオキシ二水素二フタラード)
等がある。
これらの中で、3.3’、4.4’−テトラ−(t−ブ
チルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3’
、4.4’−テトラ−(t−アミルバーオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、3゜3’、4.4’−テトラ(t
−へキシルバーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3
.3’、4゜4′−テトラ(t−オクチルパーオキシカ
ルボニル)ベンゾフェノン、3.3’、4.4’−テト
ラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3
.3’、4.4’−テトラ (p−イソプロピルクミル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−t−ブチ
ルシバ−オキシイソフタレート等の過酸化エステル系が
好ましい。
チルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3’
、4.4’−テトラ−(t−アミルバーオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、3゜3’、4.4’−テトラ(t
−へキシルバーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3
.3’、4゜4′−テトラ(t−オクチルパーオキシカ
ルボニル)ベンゾフェノン、3.3’、4.4’−テト
ラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3
.3’、4.4’−テトラ (p−イソプロピルクミル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−t−ブチ
ルシバ−オキシイソフタレート等の過酸化エステル系が
好ましい。
本発明で用いられる一般式(1)
で表わされる化合物においてR3〜R6及びR7のアル
キル基としてはメチル、エチル、t−ブチル等炭素数1
〜20個までのものを使用でき、アリール基としてはフ
ェニル等炭素数1〜lO個までのものを用いることがで
きる。アルコキシ基としてはメトキシ、エトキシ、ブト
キシ等炭素数1〜6個までのものを使用できる。
キル基としてはメチル、エチル、t−ブチル等炭素数1
〜20個までのものを使用でき、アリール基としてはフ
ェニル等炭素数1〜lO個までのものを用いることがで
きる。アルコキシ基としてはメトキシ、エトキシ、ブト
キシ等炭素数1〜6個までのものを使用できる。
またR l−Raの置換アミノ基としては、メチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジフェニルアミ
ノ、ピペリジノ、モルホリノ等炭素数1〜20個を有す
るアルキルアミノ、アリールアミノ基を用いることがで
きる。
ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジフェニルアミ
ノ、ピペリジノ、モルホリノ等炭素数1〜20個を有す
るアルキルアミノ、アリールアミノ基を用いることがで
きる。
これらのアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アル
チルアミノ基、アリールアミノ基は置換基を有していて
も良く。
チルアミノ基、アリールアミノ基は置換基を有していて
も良く。
また置換基としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン
原子、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル
基、メトキシ、エトキシ等のアルコキシ基、フェニル等
のアリール基、シアノ基等があるR0〜R4がそれと結
合せる炭素原子と共に非金属原子から成る環を形成する
場合、環を含む構造としては下記(A)(B)(C)に
示すものが挙げられる。
原子、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル
基、メトキシ、エトキシ等のアルコキシ基、フェニル等
のアリール基、シアノ基等があるR0〜R4がそれと結
合せる炭素原子と共に非金属原子から成る環を形成する
場合、環を含む構造としては下記(A)(B)(C)に
示すものが挙げられる。
C,HS
R5、R?のアルケニル基としては、スチリル基環炭素
数2〜lO個のものを、ヘテロ芳香族基の場合下記(D
)〜(H)に示すものを用いることができる。
数2〜lO個のものを、ヘテロ芳香族基の場合下記(D
)〜(H)に示すものを用いることができる。
これらのへテロ芳香族基も置換基を有しても良い。置換
基としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、ジ
メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジフェニルアミノ等の
炭素数1〜20個のアルキルアミノ基、アリールアミノ
基、炭素数1〜20個のアルキル基、炭素数1〜6個の
アルコキシ基等がある。またR5、’R,は共にそれと
結合できる炭素原子と共に環を形成しても良い。例とし
ては下記(J)に示される構造が挙げられる。
基としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、ジ
メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジフェニルアミノ等の
