JPS63170409A - 封止用樹脂組成物 - Google Patents

封止用樹脂組成物

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JPS63170409A
JPS63170409A JP59087A JP59087A JPS63170409A JP S63170409 A JPS63170409 A JP S63170409A JP 59087 A JP59087 A JP 59087A JP 59087 A JP59087 A JP 59087A JP S63170409 A JPS63170409 A JP S63170409A
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epoxy
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inorganic filler
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Kazuhiro Sawai
沢井 和弘
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Toshiba Chemical Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、耐湿性、半田耐熱性に優れた電子電気部品等
の封止用樹脂組成物に関する。
(従来の技術) 近年、半導体集積回路の分野において、高集積化、高信
頼性化の技術開発と同時に、半導体装置の実装工程の自
動化が推進されている。 例えばフラットパッケージ型
の半導体装置を回路基板に取り付ける場合、従来はリー
ドビン毎に半田付けを行っていたが、最近は、半導体装
置全体を250℃以上に加熱した半田浴に浸漬して、半
田付けを行う方法が採用されている。
〈発明が解決しようとする問題点) 従来のエポキシ樹脂、ノボラック型フェノール樹脂およ
び無機質充填剤からなる樹脂組成物で封止した半導体装
置では、装置全体の半田浴浸漬を行うと耐湿性が低下す
るという欠点があった。
特に吸湿した半導体装置を半田浸漬すると封止樹脂と半
導体チップおよびフレームとの間に剥がれが生じ、著し
い耐湿劣化をおこし、電極の腐食による断線や水分によ
るリーク電流を生じ、長期間の信頼性を保証することが
できないという欠点がある。 このため吸湿の影響が少
なく、装置全体の半田浴浸漬をしても耐湿劣化の少ない
封止用樹脂の開発が強く要望されていた。
本発明は、上記の欠点を解消し、要望に応えるためにな
されたもので、吸湿の影響が少なく、特に半田浴浸漬後
の耐湿性および半田耐熱性に優れた封止用樹脂組成物を
提供しようとするものである。
し発明の構成1 (問題点を解決するための手段と作用)本発明者は、上
記の目的を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、封止用
樹脂の成分にケトン樹脂を配合すれば、耐湿性および半
田耐熱性が向上して上記目的を達成できることを見いだ
し、本発明を完成したものである。
すなわち、本発明は、 (A)エポキシ樹脂、 (B)ノボラック型フェノール樹脂、 (C)ケトン樹脂および (D)無機質充填剤 を必須成分とし、全体の樹脂組成物に対して、前記(C
)ケトン樹脂を0.1〜10重量%、また前記(D)無
機質充填剤を25〜90重量%含有することを特徴とす
る封止用樹脂組成物である。 そしてエポキシ樹脂のエ
ポキシ基(a )とノボラック型フェノール樹脂のフェ
ノール性水酸基(b )との当量比[(a)/(b)]
が0.1〜10の範囲内にある封止用樹脂組成物である
本発明に用いる(A>エポキシ樹脂としては、その分子
中にエポキシ基を少なくとも2個有する化合物である限
り、分子構造、分子量など特に制限はなく、一般に封止
用材料に使用されているものを広く包含することができ
る。 例えばビスフェノール型の芳香族系、シクロヘキ
サン誘導体等の脂環族系、さらに次の一般式で示される
エポキシノボラック系等の樹脂が挙げられる。
(式中、R1は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基
を、R2は水素原子又はアルキル基を、nは1以上の整
数をそれぞれ表す) これらのエポキシ樹脂は、単独もしくは2種以上の混合
