JPS63176332A - 電子機器の基板用ガラス - Google Patents
電子機器の基板用ガラスInfo
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- JPS63176332A JPS63176332A JP787487A JP787487A JPS63176332A JP S63176332 A JPS63176332 A JP S63176332A JP 787487 A JP787487 A JP 787487A JP 787487 A JP787487 A JP 787487A JP S63176332 A JPS63176332 A JP S63176332A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
Landscapes
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- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子機器の基板用ガラス組成に関し、特に薄膜
トランジスタ、液晶素子、薄膜発光素子等の基板用ガラ
スとして好適なガラス組成に関する。
トランジスタ、液晶素子、薄膜発光素子等の基板用ガラ
スとして好適なガラス組成に関する。
薄Ｖ撮像素子ならびに液晶及び発光素子の平面ディスプ
レーなどに用いられる電子枳器の基板ガラスには、背面
からの光が１３ ｄ＝する必要性から透明であること、
基板ガラス上に形成する放膜素子あるいは液晶に悪影響
を及ぼすアルカリイオンを含有しないこと、基板ガラス
と基板ガラス上に形成させる膜との熱膨張係数のちがい
によるクラックの発生あるいは膜のはく離を防止する目
的から適度な熱膨張係数、つまり！！；−６ＯＸ１０−
７に一’ ｆ！る熱膨張係数を有すること、基板ガラス
上の散・形成及びアニール工程などにおける加熱操作、
つまり６００〜７００″Ｃに耐え得るだけの耐熱性を有
すること、回路の洗浄・エツチングに月！いられる薬液
に対する化学的耐久性、特に７フ化水素酸系のエツチン
グ液に対する耐侵食性（以彼、耐７ツ酬性と記す）に優
れていることなど厳しい特性が要求され手動る。
レーなどに用いられる電子枳器の基板ガラスには、背面
からの光が１３ ｄ＝する必要性から透明であること、
基板ガラス上に形成する放膜素子あるいは液晶に悪影響
を及ぼすアルカリイオンを含有しないこと、基板ガラス
と基板ガラス上に形成させる膜との熱膨張係数のちがい
によるクラックの発生あるいは膜のはく離を防止する目
的から適度な熱膨張係数、つまり！！；−６ＯＸ１０−
７に一’ ｆ！る熱膨張係数を有すること、基板ガラス
上の散・形成及びアニール工程などにおける加熱操作、
つまり６００〜７００″Ｃに耐え得るだけの耐熱性を有
すること、回路の洗浄・エツチングに月！いられる薬液
に対する化学的耐久性、特に７フ化水素酸系のエツチン
グ液に対する耐侵食性（以彼、耐７ツ酬性と記す）に優
れていることなど厳しい特性が要求され手動る。
従来の電子機器の基板用ガラスには５ｉ０２被膜をコー
トしたシリカ・ソーダ・ライム系の普通板ガラス、石英
ガラスや無アルカリないしは低アルカリの硼珪酸又はア
ルミノ硼珪酸ガラスが使用されている。
トしたシリカ・ソーダ・ライム系の普通板ガラス、石英
ガラスや無アルカリないしは低アルカリの硼珪酸又はア
ルミノ硼珪酸ガラスが使用されている。
しかしながら、５ｉ０２ 被膜をコートしたシリカ・ソ
ーダ・ライム系の普通板ガラスにあっては、板ガラス自