炭素数1〜20個のアルキルアミノ基、アリールアミノ
基、炭素数1〜20個のアルキル基、炭素数1〜6個の
アルコキシ基等がある。またR5、’R,は共にそれと
結合できる炭素原子と共に環を形成しても良い。例とし
ては下記(J)に示される構造が挙げられる。
R。
Xが置換基を有する窒素の場合、置換基としては、R+
””Rs及びR7で挙げたアルキル基、アリール基と同
義のものを用いることができる。
””Rs及びR7で挙げたアルキル基、アリール基と同
義のものを用いることができる。
は同−又は異なる水素原子、シアノ基、エトキシカルボ
ニル基等の炭素数1〜10個のアルキル基を有するアル
コキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等炭素数
6〜10個のアリール基を有するアリールオキシカルボ
ニル基、アセチル基、プロピオニル基等炭素数1〜6個
のアシル基、ベンゾイル基等炭素数7〜11個のアリー
ルカルボニル基、メチルチオ基、エチルチオ基等炭素数
1〜6個のアルキルチオ基、フェニルチオ基等炭素数6
〜10個のアリールチオ基、フェニルスルホニル基等の
炭素数6〜10個の了り−ルスルホニル基、メチルスル
ホニル基、エチルスルホニル基等の炭素数1〜6個のア
ルキルスルホニル基またはフルオロスルホニル基を表わ
す。
ニル基等の炭素数1〜10個のアルキル基を有するアル
コキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等炭素数
6〜10個のアリール基を有するアリールオキシカルボ
ニル基、アセチル基、プロピオニル基等炭素数1〜6個
のアシル基、ベンゾイル基等炭素数7〜11個のアリー
ルカルボニル基、メチルチオ基、エチルチオ基等炭素数
1〜6個のアルキルチオ基、フェニルチオ基等炭素数6
〜10個のアリールチオ基、フェニルスルホニル基等の
炭素数6〜10個の了り−ルスルホニル基、メチルスル
ホニル基、エチルスルホニル基等の炭素数1〜6個のア
ルキルスルホニル基またはフルオロスルホニル基を表わ
す。
これらのアルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アリールスルホニル基、アル
キルスルホニル基は置換基を有していても良い。また置
換基としては、塩素等のハロゲン原子、炭素数1〜6個
のアルキル基を有するアルコキシカルボニル基、カルボ
キシ基、炭素数6〜10個のアリール基、炭素数1〜6
個のアルコキシ基、シアノ基が挙げられる。さらにアリ
ールオキシカルボニル基、アリールカルボニル基、アリ
ールチオ基、アリールスルホニル基の場合上記の置換基
の外にメチル基等の炭素数1〜6個のアルキル基も用い
ることができる。
ボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アリールスルホニル基、アル
キルスルホニル基は置換基を有していても良い。また置
換基としては、塩素等のハロゲン原子、炭素数1〜6個
のアルキル基を有するアルコキシカルボニル基、カルボ
キシ基、炭素数6〜10個のアリール基、炭素数1〜6
個のアルコキシ基、シアノ基が挙げられる。さらにアリ
ールオキシカルボニル基、アリールカルボニル基、アリ
ールチオ基、アリールスルホニル基の場合上記の置換基
の外にメチル基等の炭素数1〜6個のアルキル基も用い
ることができる。
またG1と02はそれが結合せる炭素原子と共に非金属
原子から成る環を形成する場合、環としては通常メロシ
アニン色素で酸性核として用いられるもので以下のもの
を挙げることができる。
原子から成る環を形成する場合、環としては通常メロシ
アニン色素で酸性核として用いられるもので以下のもの
を挙げることができる。
(a)1,3−ジカルボニル核、例えば1,3−インダ
ンジオン、1.3−シクロヘキサンジオン、5.5−ジ
メチル−1,3−シクロヘキサンジオン、1,3−ジオ
キサン−4,6−ジオンである。
ンジオン、1.3−シクロヘキサンジオン、5.5−ジ
メチル−1,3−シクロヘキサンジオン、1,3−ジオ
キサン−4,6−ジオンである。
(b) ピラゾリノン核、例えば3−メチル−1−フ
ェニル−2−ビラプリン−5−オン、1−フェニル−2
−ピラゾリン−5−オン、1−(2−ベンゾチアゾイル
)−3−メチル−2−ピラゾリン−5−オンである。
ェニル−2−ビラプリン−5−オン、1−フェニル−2
−ピラゾリン−5−オン、1−(2−ベンゾチアゾイル
)−3−メチル−2−ピラゾリン−5−オンである。
(C) イソオキサシリノン核、例えば3−フェニル
−2−イソオキサゾリン−5−オン、3−メチル−2−
イソオキサゾリン−5−オンである。
−2−イソオキサゾリン−5−オン、3−メチル−2−
イソオキサゾリン−5−オンである。
(dl オキシインドール核、例えば1−アルキル−
2,3−ジヒドロ−2−オキシインドールである。
2,3−ジヒドロ−2−オキシインドールである。
(e) 2.4.6−ドリケトへキサヒドロピリミジ
ン核、例えばバルビッル酸または2−チオバルビツル酸
及びその誘導体である。誘導体としては1−メチル、1
−エチル等の1−アルキル体、1.3−ジエチル、1.
3−ジブチル等の1゜3−ジアルキル体、■、3−ジフ
ェニル、1゜3−ジ(p−クロロフェニル)、1.3−
ジ(p−エトキシカルボニルフェニル)等の1゜3−ジ
アリール体、1−エチル−3−フェニル等の1−アルキ
ル−3−アリール体等が挙げられる。
ン核、例えばバルビッル酸または2−チオバルビツル酸
及びその誘導体である。誘導体としては1−メチル、1
−エチル等の1−アルキル体、1.3−ジエチル、1.
