JPS6316964Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6316964Y2 JPS6316964Y2 JP18127581U JP18127581U JPS6316964Y2 JP S6316964 Y2 JPS6316964 Y2 JP S6316964Y2 JP 18127581 U JP18127581 U JP 18127581U JP 18127581 U JP18127581 U JP 18127581U JP S6316964 Y2 JPS6316964 Y2 JP S6316964Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens system
- sample
- light source
- point
- reflected
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 13
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は表面検査装置に関するものである。
従来、表面の凹凸などのあらさを測定検査する
ものとして、接触測定法と非接触測定法があつ
た。しかしながら前者は、測定しようとする試料
に接触させて、測定するため、試料面を変形させ
たり、傷を付けたりしてしまう恐れがあつた。ま
た非接触測定法においては、レーザー装置を使用
して、レーザー光を試料面に当て、その反射光を
測定して表面状態を測定検査するものと、顕微鏡
によつて測定検査するものとがあるが、レーザー
の場合、装置の簡素化が難かしという欠点があ
り、また顕微鏡の場合、視野内の部分のみしか測
定できないので測定範囲が狭いという欠点があつ
た。
ものとして、接触測定法と非接触測定法があつ
た。しかしながら前者は、測定しようとする試料
に接触させて、測定するため、試料面を変形させ
たり、傷を付けたりしてしまう恐れがあつた。ま
た非接触測定法においては、レーザー装置を使用
して、レーザー光を試料面に当て、その反射光を
測定して表面状態を測定検査するものと、顕微鏡
によつて測定検査するものとがあるが、レーザー
の場合、装置の簡素化が難かしという欠点があ
り、また顕微鏡の場合、視野内の部分のみしか測
定できないので測定範囲が狭いという欠点があつ
た。
したがつて、この考案の目的は、試料面を傷付
けることなく、試料の全表面を同時に測定でき、
しかも小形化を図ることができる表面検査装置を
提供することである。
けることなく、試料の全表面を同時に測定でき、
しかも小形化を図ることができる表面検査装置を
提供することである。
この考案は表面にある曲率半径が大きく微細な
凹凸や歪等の測定検査を対象としており、基本的
構成をまず説明する。第1図において、1は反射
面を有する試料であり、試料の反射側に収束レン
ズ系2を設置し、その同じ側に点光源3を設置す
る。4はそのレンズ系2の焦点であり、点光源3
はレンズ系2の焦点4よりも、レンズ系2側に接
近して設置する。点光源3から出た光線5はレン
ズ系2により光線6のように拡散し、その光線6
は試料1の反射面により、反射光7になつてレン
ズ系2に再入射し、光線8になる。第2図は前記
試料1の拡大図であり、試料1の表面上には幅
L1が数ミリメートルで、深さL2がサブミクロン
であるような凹凸Pがあり、その凹凸Pの曲率半
径Rは数メートルないし数十メートルになつて、
表面からその距離離れた位置に曲率中心9が形成
される。このような凹凸Pに第3図のように試料
1の表面に直角に平行光線束aを入射すると、凹
凸Pの反射光は収束するが凹凸P以外の部分の反
射光はほぼ直角に反射し、その結果、凹凸Pの収
束反射光の領域cを含む位置にたとえばスクリー
ンを置くと他の領域dとの間に明暗の差が生じ
る。したがつてこの反射光の明暗の差異を受光す
ることにより、微細な凹凸Pを検出することがで
きる。また前記凹凸Pの曲率半径が長いため、第
1図に示すように点光源3の位置を焦点4よりレ
ンズ系2側に近ずくように位置させると、より一
層明暗の判断が容易になる。すなわち、点光源3
をレンズ系2の焦点4においた場合と点光源3を
焦点4よりレンズ系2側に近ずいた位置(第1
図)においた場合を比較すると、レンズ系2を通
して試料1に入射しかつ反射してレンズ系2を通
過した反射光は前者の場合、焦点4に収束するの
に対して後者の場合、焦点4よりさらにレンズ系
2から離れた位置に収束する(収束点3′)。その
ため位置1′上に反射光線を写し出した場合を考
えてみると、前者の像l′と後者の像lは関係l>
l′となり、試料1が同じ条件であるにもかかわら
ず、像の分解能を高めることとなる。
凹凸や歪等の測定検査を対象としており、基本的
構成をまず説明する。第1図において、1は反射
面を有する試料であり、試料の反射側に収束レン
ズ系2を設置し、その同じ側に点光源3を設置す
る。4はそのレンズ系2の焦点であり、点光源3
