JPH081367A - レーザ加工装置 - Google Patents
レーザ加工装置Info
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- JPH081367A JPH081367A JP6139883A JP13988394A JPH081367A JP H081367 A JPH081367 A JP H081367A JP 6139883 A JP6139883 A JP 6139883A JP 13988394 A JP13988394 A JP 13988394A JP H081367 A JPH081367 A JP H081367A
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- Japan
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- hole
- laser beam
- excimer laser
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Links
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
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- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
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Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 良好に貫通穴を加工すること。
【構成】 被加工物9を加工テーブル20上に配置し、
ロータリーポンプを駆動して、エアーバキューム穴11
に負圧を発生させて、加工テーブル20に被加工物9を
固定する。そして、エキシマレーザビーム2を被加工物
9に照射して貫通穴13の加工を行う。加工テーブル2
0には、エキシマレーザビーム照射位置に凹部12が形
成されているため、貫通穴加工時において加工テーブル
20でのエキシマレーザビーム2の反射はなく、エキシ
マレーザビーム出射側の貫通穴13周辺にダメージが発
生しない。
ロータリーポンプを駆動して、エアーバキューム穴11
に負圧を発生させて、加工テーブル20に被加工物9を
固定する。そして、エキシマレーザビーム2を被加工物
9に照射して貫通穴13の加工を行う。加工テーブル2
0には、エキシマレーザビーム照射位置に凹部12が形
成されているため、貫通穴加工時において加工テーブル
20でのエキシマレーザビーム2の反射はなく、エキシ
マレーザビーム出射側の貫通穴13周辺にダメージが発
生しない。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光を用いて被加
工物に貫通穴を加工するレーザ加工装置に関するもので
ある。
工物に貫通穴を加工するレーザ加工装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来、エキシマレーザビームによってシ
ート状の被加工物に加工を施す場合、被加工物を保持す
る方法としては、エアーによるバキューム方法などが用
いられている。このバキューム方法では、被加工物を配
置するテーブルに、バキューム用穴を形成し、そのバキ
ューム用穴に負圧を発生させて被加工物をテーブルに固
定している。このテーブルは銅やステンレスなどによっ
て形成されている。
ート状の被加工物に加工を施す場合、被加工物を保持す
る方法としては、エアーによるバキューム方法などが用
いられている。このバキューム方法では、被加工物を配
置するテーブルに、バキューム用穴を形成し、そのバキ
ューム用穴に負圧を発生させて被加工物をテーブルに固
定している。このテーブルは銅やステンレスなどによっ
て形成されている。
【0003】また、レーザ加工条件として、レーザの不
安定性や貫通穴周りのスムーズ性を考慮して、被加工物
に貫通穴が加工される時間よりも多少長い時間、エキシ
マレーザビームを照射する方法が一般的に用いられてい
る。
安定性や貫通穴周りのスムーズ性を考慮して、被加工物
に貫通穴が加工される時間よりも多少長い時間、エキシ
マレーザビームを照射する方法が一般的に用いられてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記貫
通穴が加工されるよりも長い時間エキシマレーザビーム
を照射することによって、エキシマレーザビームの前記
テーブルからの反射により、加工部材の穴形成部周辺に
ダメージを受けることがある。特に、前記銅や鉄系部材
はエキシマレーザの反射率が高いため、被加工物がダメ
ージを受ける確率が高い。
通穴が加工されるよりも長い時間エキシマレーザビーム
を照射することによって、エキシマレーザビームの前記
テーブルからの反射により、加工部材の穴形成部周辺に
ダメージを受けることがある。特に、前記銅や鉄系部材
はエキシマレーザの反射率が高いため、被加工物がダメ