系として用いる。
本発明に用いる(B)ノボラック型フェノール樹脂とし
ては、フェノール、アルキルフェノール等のフェノール
類とホルムアルデヒドあるいはバラホルムアルデヒドを
反応させて得られるノボラック型フェノール樹脂、およ
びこれらの変性樹脂、例えばエポキシ化もしくはブチル
化ノボラック型フェノール樹脂等が挙げられ、これらの
樹脂は単独もしくは2種以上の混合系として用いる。 
ノボラック型フェノール樹脂の配合割合は、前述した(
A>エポキシ樹脂のエポキシ基(a ”)と、(B)ノ
ボラック型フェノール樹脂のフェノール性水酸基(b)
との当量比[(a)/(b)]が0.1〜10の範囲内
であることが望ましい。 当量比が0.1未満もしくは
10を超えると、耐湿性、成形作業性および硬化物の電
気特性が悪くなり、いずれの場合も好ましくない。 従
って上記の範囲内に限定するのがよい。
本発明に用いる(C)ケトン樹脂としては、アルカリ触
媒の存在下でケトンとホルムアルデヒドとの重縮合反応
によって得られるものであれば、分子量、分子構造等に
特に制限はなく広く使用できる。 具体的なものとして
は、例えば次のものが挙げられる。
(但し、式中nは1以上の整数を表す)これらのケトン
樹脂は単独もしくは2種以上の混合系として使用する。
 ケトン樹脂の配合割合は、全体の樹脂組成物に対して
、0.1〜10!l [1%の範囲とする。 その割合
が0.1重量%未満では、半田耐熱性に効果なく、また
10重量%を超えると、金型汚れ、粘度の増加等、成形
性の面で悪影響を与え、実用に適さず好ましくない。 
このケトン樹脂を用いることによって、封止樹脂と半導
体チップとの密着性や、封止樹脂とリードフレームとの
密着性が向上し、半田浴に浸漬しても耐湿性の劣化が少
ない。
本発明に用いる(D)無機質充填剤としては、シリカ粉
末、アルミナ、三酸化アンチモン、タルク、炭酸カルシ
ウム、チタンホワイト、クレー、マイカ、ベンガラ、ガ
ラス繊維、炭素繊維等が挙げられ、これらは単独もしく
は2種以上の混合系として用いる。 これらのなかでも
特にシリカ粉末やアルミナが好ましく使用される。 無
機質充填剤の配合割合は、全体の樹脂組成物に対して2
5〜90重量%の範囲で含有させる。 その割合が25
重量%未満では耐湿性、耐熱性、機械的特性および成形
性に効果なく、また90重量%を超えるとカサパリが大
きくなり成形性が悪く実用に適さない。
本発明の封止用樹脂組成物は、エポキシ樹脂、ノボラッ
ク型フェノール樹脂、ケトン樹脂および無機質充填剤を
必須成分とするが、必要に応じて、天然ワックス類、合
成ワックス類、直鎖脂肪酸の金属塩、酸アミド、エステ
ル類、パラフィン類などの離型剤、塩素化パラフィン、
ブロムトルエン、ヘキサブロムベンゼン、三酸化アンチ
モンなどの難燃剤、カーボンブラック、ベンガラなどの
着色剤、シランカップリング剤、種々の硬化促進剤等を
適宜添加配合することもできる。
本発明の封止用樹脂組成物を成形材料として製造する場
合の一般的な方法は、エポキシ樹脂、ノボラック型フェ
ノール樹脂、ケトン樹脂、無機質充填剤、その他の原料
成分を所定の組成比に選んで、ミキサー等によって十分
均一に混合した後、更に熱ロールによる溶融混合処理、
またはニーダ等による混合処理を行い、次いで冷却固化
させ、適当な大きさに粉砕して成形材料とする。 こう
して得られた成形材料は、電子部品或いは電気部品の封
止、被覆、絶縁等に適用することができる。
〈実施例) 次に本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発
明は以下の実施例に限定されるものではない。 以下の
実施例および比較例において、「%」とあるのは「重量
%」を意味する。
実施例 1 クレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当121
5) 18%に、ノボラック型フェノール樹脂(フェノ
ール当量107)  9%、次の式で示されるケトン樹
脂2%、 溶融シリカ粉末71%、硬化促進剤0.3%、エステル
系ワックス0.3%、およびシラン系カップリング剤0
.4%を常温で混合し、更に90〜95℃で混練して冷
却した後、粉砕して成形材料を得た。 得られた成形材
料を170℃に加熱した金型内にトランスファー注入し
硬化させて成形品(封止品)を得た。 この成形品につ
いて耐湿性、応力等に関連する緒特性を試験したのでそ