はレンズ系2の焦点4よりも、レンズ系2側に接
近して設置する。点光源3から出た光線5はレン
ズ系2により光線6のように拡散し、その光線6
は試料1の反射面により、反射光7になつてレン
ズ系2に再入射し、光線8になる。第2図は前記
試料1の拡大図であり、試料1の表面上には幅
L1が数ミリメートルで、深さL2がサブミクロン
であるような凹凸Pがあり、その凹凸Pの曲率半
径Rは数メートルないし数十メートルになつて、
表面からその距離離れた位置に曲率中心9が形成
される。このような凹凸Pに第3図のように試料
1の表面に直角に平行光線束aを入射すると、凹
凸Pの反射光は収束するが凹凸P以外の部分の反
射光はほぼ直角に反射し、その結果、凹凸Pの収
束反射光の領域cを含む位置にたとえばスクリー
ンを置くと他の領域dとの間に明暗の差が生じ
る。したがつてこの反射光の明暗の差異を受光す
ることにより、微細な凹凸Pを検出することがで
きる。また前記凹凸Pの曲率半径が長いため、第
1図に示すように点光源3の位置を焦点4よりレ
ンズ系2側に近ずくように位置させると、より一
層明暗の判断が容易になる。すなわち、点光源3
をレンズ系2の焦点4においた場合と点光源3を
焦点4よりレンズ系2側に近ずいた位置(第1
図)においた場合を比較すると、レンズ系2を通
して試料1に入射しかつ反射してレンズ系2を通
過した反射光は前者の場合、焦点4に収束するの
に対して後者の場合、焦点4よりさらにレンズ系
2から離れた位置に収束する(収束点3′)。その
ため位置1′上に反射光線を写し出した場合を考
えてみると、前者の像l′と後者の像lは関係l>
l′となり、試料1が同じ条件であるにもかかわら
ず、像の分解能を高めることとなる。
この考案の一実施例を第4図および第5図に示
す。すなわち、第4図において10は入射光軸で
あり、11は反射光軸である。入射光軸10上に
一般光源で作つた点光源12を設置し、点光源1
2とレンズ系2の間に、集光レンズ系13を入射
光軸10上に設置する。点光源12と集光レンズ
系13によつて点光源装置を構成している。点光
源12から出た光線は集光レンズ系13により点
光源12の実像14を結ぶ。これにより反射面を
有する試料面1にはあたかも点光源12の実像1
4より出た光線になる。そしてこの実像14はレ
ンズ系2の焦点距離よりも短い位置に結ぶよう
に、点光源12と集光レンズ系13とが設置され
る。そして、試料面1から反射された光線を集光
レンズ系15により集光させ試料1の表面から出
た光線を受光面に写し出す。したがつて受光面の
大きさが、試料1の表面の大きさより小さくて
も、集光レンズ系15により反射光線は集光され
るので受光面上に試料面の全体を写し出すことが
できる。これにより、受光面を小さくすることが
でき、装置のコンパクトが計れる。
す。すなわち、第4図において10は入射光軸で
あり、11は反射光軸である。入射光軸10上に
一般光源で作つた点光源12を設置し、点光源1
2とレンズ系2の間に、集光レンズ系13を入射
光軸10上に設置する。点光源12と集光レンズ
系13によつて点光源装置を構成している。点光
源12から出た光線は集光レンズ系13により点
光源12の実像14を結ぶ。これにより反射面を
有する試料面1にはあたかも点光源12の実像1
4より出た光線になる。そしてこの実像14はレ
ンズ系2の焦点距離よりも短い位置に結ぶよう
に、点光源12と集光レンズ系13とが設置され
る。そして、試料面1から反射された光線を集光
レンズ系15により集光させ試料1の表面から出
た光線を受光面に写し出す。したがつて受光面の
大きさが、試料1の表面の大きさより小さくて
も、集光レンズ系15により反射光線は集光され
るので受光面上に試料面の全体を写し出すことが
できる。これにより、受光面を小さくすることが
でき、装置のコンパクトが計れる。
ここで、前記のように点光源12の実像14を
作り出した理由は、入射光軸10と反射光軸11
とをなるべく近づけるためである。たとえば、試
料面を鏡面としてとらえた場合、その鏡面に対
し、垂直から見た場合と、斜めから見た場合にお
ける写し出された像を見た場合、斜めから見た像
の方が、垂直から見た場合よりも、ゆがみが発生
する。このことから、なるべく光軸は、試料面に
対し、垂直にするのが良い。そのためには、入射
光軸と反射光軸を一致させることが良いが、一致
させることができない場合、両光軸は近づけられ
るだけ近づけた方が良い。この場合、点光源12
は、試料1の表面から反射された光線を遮断しな
い位置に設置する必要があり、なおかつ、レンズ
系2の焦点よりも短い位置に設置しなければなら
ない。そのために、集光レンズ系13によつて、
点光源12の実像14を作り出すことにより、入
射光軸10と反射光軸11とを近づけることがで
きる。
作り出した理由は、入射光軸10と反射光軸11
とをなるべく近づけるためである。たとえば、試
料面を鏡面としてとらえた場合、その鏡面に対
し、垂直から見た場合と、斜めから見た場合にお
ける写し出された像を見た場合、斜めから見た像