ージを受ける確率が高い。
【0005】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、良好に貫通穴を加工することが
できるレーザ加工装置を提供することを目的とする。
になされたものであり、良好に貫通穴を加工することが
できるレーザ加工装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明のでは、レーザ光を用いて被加工物に貫通穴を
加工するレーザ加工装置において、前記被加工物を支持
し、被加工物の貫通穴形成位置に対応して凹部が設けら
れた加工テーブルを備えている。
に本発明のでは、レーザ光を用いて被加工物に貫通穴を
加工するレーザ加工装置において、前記被加工物を支持
し、被加工物の貫通穴形成位置に対応して凹部が設けら
れた加工テーブルを備えている。
【0007】
【作用】上記の構成を有する本発明のレーザ加工装置で
は、被加工物を支持する加工テーブルに形成された凹部
が、前記レーザ光の反射を防止する。
は、被加工物を支持する加工テーブルに形成された凹部
が、前記レーザ光の反射を防止する。
【0008】
【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図面を
参照して説明する。
参照して説明する。
【0009】図1はレーザ加工時の全体の構成を示す図
である。
である。
【0010】レーザ発振器1より発振されたエキシマレ
ーザビーム2は、ミラー3a、3b、3cにより加工テ
ーブル20上の被加工物9にいたる光路が形成される。
ミラー3aとミラー3bとの間の光路上には、エキシマ
レーザビーム2を所望のサイズに拡大し、エネルギーを
均一化するビームホモジナイザー4が設けられている。
ミラー3bとミラー3cとの間の光路上には、エキシマ
レーザビーム2を明けようとする穴に対応した形状にす
るためのマスク5が設けられており、またマスク5の下
流には、マスク5を通過したマスク像を結像光学系7に
導くためのフィールドレンズ6が設けられている。前記
結像光学系7は、加工テーブル20に置かれた被加工物
9にマスク5を透過したエキシマレーザビーム2を所定
の大きさに絞り込むためのものであり、ミラー3cと加
工テーブル20との間に設けられている。
ーザビーム2は、ミラー3a、3b、3cにより加工テ
ーブル20上の被加工物9にいたる光路が形成される。
ミラー3aとミラー3bとの間の光路上には、エキシマ
レーザビーム2を所望のサイズに拡大し、エネルギーを
均一化するビームホモジナイザー4が設けられている。
ミラー3bとミラー3cとの間の光路上には、エキシマ
レーザビーム2を明けようとする穴に対応した形状にす
るためのマスク5が設けられており、またマスク5の下
流には、マスク5を通過したマスク像を結像光学系7に
導くためのフィールドレンズ6が設けられている。前記
結像光学系7は、加工テーブル20に置かれた被加工物
9にマスク5を透過したエキシマレーザビーム2を所定
の大きさに絞り込むためのものであり、ミラー3cと加
工テーブル20との間に設けられている。
【0011】そして、レーザ発振器1から発振されたエ
キシマレーザビーム2は、ミラー3a、ビームホモジナ
イザー4、ミラー3bを介してマスク5にいたり、その
マスク5を通過することによって、所望の形状にされ
る。そのマスクを通過したエキシマレーザビーム2は、
フィールドレンズ6、ミラー3c、結像光学系7を介し
て加工テーブル20上に置かれた被加工物9に照射され
て、被加工物9に貫通穴が加工される。
キシマレーザビーム2は、ミラー3a、ビームホモジナ
イザー4、ミラー3bを介してマスク5にいたり、その
マスク5を通過することによって、所望の形状にされ
る。そのマスクを通過したエキシマレーザビーム2は、
フィールドレンズ6、ミラー3c、結像光学系7を介し
て加工テーブル20上に置かれた被加工物9に照射され
て、被加工物9に貫通穴が加工される。
【0012】次に、加工テーブルに付いて説明する。図
2に示すように、加工テーブル20には、被加工用物9
を保持するためのエアーバキューム穴11が設けられて
おり、そのエアーバキューム穴11はロータリーポンプ
(図示せず)に連結されている。このロータリーポンプ
を駆動することによって、エアーバキューム穴11に負
圧が発生し、加工テーブル20に被加工物9が固定され
る。また、加工テーブル20には、前記エキシマレーザ
ビーム2によって被加工物9に貫通穴が加工される位置
に対応して、直方体状の凹部12が形成されている。
2に示すように、加工テーブル20には、被加工用物9
を保持するためのエアーバキューム穴11が設けられて
おり、そのエアーバキューム穴11はロータリーポンプ
(図示せず)に連結されている。このロータリーポンプ
を駆動することによって、エアーバキューム穴11に負
圧が発生し、加工テーブル20に被加工物9が固定され
る。また、加工テーブル20には、前記エキシマレーザ
ビーム2によって被加工物9に貫通穴が加工される位置
に対応して、直方体状の凹部12が形成されている。
【0013】実際にエキシマレーザビーム2で被加工物
9を加工した場合について図3を用いて説明する。被加