体は安価であるが、５ｉ０２コーテイング液例えばエチ
ルシリケートが極めて高価であり、またコートした被膜
にピンホールが生じ易いので最終的に高価なものになる
という間４点があり、耐熱性にもルがあった。又石英ガ
ラスにおいては、ガラスからのアルカリ溶出が無く、耐
熱性に優れているが、高価であり、また熱膨張係数が非
常にＩｄ、ｒ、、 ナー ｈＮ ｌｒ 季１− 番
＃ Ａ −Ｆ Ｌ ＩＪＦ 罵ン ｅｈ
−ｌｒ ａ本 ｘ ｎＭ ｉｌ ｍｌ ｒ ＋
るいは厚さによっては、熱膨張係数の大きなちがいによ
って股にクラックを生じたり、膜がはく離してしまう場
合があるなどの間罠点があった。一方、無アルカリない
しは低アルカリの硼珪酸又はアルミノ硼珪酸ガラスにお
いては、耐熱性や化学的耐久性に難があり、基板の洗浄
やエツチングが制限されるという間順点があった。
ーダ・ライム系の普通板ガラスにあっては、板ガラス自
体は安価であるが、５ｉ０２コーテイング液例えばエチ
ルシリケートが極めて高価であり、またコートした被膜
にピンホールが生じ易いので最終的に高価なものになる
という間４点があり、耐熱性にもルがあった。又石英ガ
ラスにおいては、ガラスからのアルカリ溶出が無く、耐
熱性に優れているが、高価であり、また熱膨張係数が非
常にＩｄ、ｒ、、 ナー ｈＮ ｌｒ 季１− 番
＃ Ａ −Ｆ Ｌ ＩＪＦ 罵ン ｅｈ
−ｌｒ ａ本 ｘ ｎＭ ｉｌ ｍｌ ｒ ＋
るいは厚さによっては、熱膨張係数の大きなちがいによ
って股にクラックを生じたり、膜がはく離してしまう場
合があるなどの間罠点があった。一方、無アルカリない
しは低アルカリの硼珪酸又はアルミノ硼珪酸ガラスにお
いては、耐熱性や化学的耐久性に難があり、基板の洗浄
やエツチングが制限されるという間順点があった。
本発明は、透明でアルカリ溶出がほとんど無く、適度の
熱膨張係数を持ち、かつ耐熱性及び化学的耐久性に優れ
た電子機器の基板用ガラスを提供するものである。
熱膨張係数を持ち、かつ耐熱性及び化学的耐久性に優れ
た電子機器の基板用ガラスを提供するものである。
（１！ｊｌ Ｗ、、’点を解決するための手段〕本発明
は、重Ｍ＋％で Ｒ２０ＯＮＯ，Ｓ ＭｇＯＯ５−ＩＯ ＣａＯ／／へ２５ ＢａＯＯへ５ ｓｒｏ ｏ〜５ ｎｏｏ−ｔ １ＡＪＩＩＶ １１ｕ （１）ｒ’−！ ’ＩＲ／Ｊ
／ ＾ ＪＬ ｆＬ ハ２％ Ｃｕ ／；）
ｌｉｆｔ： ＶＪ ｆｉｔ ａ： Ｃ１）Ａ１２０３
／Ｊ〜３０ Ｓｉ０２ ！；３〜７０Ｔｉ０２
ｏ〜３ Ｚｒ０，２ＯＡ−ｊ Ｐ２０５ＯＡ−３ ただしＲ２０はアルカリ金ＦｆＳ酸化物からなる電子セ
、・、器の基板用ガラスである。
は、重Ｍ＋％で Ｒ２０ＯＮＯ，Ｓ ＭｇＯＯ５−ＩＯ ＣａＯ／／へ２５ ＢａＯＯへ５ ｓｒｏ ｏ〜５ ｎｏｏ−ｔ １ＡＪＩＩＶ １１ｕ （１）ｒ’−！ ’ＩＲ／Ｊ
／ ＾ ＪＬ ｆＬ ハ２％ Ｃｕ ／；）
ｌｉｆｔ： ＶＪ ｆｉｔ ａ： Ｃ１）Ａ１２０３
／Ｊ〜３０ Ｓｉ０２ ！；３〜７０Ｔｉ０２
ｏ〜３ Ｚｒ０，２ＯＡ−ｊ Ｐ２０５ＯＡ−３ ただしＲ２０はアルカリ金ＦｆＳ酸化物からなる電子セ
、・、器の基板用ガラスである。
５ｉ０２ ｊＪ〜７０ｗｔ％ ニガラスの骨格形成成分
であり、５３％未満ではガラスの耐７ツ酸性が低下し、
７０％を越えるとガラスのび融が困難になる。
であり、５３％未満ではガラスの耐７ツ酸性が低下し、
７０％を越えるとガラスのび融が困難になる。
Ａｌ２Ｏ３／３へ３０ＶＩｔ、％： ５ｉ０２と同様ガ
ラス骨格形成成分となり、かつガラスの分相を防止して
ガラスの化学的耐久性を向上させるとともに、骨格に入