3−ジブチル等の1゜3−ジアルキル体、■、3−ジフ
ェニル、1゜3−ジ(p−クロロフェニル)、1.3−
ジ(p−エトキシカルボニルフェニル)等の1゜3−ジ
アリール体、1−エチル−3−フェニル等の1−アルキ
ル−3−アリール体等が挙げられる。
(f)2−チオ−2,4−チアゾリジンジオン核、例え
ばローダニン及びその誘導体である。誘導体としては3
−エチルローダニン、3−アリルローダニン等の3−ア
ルキルローダニン、3−フェニルローダニン等の3−ア
リールローダニン等が挙げられる。
ばローダニン及びその誘導体である。誘導体としては3
−エチルローダニン、3−アリルローダニン等の3−ア
ルキルローダニン、3−フェニルローダニン等の3−ア
リールローダニン等が挙げられる。
(g)2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン(2−
チオ−2,4−(3H,5H)−オキサゾールジオン)
核、例えば2−エチル−2−チオ−2,4−オキサゾリ
ジンジオンである。
チオ−2,4−(3H,5H)−オキサゾールジオン)
核、例えば2−エチル−2−チオ−2,4−オキサゾリ
ジンジオンである。
(h) チアナフチノン核、例えば3(2H)−チア
ナフチノンおよび3(2H)−チアナフチノン−1,1
−ジオキサイドである。
ナフチノンおよび3(2H)−チアナフチノン−1,1
−ジオキサイドである。
(i)2−チオ−2,5−チアゾリジンジオン核、例え
ば3−エチル−2−チオ−2,5−チアゾリジンジオン
である。
ば3−エチル−2−チオ−2,5−チアゾリジンジオン
である。
(J)2.4−チアゾリジンジオン核、例えば2゜4−
チアゾリジンジオン、3−エチル−2,4−チアゾリジ
ンジオン、3−フェニル−2,4−チアゾリジンジオン
である。
チアゾリジンジオン、3−エチル−2,4−チアゾリジ
ンジオン、3−フェニル−2,4−チアゾリジンジオン
である。
(kl チアシリジオン核、例えば4−チアゾリジノ
ン、3−エチル−4−チアゾリジノンである。
ン、3−エチル−4−チアゾリジノンである。
(I)4−チアゾリジノン核、例えば2−エチルメルカ
プト−5−チアゾリン−4−オン、2−アルキルフェニ
ルアミノ−5−チアゾリン−4−オンである。
プト−5−チアゾリン−4−オン、2−アルキルフェニ
ルアミノ−5−チアゾリン−4−オンである。
(m) 2−イミノ−2−オキソゾリン−4−オン凝
ヒダントイン核である。
ヒダントイン核である。
(n12.4−イミダゾリジンジオン(ヒダントイン)
核、例えば、2.4−イミダゾリジンジオン、3−エチ
ル−2,4−イミダゾリジンジオンである。
核、例えば、2.4−イミダゾリジンジオン、3−エチ
ル−2,4−イミダゾリジンジオンである。
(0)2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン(2−
チオヒダントイン)核、例えば2−チオ−2,4−イミ
ダゾリジンジオン、3−エチル−2−チオ−2,4−イ
ミダゾリジンジオンである。
チオヒダントイン)核、例えば2−チオ−2,4−イミ
ダゾリジンジオン、3−エチル−2−チオ−2,4−イ
ミダゾリジンジオンである。
(p)2−イミダシリン−5−オン核、例として2−n
−プロピル−メルカプト−2−イミダシリン−5−オン
である。
−プロピル−メルカプト−2−イミダシリン−5−オン
である。
(q) フラン−5−オンである。
本発明で用いられる一般式(1)で表わされる化合物の
具体例を下記に示す。
具体例を下記に示す。
(+ −38)
(I−40)
この中で好ましくは(1−12)、(1−13)、(1
−16)、(1−17)、(1−21)、(I−38)
、(1−:40)の化合物である。
−16)、(1−17)、(1−21)、(I−38)
、(1−:40)の化合物である。
次に本発明で用いられる一般式(II)At−L、−i
−しり (II)で表わされ
る化合物においてのRIl、R1のアルキル基としては
メチル、エチル、プロピル等の炭素数1〜20個のもの
があげられる。また、R8とR1が結合して形成するア
ルキレン基としては、テトラメチレン、ペンタメチレン
等があげられる。
−しり (II)で表わされ
る化合物においてのRIl、R1のアルキル基としては
メチル、エチル、プロピル等の炭素数1〜20個のもの
があげられる。また、R8とR1が結合して形成するア
ルキレン基としては、テトラメチレン、ペンタメチレン
等があげられる。
計におけるR1゜〜5.のアルキル基としては炭素数1
〜4個のものがあげられる。また、アルケニル基として
は炭素数3〜12のものがあげられる。
〜4個のものがあげられる。また、アルケニル基として
は炭素数3〜12のものがあげられる。
さらに、R3゜〜R84のアリール基としてはフェニル
基があげられる。さらにアルコキシ基としては炭素数1
〜4のものがあげられる。R16のアシル基としてはア
セチル、プロピオニル、アクリロイル等があげられる。
基があげられる。さらにアルコキシ基としては炭素数1
〜4のものがあげられる。R16のアシル基としてはア
セチル、プロピオニル、アクリロイル等があげられる。
このような一般式(If)の具体例としては、■
C11゜
などがあげられる。
この中で好ましくは(n−1)、(II−2)、(I[
−8)、(II−9)の化合物である。
−8)、(II−9)の化合物である。
本発明の組成物中のこれらの光重合開始剤系の含有濃度
は通常わずかなものである。また、不適当に多い場合に
は有効光線の遮断等好ましくない結果を生じる0本発明
における光重合開始剤系の量は、光重合可能なエチレン
性不飽和化合物と必要に応じて添加される線状有機高分
子重合体との合計に対して0.01%から60%の範囲
で使用するのが好ましい、より好ましくは、1%から3
0%で良好な結果を得る。
は通常わずかなものである。また、不適当に多い場合に
は有効光線の遮断等好ましくない結果を生じる0本発明
における光重合開始剤系の量は、光重合可能なエチレン
性不飽和化合物と必要に応じて添加される線状有機高分
子重合体との合計に対して0.01%から60%の範囲
で使用するのが好ましい、より好ましくは、1%から3
0%で良好な結果を得る。
また、本発明の光重合性組成物では、必要により種々の
有機アミン化合物を併用することができる。更に光重合
開始能を増大せしめることができる。これらの有機アミ
ン化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、ジ
メチルアミン、ジェタノールアニリン、p−ジメチルア
ミノ安息香酸エチルエステル、ミヒラーズケトン等があ
げられる。
有機アミン化合物を併用することができる。更に光重合
開始能を増大せしめることができる。これらの有機アミ
ン化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、ジ
メチルアミン、ジェタノールアニリン、p−ジメチルア
ミノ安息香酸エチルエステル、ミヒラーズケトン等があ
げられる。
有機アミン化合物の添加量は、全光重合開始剤量の50
%〜200%程度が好ましい。
%〜200%程度が好ましい。
更に本発明で用いる光重合開始剤に必要に応じてN−フ
ェニルグリシン、2−メルカプトベンゾチアゾール、N
、 N−ジアルキル安息香酸アルキルエステル等の水素
供与性化合物を加えることによって更に光重合開始能力
を高めることができる。
ェニルグリシン、2−メルカプトベンゾチアゾール、N
、 N−ジアルキル安息香酸アルキルエステル等の水素
供与性化合物を加えることによって更に光重合開始能力
を高めることができる。
本発明に使用することのできる「線状有機高分子重合体
」としては、当然光重合可能なエチレン性不飽和化合物
と相溶性を有している線状有機高分子重合体である限り
、どれを使用しても構わない。望ましくは水現像或は弱
アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱アルカリ水可
溶性又は膨潤性である線状有機高分子重合体を選択すべ
きである。線状有機高分子重合体は、該組成物の皮膜形
成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或は有機溶剤
現像剤としての用途に応じて使用される。
」としては、当然光重合可能なエチレン性不飽和化合物
と相溶性を有している線状有機高分子重合体である限り
、どれを使用しても構わない。望ましくは水現像或は弱
アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱アルカリ水可
溶性又は膨潤性である線状有機高分子重合体を選択すべ
きである。線状有機高分子重合体は、該組成物の皮膜形
成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或は有機溶剤
現像剤としての用途に応じて使用される。
例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が
可能になる。この様な線上有機高分子重合体としては、
側鎖にカルボン酸を有する付加重合体、例えば特開昭5
9−44615号、特公昭54−34327号、特公昭
58−12577号、特公昭54−25957号、特開
昭54−92723号、特開昭59−53836号、特
開昭59−71048号各広報定記載されている。
可能になる。この様な線上有機高分子重合体としては、
側鎖にカルボン酸を有する付加重合体、例えば特開昭5
9−44615号、特公昭54−34327号、特公昭
58−12577号、特公昭54−25957号、特開
昭54−92723号、特開昭59−53836号、特
開昭59−71048号各広報定記載されている。
すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体
、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン
酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等があ
る。また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロー
ス誘導体がある。この外に水酸基を有する付加重合体に
環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。特に
これらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ
)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニル
モノマー〕共重合体及び〔アリル(メタ)アクリレート
/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合
性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。この他に水
溶性線状有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポ
リエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の
強度をあげるためにアルコール可溶性ナイロンや2.2
−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエビ
クロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン
酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等があ
る。また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロー
ス誘導体がある。この外に水酸基を有する付加重合体に
環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。特に
これらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ
)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニル
モノマー〕共重合体及び〔アリル(メタ)アクリレート
/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合
性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。この他に水
溶性線状有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポ
リエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の
強度をあげるためにアルコール可溶性ナイロンや2.2
−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエビ
クロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
これらの線状有機高分子重合体は全組成中に任意な量を
混和させることができる。しかし90!を量%を越える
場合は形成される画像強度等の点で好ましい結果を与え
ない。好ましくは30〜85%である。また光重合可能
なエチレン性不飽和化合物と線状有機高分子重合体は、
重量比で0.5/9.5〜515の範囲とするのが好ま
しい。より好ましい範囲は179〜4/6範囲である。
混和させることができる。しかし90!を量%を越える
場合は形成される画像強度等の点で好ましい結果を与え
ない。好ましくは30〜85%である。また光重合可能
なエチレン性不飽和化合物と線状有機高分子重合体は、
重量比で0.5/9.5〜515の範囲とするのが好ま
しい。より好ましい範囲は179〜4/6範囲である。
また、本発明においては以上の基本成分の他に感光性組
成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために小量
の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重
合防止剤としてはハイドロキノン、P−メトキシフェノ
ール、ジ−t−ブチル−P−クレゾール、ピロガロール
、1−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4.4’−チ
オビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2
.2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフ
ェノール)、2−ツルカプトベンゾイミダゾール、N−
ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が
あげられる。熱重合防止剤の添加量は、全光重開始剤の
量に対して約0.01%〜約5%が好ましい。また必要
に応じて、酸素による重合阻害を防止するために高級脂
肪酸誘導体等を添加して表面に浮かせてもよい。高級脂
肪酸誘導体の添加量は、全光重合開始剤量の約0.5%
〜約10%が好ましい。・さらに、感光層の着色を目的
として染料もしくは顔料を添加してもよい。
成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために小量
の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重
合防止剤としてはハイドロキノン、P−メトキシフェノ
ール、ジ−t−ブチル−P−クレゾール、ピロガロール
、1−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4.4’−チ
オビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2
.2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフ
ェノール)、2−ツルカプトベンゾイミダゾール、N−
ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が
あげられる。熱重合防止剤の添加量は、全光重開始剤の
量に対して約0.01%〜約5%が好ましい。また必要
に応じて、酸素による重合阻害を防止するために高級脂
肪酸誘導体等を添加して表面に浮かせてもよい。高級脂
肪酸誘導体の添加量は、全光重合開始剤量の約0.5%
〜約10%が好ましい。・さらに、感光層の着色を目的
として染料もしくは顔料を添加してもよい。
染料および顔料の添加量は全光重合開始剤量の約0.5
%〜約5%が好ましい。加えて、硬化皮膜の物性を改良
するために無機充填剤や、その他の公知の添加剤を加え
てもよい。