の結果を第1表に示したが、本発明の顕著な効果が認め
られた。
実施例 2 タレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当量21
5) 18%に、ノボラック型フェノール樹脂(フェノ
ール当量107)  9%、次の式で示しされるケトン
樹脂2%、 シリカ粉末71%、硬化促進剤0.3%、エステル系ワ
ックス0.3%およびシラン系カップリング剤0.4%
を実施例1と同様に混′合、混線、粉砕して成形材料を
得た。 次いで実施例1と同様にして成形品を得、また
耐湿性、応力等に関連する諸特性を試験したのでその結
果を第1表に示した。
本発明の顕著な効果が認められた。
比較例 クレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当112
15) 19%に、ノボラック型フェノール樹脂(フェ
ノール当量107)  9%、シリカ粉末71%、硬化
促進剤0.3%、エステル系ワックス0.3%およびシ
ラン系カップリング剤0.4%を実施例1と同様にして
成形材料を得た。 この成形材料を用いて成形品とし、
成形品の諸特性について実施例1と同様に試験した。 
その結果を第1表に示した。
実施例および比較例について行った吸水率、ガラス転移
温度、半田浴浸漬後の耐湿性の試験は、次のようにして
行った。 吸水率は、トランスファー成形によって直径
50s+m、厚さ3− の成形品を作成し、これを12
7℃、2.5気圧の飽和水蒸気中に24時間放置し、増
加した重量によって求めた。
ガラス転移温度は、吸水率の試験と同じ成形品を作成し
、これを115℃で8時間の後硬化を行い、適当な大き
さのテストピースとし、熱機械分析装置を用いて測定し
た。 また、耐湿性は、封止用樹脂組成物を用いて、2
本以上のアルミニウム配線を有するシリコン製チップ(
テスト用素子)を通常の4270イフレームに接着し、
175℃で2分間トランスファー成形して5x 10x
  1.5sn+のフラットパッケージ型成形品を得、
その後175℃で8時間後硬化を行った。 この成形品
を予め40℃。
90%RH,100時間の吸湿処理をした後、250℃
の半田浴に10秒間浸漬した。 そのl 127℃。
2.5気圧の飽和水蒸気中でプレッシャー・クツカー・
テスト(PCT)を行い、アルミニウムの腐食による断
線を不良として評価した。
[発明の効果] 以上の説明および第1表から明らか゛なように、本発明
の封止用樹脂組成物は、半導体チップやりフトオフに対
する密着性が良いために、吸湿の影響が少なく、半田浴
に浸漬した後でも耐湿性に優れ、その結果電極の腐食に
よる断線や水分によるリーク電流の発生などを著しく低
減することができ、しかも長期間に渡って信頼性を保証
することができる。 また、250℃以上の半田浴浸漬
にもかかわらず優れた耐熱性を示した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (A)エポキシ樹脂、 (B)ノボラック型フェノール樹脂、 (C)ケトン樹脂および (D)無機質充填剤 を必須成分とし、全体の樹脂組成物に対して、前記(C
    )ケトン樹脂を0.1〜10重量%、また前記(D)無
    機質充填剤を25〜90重量%含有することを特徴とす
    る封止用樹脂組成物。 2 エポキシ樹脂のエポキシ基(a)とノボラック型フ
    ェノール樹脂のフェノール性水酸基(b)との当量比[
    (a)/(b)]が0.1〜10の範囲内にある特許請
    求の範囲第1項記載の封止用樹脂組成物。
JP62000590A 1987-01-07 1987-01-07 封止用樹脂組成物 Expired - Lifetime JPH0721040B2 (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6097649A (ja) * 1983-11-02 1985-05-31 Hitachi Ltd 樹脂封止型半導体装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS6097649A (ja) * 1983-11-02 1985-05-31 Hitachi Ltd 樹脂封止型半導体装置

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