工物9として100μmのポリミドシートを用い、マス
ク5には300μmの円マスクパターンを用い、エネル
ギーが250j/パルスであるエキシマレーザービーム
2を200HZで4秒間照射して、被加工物9に貫通穴
13を加工する。
9を加工した場合について図3を用いて説明する。被加
工物9として100μmのポリミドシートを用い、マス
ク5には300μmの円マスクパターンを用い、エネル
ギーが250j/パルスであるエキシマレーザービーム
2を200HZで4秒間照射して、被加工物9に貫通穴
13を加工する。
【0014】加工テーブル20には、エキシマレーザビ
ーム照射位置に凹部12が形成されているため、この貫
通穴加工時において加工テーブル20でのエキシマレー
ザビーム2の反射はなく、また、反射があっても、被加
工物9にエキシマレーザビーム2のエネルギーの焦点が
合っているため、大きくデフォーカスかれた反射ビーム
となり、エキシマレーザビーム出射側の貫通穴13周辺
にダメージが発生しなく、良好な貫通穴13を加工する
ことができる。
ーム照射位置に凹部12が形成されているため、この貫
通穴加工時において加工テーブル20でのエキシマレー
ザビーム2の反射はなく、また、反射があっても、被加
工物9にエキシマレーザビーム2のエネルギーの焦点が
合っているため、大きくデフォーカスかれた反射ビーム
となり、エキシマレーザビーム出射側の貫通穴13周辺
にダメージが発生しなく、良好な貫通穴13を加工する
ことができる。
【0015】前記凹部の幅は、加工される部材にもよる
が、前記のような薄い樹脂シートなどでは、エキシマレ
ーザビームによるアブレーション加工の反力でシートが
振動して、シートがたわみ加工焦点が変化することがあ
るため、なるべく小さくした方がよい。深さについて
は、なるべく深い方がよい。
が、前記のような薄い樹脂シートなどでは、エキシマレ
ーザビームによるアブレーション加工の反力でシートが
振動して、シートがたわみ加工焦点が変化することがあ
るため、なるべく小さくした方がよい。深さについて
は、なるべく深い方がよい。
【0016】本発明は上述した実施例に限定されるもの
ではなく、その主旨を逸脱しない範囲において種々の変
更を加えることができる。例えば、前記凹部12内面に
エキシマレーザビーム2を吸収しやすい膜などを施して
もよい。また、前記凹部は貫通穴でもよい。
ではなく、その主旨を逸脱しない範囲において種々の変
更を加えることができる。例えば、前記凹部12内面に
エキシマレーザビーム2を吸収しやすい膜などを施して
もよい。また、前記凹部は貫通穴でもよい。
【0017】さらに、加工される部材の支持方法とし
て、エアーによるバキューム方法を用いたが、両面テー
プなどによる接着でもよい。
て、エアーによるバキューム方法を用いたが、両面テー
プなどによる接着でもよい。
【0018】
【発明の効果】以上説明したことから明かなように、本
発明のレーザ加工装置によれば、被加工物を支持する加
工テーブルに、レーザ光照射位置に対応して凹部が形成
されているので、前記レーザ光の加工テーブルによる被
加工物への反射が防止される。このため、被加工物にダ
メージを与えることなく良好に貫通穴加工ができる。
発明のレーザ加工装置によれば、被加工物を支持する加
工テーブルに、レーザ光照射位置に対応して凹部が形成
されているので、前記レーザ光の加工テーブルによる被
加工物への反射が防止される。このため、被加工物にダ
メージを与えることなく良好に貫通穴加工ができる。
【図1】本発明の一実施例のレーザ加工装置を示す構成
図である。
図である。
【図2】前記実施例の加工テーブルを示す説明図であ
る。
る。
【図3】前記実施例のレーザ加工装置で加工した被加工
物を示す説明図である。
物を示す説明図である。
1 レーザビーム 9 被加工物 12 凹部 20 加工テーブル
Claims (1)
- 【請求項1】 レーザ光を用いて被加工物に貫通穴を加
工するレーザ加工装置において、 前記被加工物を支持し、被加工物の貫通穴形成位置に対
応して凹部が設けられた加工テーブルを備えたことを特
徴とするレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6139883A JPH081367A (ja) | 1994-06-22 | 1994-06-22 | レーザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6139883A JPH081367A (ja) | 1994-06-22 | 1994-06-22 | レーザ加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH081367A true JPH081367A (ja) | 1996-01-09 |
Family
ID=15255809