%〜約5%が好ましい。加えて、硬化皮膜の物性を改良
するために無機充填剤や、その他の公知の添加剤を加え
てもよい。
本発明の光重合性組成物は、塗布する際には種々の有機
溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒と
しては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロ
フラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジア
セトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート
、3−メトキシプロパツール、メトキシメトキシエタノ
ール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテ−・ト、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N、
N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ
−ブチロラクトンなどがある。これらの溶媒は、単独あ
るいは混合して使用することができる。そして、塗布溶
液中の固形分の濃度は、2〜50重量%が適当である。
溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒と
しては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロ
フラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジア
セトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート
、3−メトキシプロパツール、メトキシメトキシエタノ
ール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテ−・ト、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N、
N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ
−ブチロラクトンなどがある。これらの溶媒は、単独あ
るいは混合して使用することができる。そして、塗布溶
液中の固形分の濃度は、2〜50重量%が適当である。
その被覆量は乾燥後の重量で約0.1 g rrr〜約
10 glrdの範囲が適当である。より好ましくは0
.5〜5g/mである。
10 glrdの範囲が適当である。より好ましくは0
.5〜5g/mである。
上記支持体としては、寸度的に安定な板状物が用いられ
る。該寸度的に安定な板状物としては、紙、プラスチッ
ク(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ンなど)がラミネートされた紙、また、例えばアルミニ
ウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅などのよ
うな金属の板、さらに、例えば二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
などのようなプラスチックのフィルム、上記の如き金属
がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチッ
クフィルムなどがあげられる。これらの支持体のうち、
アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安
価であるので特に好ましい。更に、特公昭48−183
27号広報に記載されているようなポリエチレンテレフ
タレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された
複合体シートも好ましい。
る。該寸度的に安定な板状物としては、紙、プラスチッ
ク(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ンなど)がラミネートされた紙、また、例えばアルミニ
ウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅などのよ
うな金属の板、さらに、例えば二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
などのようなプラスチックのフィルム、上記の如き金属
がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチッ
クフィルムなどがあげられる。これらの支持体のうち、
アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安
価であるので特に好ましい。更に、特公昭48−183
27号広報に記載されているようなポリエチレンテレフ
タレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された
複合体シートも好ましい。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。
さらに、砂目立てしたのちに珪酸ナトリウム水溶液に浸
漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用できる。特
公昭47−5125号広報に記載されているようにアル
ミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ金属珪
酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用される。
漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用できる。特
公昭47−5125号広報に記載されているようにアル
ミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ金属珪
酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用される。
上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、
硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有
機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は
二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽
極として電流を流すことにより実施される。
硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有
機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は
二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽
極として電流を流すことにより実施される。
また、米国特許第3,658,662号広報に記載され
ているようなシリケート電着も存効である。
ているようなシリケート電着も存効である。
更に、特公昭46−27481号広報、特開昭52−5
8602号広報、特開昭52−30503号広報に開示
されているような電解グレインを施した支持体と、上記
陽極酸化処理及び珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も
有用である。
8602号広報、特開昭52−30503号広報に開示
されているような電解グレインを施した支持体と、上記
陽極酸化処理及び珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も
有用である。
また、特開昭56−28893号広報に開示されている
ような機械的粗面化、化学エッチ、電解グレイン、陽極
酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適
である。
ような機械的粗面化、化学エッチ、電解グレイン、陽極
酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適
である。
