JPS63174794A - レ−ザ加工用マスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はレーザで加工するときに用いるマスクに関する
ものである。

従来の技術 従来のレーザ加工用マスクは、固定式で第２図に示すよ
うな装置の構成になっていた。１はレーザ発振器、２は
レーザ・ビーム、３は集光レンズ、４は反射ミラー、６
は固定式マスク、６は被加工物である。

レーザ発振器１から出たレーザ・ビーム２は集光レンズ
３で集光後、固定式マスク６で不必要な部分のレーザ・
ビームが除かれた後、被加工物６に照射され所定の形状
に加工される。レーザ・ビーム２は通例では連続発振さ
れるが、パルス化される場合もある。また、固定式マス
ク５は集光レンズ３にレーザ・ビーム２が入る前に配置
してもよい。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記のような構成では、マスク部が固定さ
れているので、移動可能な被加工物に対して広い範囲に
わたってマスクされたレーザ・ビームを照射することが
できない。また、次々にマスクを父換するのが困難であ
るという問題点も有していた。

本発明は上記問題点に鑑み、広い範囲にわたって周期的
にレーザ・ビーム全照射すたり、マスク形状を次々に又
換することを可能にするレーザ加工用マスクを提供する
ものである。

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために本発明のレーザ加工用マス
クは、回転中心と、回転中心の同心円上に形成された所
定の形状のレーザ・ビームを通過させるためのスリット
とを備えたものである。

作　　用 本発明は上記した構成によって、移動する被加工物に対
して、回転するマスク全通過させてレーザ・ビーム全照
射することによシ、広い範囲にわたって種々な形状にレ
ーザ加工することができる。

父、マスク全回転させることにより、マスク形状を次々
に変化させることも可能である。

実施例 以下本発明の一実施例のレーザ加工用マスクについて、
図面を参照しながら説明する。

第１図は本発明の第１実施例におけるレーザ加工用マス
ク金剛いたフィルム加工装置の構成図金示す。第１図に
おいて、７は回転式のレーザ加工用マスク、８は回転軸
、９は被加工物であるフィルム、１０はガイド・ローラ
、１１は供給ロール、１２は巻取ロール、１３は炭酸ガ
ス・レーザ発振器である。

上記構成のフィルム加工装置において、フィルム９を連
続的に巻きとυながら、回転するレーザ加工用マスク７
全通してレーザ・ビーム２を照射する。回転式のレーザ
加工用マスク７には回転軸８と同心円上に所定の形状の
スリットが形成されているので、フィルムに対して周期
的な加工を行うことができるのである。周期の長さは、
フィルムの送り速度とマスクの回転速度の組み合わせに
よって変えることができる。

なお、上記第１実施例においては、回転式のレーザ加工
用マスク７は連続的に回転するとしたが、回転と停止を
繰シ返す方法でもよいことは言うまでもない。

発明の効果 以上のように本発明のレーザ加工用マスクは、回転中心
と、回転中心の同心円上に形成された所定の形状のレー
ザ・ビーム全通過させるためのスリットとを設けること
によシ、移動可能な被加工物に対して広い範囲にわたっ
て周期的にレーザ・ビームを照射したシ、マスク形状を
次々に交換することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例におけるレーザ加工用マス
クを用いたフィルム加工装置の構成図、第２図は従来の
固定式レーザ加工用マスクを用いた装置の構成図である
。 ２・・・・・・レーザ・ビーム、７・・・・・・レーザ
加工用マスク、８・・・・・・回転軸。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名第１
図 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 回転中心と、回転中心の同心円上に形成された所定の形
   状のレーザ・ビームを通過させるためのスリットとを備
   えたことを特徴とするレーザ加工用マスク。