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6139883A Pending JPH081367A (ja) | 1994-06-22 | 1994-06-22 | レーザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH081367A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5942137A (en) * | 1997-08-29 | 1999-08-24 | Scitex Corporation Ltd. | Method and apparatus for laser scribing grooves on hard crystals |
| JP2008198383A (ja) * | 2007-02-08 | 2008-08-28 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | スイッチ部材の製造方法およびそれに用いられるレーザ切断治具 |
| JP2013000753A (ja) * | 2011-06-13 | 2013-01-07 | Universal Seikan Kk | 被加工素材固定用治具、レーザ加工装置、及び、スリーブ印刷版の製造方法 |
| CN105798468A (zh) * | 2016-04-29 | 2016-07-27 | 成都国珈星际固态锂电科技有限公司 | 一种激光切割装置 |
| WO2023119758A1 (ja) * | 2021-12-23 | 2023-06-29 | Towa株式会社 | 加工装置、及び、加工品の製造方法 |
| WO2023135897A1 (ja) * | 2022-01-11 | 2023-07-20 | Towa株式会社 | 加工装置、及び、加工品の製造方法 |
| WO2023135898A1 (ja) * | 2022-01-13 | 2023-07-20 | Towa株式会社 | 加工装置、及び、加工品の製造方法 |
-
1994
- 1994-06-22 JP JP6139883A patent/JPH081367A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5942137A (en) * | 1997-08-29 | 1999-08-24 | Scitex Corporation Ltd. | Method and apparatus for laser scribing grooves on hard crystals |
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| JP2013000753A (ja) * | 2011-06-13 | 2013-01-07 | Universal Seikan Kk | 被加工素材固定用治具、レーザ加工装置、及び、スリーブ印刷版の製造方法 |
| CN105798468A (zh) * | 2016-04-29 | 2016-07-27 | 成都国珈星际固态锂电科技有限公司 | 一种激光切割装置 |
| CN105798468B (zh) * | 2016-04-29 | 2017-12-26 | 成都国珈星际固态锂电科技有限公司 | 一种激光切割装置 |
| JP2023094113A (ja) * | 2021-12-23 | 2023-07-05 | Towa株式会社 | 加工装置、及び、加工品の製造方法 |
| WO2023119758A1 (ja) * | 2021-12-23 | 2023-06-29 | Towa株式会社 | 加工装置、及び、加工品の製造方法 |
| TWI853337B (zh) * | 2021-12-23 | 2024-08-21 | 日商Towa股份有限公司 | 加工裝置、及加工品的製造方法 |
| EP4454801A4 (en) * | 2021-12-23 | 2025-04-16 | Towa Corporation | Processing device and method for manufacturing processed article |
| WO2023135897A1 (ja) * | 2022-01-11 | 2023-07-20 | Towa株式会社 | 加工装置、及び、加工品の製造方法 |
| JP2023102048A (ja) * | 2022-01-11 | 2023-07-24 | Towa株式会社 | 加工装置、及び、加工品の製造方法 |
| WO2023135898A1 (ja) * | 2022-01-13 | 2023-07-20 | Towa株式会社 | 加工装置、及び、加工品の製造方法 |
| JP2023102993A (ja) * | 2022-01-13 | 2023-07-26 | Towa株式会社 | 加工装置、及び、加工品の製造方法 |
| KR20240093950A (ko) * | 2022-01-13 | 2024-06-24 | 토와 가부시기가이샤 | 가공 장치 및 가공품의 제조 방법 |
| TWI874870B (zh) * | 2022-01-13 | 2025-03-01 | 日商Towa股份有限公司 | 加工裝置、及加工品的製造方法 |
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