更に、これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、たと
えばポリビニルフォスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有
する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金
属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩
等を下塗りしたものも好適である。
えばポリビニルフォスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有
する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金
属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩
等を下塗りしたものも好適である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられる光重合性組成
物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の密着性の向上
等のために施されるものである。
めに施される以外に、その上に設けられる光重合性組成
物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の密着性の向上
等のために施されるものである。
支持体上に設けられた光重合性組成物の層の上には、空
気中の酸素による重合禁止作用を防止するため、例えば
ポリビニルアルコール、酸性セルロース類などのような
酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を設けても
よい。この様な保護層の塗布方法については、例えば米
国特許第3.458,311号、特公昭55−4972
9号広報に詳しく記載されている。
気中の酸素による重合禁止作用を防止するため、例えば
ポリビニルアルコール、酸性セルロース類などのような
酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を設けても
よい。この様な保護層の塗布方法については、例えば米
国特許第3.458,311号、特公昭55−4972
9号広報に詳しく記載されている。
また本発明の光重合性組成物は通常の光重合反応に使用
できる。さらに、印刷版、プリント基板等作成の際のフ
ォトレジスト等多方面に適用することが可能である。特
に本発明の光重合性組成物の特徴である高感度性と可視
光領域までの幅広い分光感度特性により、Ar” レー
ザー等の可視光レーザー用の感光材料に適用すると良好
な効果が得られる。
できる。さらに、印刷版、プリント基板等作成の際のフ
ォトレジスト等多方面に適用することが可能である。特
に本発明の光重合性組成物の特徴である高感度性と可視
光領域までの幅広い分光感度特性により、Ar” レー
ザー等の可視光レーザー用の感光材料に適用すると良好
な効果が得られる。
本発明の光重合性組成物を用いた印刷版を露光し、現像
液で感光層の未露光部を除去し、画像を得る。これらの
光重合性組成物を平版印刷版として使用する際の好まし
い現像液としては、特公昭57−7427号広報に記載
されているような現像液があげられ、ケイ酸ナトリウム
、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第ニリン酸
ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン酸アン
モニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、
アンモニア水などのような無機アルカリ剤やモノエタノ
ールアミン又はジェタノールアミンなどのような有機ア
ルカリ剤の水溶液が適当である。該アルカリ溶液の濃度
が0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%に
なるように添加される。
液で感光層の未露光部を除去し、画像を得る。これらの
光重合性組成物を平版印刷版として使用する際の好まし
い現像液としては、特公昭57−7427号広報に記載
されているような現像液があげられ、ケイ酸ナトリウム
、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第ニリン酸
ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン酸アン
モニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、
アンモニア水などのような無機アルカリ剤やモノエタノ
ールアミン又はジェタノールアミンなどのような有機ア
ルカリ剤の水溶液が適当である。該アルカリ溶液の濃度
が0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%に
なるように添加される。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やベンジルアルコール、2−フェノキシエタノール、2
−ブトキシェタノールのような有機溶媒を小量含むこと
ができる。例えば、米国特許第3.375.171号お
よび同第3.615.480号公報に記載されているも
のを挙げることができる。
やベンジルアルコール、2−フェノキシエタノール、2
−ブトキシェタノールのような有機溶媒を小量含むこと
ができる。例えば、米国特許第3.375.171号お
よび同第3.615.480号公報に記載されているも
のを挙げることができる。
更に、特開昭50−26601号、同58−、 54
341号、特公昭56−39464号、同56−428
60号の各公報に記載されている現像液も優れている。
341号、特公昭56−39464号、同56−428
60号の各公報に記載されている現像液も優れている。
(発明の効果)
本発明の光重合性組成物は紫外光から可視光の幅広い領
域の活性光線に対して高感度を有する。
域の活性光線に対して高感度を有する。
したがって光源としては超高圧、高圧、中圧、低圧の各
水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、可視及び紫外の各種レーザーラ
ンプ、蛍光灯、タングステン灯、及び太陽光等が使用で
きる。
水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、可視及び紫外の各種レーザーラ
ンプ、蛍光灯、タングステン灯、及び太陽光等が使用で
きる。
以下実施例をもって本発明を説明するが本発明はこれに
限定されるものではない。
限定されるものではない。
実施例1〜3
厚さ0.30mのアルミニウム板をナイロンブラシと4
00メツシユのバミストンの水懸濁液とを用いその表面
を砂目室てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナ
トリウムに70℃で60秒間浸漬してエツチングした後
、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗し
た。これを■。
00メツシユのバミストンの水懸濁液とを用いその表面
を砂目室てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナ
トリウムに70℃で60秒間浸漬してエツチングした後
、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗し
た。これを■。
= 12.7 Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用
いて1%硝酸水溶液中で160クロ一ン/dm”の陽極
特電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測
定したところ、0.6μ(Ra表示)であった。ひきつ
づいて30%のt(zsO4水溶液中に浸漬し55℃で
2分間デスマットした後、20%HzSOa水溶液中、
電流密度2A/dm”において厚さが2.7 g /
rdになるように2分間陽極酸化処理した。
いて1%硝酸水溶液中で160クロ一ン/dm”の陽極
特電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測