の方が、垂直から見た場合よりも、ゆがみが発生
する。このことから、なるべく光軸は、試料面に
対し、垂直にするのが良い。そのためには、入射
光軸と反射光軸を一致させることが良いが、一致
させることができない場合、両光軸は近づけられ
るだけ近づけた方が良い。この場合、点光源12
は、試料1の表面から反射された光線を遮断しな
い位置に設置する必要があり、なおかつ、レンズ
系2の焦点よりも短い位置に設置しなければなら
ない。そのために、集光レンズ系13によつて、
点光源12の実像14を作り出すことにより、入
射光軸10と反射光軸11とを近づけることがで
きる。
第5図は、集光レンズ系15の結像点にテレビ
カメラ16を設置した例を示す。集光レンズ系1
5により、反射光線を集光させてテレビカメラ1
6に試料面全体の反射光線の全部を写し出すこと
ができ、それにより画像処理が可能になる。また
テレビカメラ16を、集光レンズ系15の近くに
設置できるので、装置の小形化が計れる。また集
光レンズ系13と、集光レンズ系15を各光軸方
向に移動可能な機構にすることにより、反射面を
有する試料1の大きさに変化があつても、テレビ
カメラ16に入る画像を一定にすることもでき
る。
カメラ16を設置した例を示す。集光レンズ系1
5により、反射光線を集光させてテレビカメラ1
6に試料面全体の反射光線の全部を写し出すこと
ができ、それにより画像処理が可能になる。また
テレビカメラ16を、集光レンズ系15の近くに
設置できるので、装置の小形化が計れる。また集
光レンズ系13と、集光レンズ系15を各光軸方
向に移動可能な機構にすることにより、反射面を
有する試料1の大きさに変化があつても、テレビ
カメラ16に入る画像を一定にすることもでき
る。
第6図は第5図の装置により得られた試料1の
表面の映像である(別紙写真参照)。この条件と
して、レンズ系2の焦点距離1m、点光源12と
して3Wの豆電球、集光レンズ系13および集光
レンズ系15の焦点距離50cm、テレビカメラ16
として焦点距離が35cmの撮像管、試料1として3
インチシリコンウエハを用いた。また点光源12
から試料1までの距離を1.3m、試料1からテレ
ビカメラ16までの距離も同程度である。この第
6図を観察すると、明るい横線Aと、明線および
暗線よりなる横線Bが見られる。一方この3イン
チシリコンウエハの表面状態を触針による検査法
(タリステツプ)により測定したところ、横線A
は第7図aのように深さH1が0.38μm、幅H2が8
mmの微細な凹部が対応し、横線Bの明暗は第7図
bのように、5.6mmの幅L内に0.05μmの凹部(明
部)Q1と0.12μmの凹部(明部)Q2およびそれら
の間の凸部(暗部)Q3が対応することがわかつ
た。こうしてテレビカメラ等で観測される明部が
試料の凹みを表わし、暗部が凸を表わし、もつて
凹凸が検査できることとなる。
表面の映像である(別紙写真参照)。この条件と
して、レンズ系2の焦点距離1m、点光源12と
して3Wの豆電球、集光レンズ系13および集光
レンズ系15の焦点距離50cm、テレビカメラ16
として焦点距離が35cmの撮像管、試料1として3
インチシリコンウエハを用いた。また点光源12
から試料1までの距離を1.3m、試料1からテレ
ビカメラ16までの距離も同程度である。この第
6図を観察すると、明るい横線Aと、明線および
暗線よりなる横線Bが見られる。一方この3イン
チシリコンウエハの表面状態を触針による検査法
(タリステツプ)により測定したところ、横線A
は第7図aのように深さH1が0.38μm、幅H2が8
mmの微細な凹部が対応し、横線Bの明暗は第7図
bのように、5.6mmの幅L内に0.05μmの凹部(明
部)Q1と0.12μmの凹部(明部)Q2およびそれら
の間の凸部(暗部)Q3が対応することがわかつ
た。こうしてテレビカメラ等で観測される明部が
試料の凹みを表わし、暗部が凸を表わし、もつて
凹凸が検査できることとなる。
以上のように、この考案の表面検査装置は、反
射性試料面の前方に配置された収束レンズ系と、
この収束レンズ系の前記反射性試料面の反対側に
配置されてその焦点距離よりも収束レンズ系に接
近して実像点を有する点光源装置と、前記収束レ
ンズ系に対し前記点光源装置と同じ側に設けた受
光面と、前記収束レンズ系と受光面との間に配置
した集光レンズ系とを備え、前記点光源装置の光
線が前記収束レンズ系を通して前記反射性試料面
に入射しかつ前記試料面から反射した反射光を、
前記収束レンズ系を通し、前記集光レンズ系で集
光して前記受光面に入射させる構成としたことを
特徴とするため、つぎの作用効果がある。すなわ
ち、試料に対し非接触検査となるので試料を傷付
けることなく、小形でしかも試料の表面全面を同
時に検査できるという効果があり、装置全体を暗
室内に設置して使用するとさらに測定精度を高め
ることができる。
射性試料面の前方に配置された収束レンズ系と、
この収束レンズ系の前記反射性試料面の反対側に
配置されてその焦点距離よりも収束レンズ系に接