定したところ、0.6μ(Ra表示)であった。ひきつ
づいて30%のt(zsO4水溶液中に浸漬し55℃で
2分間デスマットした後、20%HzSOa水溶液中、
電流密度2A/dm”において厚さが2.7 g /
rdになるように2分間陽極酸化処理した。
このように処理されたアルミニウム板上に、下記組成の
感光度を乾燥塗布重量が1.5g/mとなるように塗布
し、80°C2分間乾燥させ感光層を形成させた。
感光度を乾燥塗布重量が1.5g/mとなるように塗布
し、80°C2分間乾燥させ感光層を形成させた。
トリメチロールプロパントリ (アクリロイルオキシプ
ロピル)エーテル 2.0gアリルメタアクリレー
ト /メタクリル酸共重合体 (共重合モル比80/20) 2.0g開始
剤 Xg銅フタロシア
ニン顔料 0.2gフッ素系ノニオン
界面活性剤 0.03g・(3M社製、フルオ
ラソド FC−430(商品名)〕 メチルエチルケトン 20gプロピ
レングリコールモノ メチルエーテルアセテート 20gこの感光
性層上にポリビニルアルコール(ケン化度86.5〜8
9モル%、重合度1000)の3重量%の水溶液を乾燥
塗布重量が2g/rdとなるように塗布し、100℃/
2分間乾燥させた。
ロピル)エーテル 2.0gアリルメタアクリレー
ト /メタクリル酸共重合体 (共重合モル比80/20) 2.0g開始
剤 Xg銅フタロシア
ニン顔料 0.2gフッ素系ノニオン
界面活性剤 0.03g・(3M社製、フルオ
ラソド FC−430(商品名)〕 メチルエチルケトン 20gプロピ
レングリコールモノ メチルエーテルアセテート 20gこの感光
性層上にポリビニルアルコール(ケン化度86.5〜8
9モル%、重合度1000)の3重量%の水溶液を乾燥
塗布重量が2g/rdとなるように塗布し、100℃/
2分間乾燥させた。
可視光での恣光性試験は、可視光(波長=488ni)
、及びAr”レーザー光(波長−488nm)の各単色
光を用いた。可視光の488nmの単色光はタングステ
ンランプを光源としKenko opt−ical f
ilter BF29を通して得た。感度測定には富士
PSステップガイド(富士写真フィルム株式会社製、初
段の透過光学濃度が0.05で順次0.15増えていき
15段まであるステップタブレット)を使用して行った
。画像部での照度が25LUXで120秒露光した時の
PSステップガイドのクリア一段数を表1に示した。
、及びAr”レーザー光(波長−488nm)の各単色
光を用いた。可視光の488nmの単色光はタングステ
ンランプを光源としKenko opt−ical f
ilter BF29を通して得た。感度測定には富士
PSステップガイド(富士写真フィルム株式会社製、初
段の透過光学濃度が0.05で順次0.15増えていき
15段まであるステップタブレット)を使用して行った
。画像部での照度が25LUXで120秒露光した時の
PSステップガイドのクリア一段数を表1に示した。
レーザー光はAr” レーザー(レフセル製モデル95
−3)の波長488nmのシングルラインをビーム径1
00μで使用し計レーザーの強度を変え、スキャンした
(NDフィルター使用)。現像後に得られた線巾を測定
し100μの線巾が再現された時のArレーザーの強度
を感度とし、表1に示した。
−3)の波長488nmのシングルラインをビーム径1
00μで使用し計レーザーの強度を変え、スキャンした
(NDフィルター使用)。現像後に得られた線巾を測定
し100μの線巾が再現された時のArレーザーの強度
を感度とし、表1に示した。
現像には、下記の現像液に25℃、1分間浸漬して行っ
た。
た。
光重合開始剤の組み合わせを変えた時の感度の結果を表
1に示す。
1に示す。
実施例4.5
実施例1のアルミニウム基板の作製において20%)1
.SO,水溶液中で陽極酸化処理する代りに5%りん酸
水溶液中で電流密度2A/dm”において厚さが0.8
g / rdになるように2分間陽極酸化処理した後
、3%のケイ酸ナトリウム水溶液で70°C110秒間
処理した基板を用いて、次の感光液処方に従った感光板
を作製した。
.SO,水溶液中で陽極酸化処理する代りに5%りん酸
水溶液中で電流密度2A/dm”において厚さが0.8
g / rdになるように2分間陽極酸化処理した後
、3%のケイ酸ナトリウム水溶液で70°C110秒間
処理した基板を用いて、次の感光液処方に従った感光板
を作製した。
ペンタエリスリトール
テトラアクリレート1.5g
ベンジルメタアクリレート
/メタアクリル酸共重合体
(共重合モル比65/35) 3.0g開始剤
Xg銅フタロシアニ
ン顔料 0.2gフッ素系ノニオン界
面活性剤 0.03 g(3M社製、フルオラ
ノド FC−430(商品名)〕 メチルエチルケトン 20gプロピ
レングリコール モノメチルエーテルアセテート 20gこの感光
板の乾燥塗布重量は1.5g/rrrであった。そして
実施例1と同様にこの感光板上にポリビニルアルコール
からなる酸素遮断層を設け、実施例1と同様に露光し現
像は特公昭56−42860号公報記載の現像液 で25℃、1分間浸漬して未露光部を除去することによ
って行った。
Xg銅フタロシアニ
ン顔料 0.2gフッ素系ノニオン界
面活性剤 0.03 g(3M社製、フルオラ
ノド FC−430(商品名)〕 メチルエチルケトン 20gプロピ
レングリコール モノメチルエーテルアセテート 20gこの感光
板の乾燥塗布重量は1.5g/rrrであった。そして
実施例1と同様にこの感光板上にポリビニルアルコール
からなる酸素遮断層を設け、実施例1と同様に露光し現
像は特公昭56−42860号公報記載の現像液 で25℃、1分間浸漬して未露光部を除去することによ
って行った。
開始剤系の組み合わせを変えた時の感度の結果を表2に
示す。
示す。
実施例4.5は比較例20〜22から、三元系開始剤が
、−元系、二元系に比べ、高感度であることを示してい
る。
、−元系、二元系に比べ、高感度であることを示してい
る。
昭和 年 月 日
3、補正をする者
事件との関係 出願人
名 称 (520)富士写真フィルム株式会社4、代
理人 5、補正命令の日付 自 発 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
7、補正の内容
理人 5、補正命令の日付 自 発 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
7、補正の内容
Claims (1)
- (1)エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有す
る付加重合可能な化合物と光重合開始剤と、必要に応じ
て線状有機高分子重合体とを含む光重合性組成物におい
て、該光重合開始剤が少なくとも下記の(イ)、(ロ)
及び(ハ)の化合物の組合せであることを特徴とする光
重合性組成物。 (イ)有機過酸化物 (ロ)一般式; ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ただし式中R_1〜R_4はお互いに独立して、水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
リール基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置
換アルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基を表す。また
、R_1〜R_4はそれが結合できる炭素原子と共に非
金属原子から成る環を形成していても良い。 R_6はR_7又は−Z−R_7であり、Zはカルボニ
ル基、スルホニル基、スルフィニル基、又はアリーレン
ジカルボニル基を表し、R_5、R_7は互いに独立し
て、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基、ヘテロ芳香族基、置換ヘテロ芳香
族基、ジアノ基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、カ
ルボキシ基、アルケニル基、置換アルケニル基を表す。 またR_5、R_6は共に非金属原子から成る環を形成
しても良い。XはO、S、NH、又は置換基を有する窒
素原子を表す。Yは、酸素原子、又は▲数式、化学式、
表等があります▼で であり、G_1、G_2は同一でも異なっていても良く
、水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、置換
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基
、置換アリールオキシカルボニル基、アシル基、置換ア
シル基、アリールカルボニル基、置換アリールカルボニ
ル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスル
ホニル基、アリールスルホニル基、フルオロスルホニル
基を表す。但しG_1とG_2は共に水素原子ではない
。又G_1、G_2はそれが形成できる炭素原子と共に
非金属原子から成る環を形成していても良い。)(ハ)
一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (ただし式中、Arは下記の一般式の一つ から選ばれた芳香族基を表し、R_8、R_9は水素原
子又はアルキル基を表し、又、R_8とR_9は互いに
結合してアルキレン基を表しても良い。) ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし式中、R_1_0〜R_1_4は互いに独立し
て水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基
、アリール基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基
、置換アルコキシ基、 −S−R_1_5基、−SO−R_1_5基又は−SO
_2R_1_5基を表すが、但しR_1_0〜R_1_
4基の少なくとも一つは−S−R_1_5基、 −SO−R_1_5基又は−SO_2R_1_5基を表
し、R_1_5はアルキル基、アニケニル基、R_1_
6は水素原子、アルキル基、アシル基を表す。Y_1は
水素原子又は▲数式、化学式、表等があります▼を表す
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP75887A JPS63168403A (ja) | 1987-01-06 | 1987-01-06 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP75887A JPS63168403A (ja) | 1987-01-06 | 1987-01-06 | 光重合性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63168403A true JPS63168403A (ja) | 1988-07-12 |
Family
ID=11482591
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP75887A Pending JPS63168403A (ja) | 1987-01-06 | 1987-01-06 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63168403A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5415976A (en) * | 1991-10-25 | 1995-05-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aminoketone sensitizers for photopolymer compositions |
| US5455143A (en) * | 1991-10-25 | 1995-10-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aminoketone sensitizers for aqueous soluble photopolymer compositions |
| US5786367A (en) * | 1994-07-14 | 1998-07-28 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Cyclic amide derivatives |
| JP2003223007A (ja) * | 2002-01-30 | 2003-08-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製版方法 |
| WO2011069947A1 (en) | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Agfa-Gevaert | Photoinitiators for uv-led curable compositions and inks |
| WO2011069943A1 (en) | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Agfa-Gevaert | Uv-led curable compositions and inks |
-
1987
- 1987-01-06 JP JP75887A patent/JPS63168403A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US5455143A (en) * | 1991-10-25 | 1995-10-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aminoketone sensitizers for aqueous soluble photopolymer compositions |
| US5480994A (en) * | 1991-10-25 | 1996-01-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aminoketone sensitizers for aqueous soluble photopolymer compositions |
| US5534633A (en) * | 1991-10-25 | 1996-07-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aminoketone sensitizers for photopolymer compositions |
| US5786367A (en) * | 1994-07-14 | 1998-07-28 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Cyclic amide derivatives |
| EP0719258B1 (en) * | 1994-07-14 | 2001-10-31 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Cyclic amide derivatives for protecting against ultraviolet rays |
| JP2003223007A (ja) * | 2002-01-30 | 2003-08-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製版方法 |
| WO2011069947A1 (en) | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Agfa-Gevaert | Photoinitiators for uv-led curable compositions and inks |
| WO2011069943A1 (en) | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Agfa-Gevaert | Uv-led curable compositions and inks |
| US8569393B2 (en) | 2009-12-07 | 2013-10-29 | Agfa-Gevaert N.V. | UV-LED curable compositions and inks |
| US8957224B2 (en) | 2009-12-07 | 2015-02-17 | Agfa Graphics Nv | Photoinitiators for UV-LED curable compositions and inks |
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