近して実像点を有する点光源装置と、前記収束レ
ンズ系に対し前記点光源装置と同じ側に設けた受
光面と、前記収束レンズ系と受光面との間に配置
した集光レンズ系とを備え、前記点光源装置の光
線が前記収束レンズ系を通して前記反射性試料面
に入射しかつ前記試料面から反射した反射光を、
前記収束レンズ系を通し、前記集光レンズ系で集
光して前記受光面に入射させる構成としたことを
特徴とするため、つぎの作用効果がある。すなわ
ち、試料に対し非接触検査となるので試料を傷付
けることなく、小形でしかも試料の表面全面を同
時に検査できるという効果があり、装置全体を暗
室内に設置して使用するとさらに測定精度を高め
ることができる。
第1図はこの考案の基本構成の概略図、第2図
は試料面の拡大断面図、第3図は試料面上の凹部
に光線を与えた時の光線の状態を示す試料の断面
図、第4図および第5図はこの考案の一実施例の
概略図、第6図は第5図の装置で得られた試料表
面の映像図、第7図は試料表面をタリステツプに
より実測した試料の部分拡大断面図である。 1……反射面を有する試料面、2……レンズ
系、12……点光源、13……集光レンズ系、1
4……点光源の実像、15……集光レンズ系、1
6……テレビカメラ。
は試料面の拡大断面図、第3図は試料面上の凹部
に光線を与えた時の光線の状態を示す試料の断面
図、第4図および第5図はこの考案の一実施例の
概略図、第6図は第5図の装置で得られた試料表
面の映像図、第7図は試料表面をタリステツプに
より実測した試料の部分拡大断面図である。 1……反射面を有する試料面、2……レンズ
系、12……点光源、13……集光レンズ系、1
4……点光源の実像、15……集光レンズ系、1
6……テレビカメラ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 反射性試料面の前方に配置された収束レンズ
系と、この収束レンズ系の前記反射性試料面の
反対側に配置されてその焦点距離よりも収束レ
ンズ系に接近して実像点を有する点光源装置
と、前記収束レンズ系に対し前記点光源装置と
同じ側に設けた受光面と、前記収束レンズ系と
受光面との間に配置した集光レンズ系とを備
え、前記点光源装置の光線が前記収束レンズ系
を通して前記反射性試料面に入射しかつ前記試
料面から反射した反射光を、前記収束レンズ系
を通し、前記集光レンズ系で集光して前記受光
面に入射させる構成としたことを特徴とする表
面検査装置。 (2) 前記点光源装置はその実像点を前記収束レン
ズ系の焦点距離よりも収束レンズ系に接近した
位置に形成させる集光レンズ系を有する実用新
案登録請求の範囲第(1)項記載の表面検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18127581U JPS5886509U (ja) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | 表面検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18127581U JPS5886509U (ja) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | 表面検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5886509U JPS5886509U (ja) | 1983-06-11 |
| JPS6316964Y2 true JPS6316964Y2 (ja) | 1988-05-13 |
Family
ID=29978606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18127581U Granted JPS5886509U (ja) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | 表面検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5886509U (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR3066816B1 (fr) * | 2017-05-24 | 2020-09-04 | Centre Nat Rech Scient | Dispositif optique de mesure de la courbure d'une surface reflechissante |
-
1981
- 1981-12-04 JP JP18127581U patent/JPS5886509U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5886509U (ja) | 1983-06-11 |
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