り込むこと自体によってガラスの耐水性を向上させる。
ラス骨格形成成分となり、かつガラスの分相を防止して
ガラスの化学的耐久性を向上させるとともに、骨格に入
り込むこと自体によってガラスの耐水性を向上させる。
１３未満では上記化学的耐久性が低下し、３０％を超え
ると溶融ガラスの粘性が高くなり成形性が悪くなる。
ると溶融ガラスの粘性が高くなり成形性が悪くなる。
ＣａＯ／／−ｚｊｗｔ％ニガラスの耐７ツ酸性を向上さ
せるとともに溶解性を向上させるブラックス効Ｂ２Ｏ３
０ん５ 果を有する。７７％未満ではガラスの溶解性が悪くなり
、２ｊ％を超えると化学的耐久性が低下する。
せるとともに溶解性を向上させるブラックス効Ｂ２Ｏ３
０ん５ 果を有する。７７％未満ではガラスの溶解性が悪くなり
、２ｊ％を超えると化学的耐久性が低下する。
ＺｒＯ２０〜Ｊｗｔ％ニガラスの化学的耐久性を向上さ
せるので１％慶上添加することが好ましい。ガラスの化
学的耐久性は主として５ｉ０２とＡｌ２Ｏ３とによって
もたらされるので必須ではないが、ＺｒＯ２の添加は化
学的耐久性をさらに向上させ、有効である。しかし、３
Ｌ！Ｊを超えて添加してもそれ以上大きな一化学的耐久
性の向上は炉＜、かえってガラスの溶解性を低下させる
−０ Ｔｉ０２０〜ｊｅｔ％： ＺｒＯ２と同様ガラスの化学
的耐久性を向上させるとともに溶解性を向上させるので
２％程度の添加が好ましいが３％を超えるとガラスの耐
熱性を低下させる。
せるので１％慶上添加することが好ましい。ガラスの化
学的耐久性は主として５ｉ０２とＡｌ２Ｏ３とによって
もたらされるので必須ではないが、ＺｒＯ２の添加は化
学的耐久性をさらに向上させ、有効である。しかし、３
Ｌ！Ｊを超えて添加してもそれ以上大きな一化学的耐久
性の向上は炉＜、かえってガラスの溶解性を低下させる
−０ Ｔｉ０２０〜ｊｅｔ％： ＺｒＯ２と同様ガラスの化学
的耐久性を向上させるとともに溶解性を向上させるので
２％程度の添加が好ましいが３％を超えるとガラスの耐
熱性を低下させる。
Ｐ２Ｏ５ｏ〜３ｗｔ％ニガラスの耐熱性を向上させるの
で１％以上添加することが好ましい。ガラスの耐熱性は
主として５ｉ０２とＡｌ２Ｏ３とＫよってもたらされる
ので必須ではないが、Ｐ２Ｏ５の添加により更に耐熱性
が向上する。３％を超えると分相な生じ、ガラスの化学
的耐久性及び透明性が低下する０ Ｍｇ０ Ｏ−／（７ｗｔ％、ＳｒＯｏ−５ｗｔ％、 Ｂ
ａＯＯ〜！；Ｗｔ、％ニガラスの溶解性を向・止させる
７ラツクス効果を有し、また、適ｐを添加することによ
り熱膨張係数を？４当に調節することができる。１０％
を超えると化学的耐久性を低下させる。
で１％以上添加することが好ましい。ガラスの耐熱性は
主として５ｉ０２とＡｌ２Ｏ３とＫよってもたらされる
ので必須ではないが、Ｐ２Ｏ５の添加により更に耐熱性
が向上する。３％を超えると分相な生じ、ガラスの化学
的耐久性及び透明性が低下する０ Ｍｇ０ Ｏ−／（７ｗｔ％、ＳｒＯｏ−５ｗｔ％、 Ｂ
ａＯＯ〜！；Ｗｔ、％ニガラスの溶解性を向・止させる
７ラツクス効果を有し、また、適ｐを添加することによ
り熱膨張係数を？４当に調節することができる。１０％
を超えると化学的耐久性を低下させる。
Ｂ２Ｏ３ｏ−ｊｗｔ％ニガラスの高温粘度を下げて溶解
を容易にするが、５％を超えるとガラスの耐熱性を低下
させ、さらに溶融ガラスからの揮発が増加し、ガラスの
不均質を生じやすくなる。
を容易にするが、５％を超えるとガラスの耐熱性を低下
させ、さらに溶融ガラスからの揮発が増加し、ガラスの
不均質を生じやすくなる。
ＺｎＯＯ＾ｒｗｔ％ ニガラスの粘度特性調整の目的で
添加されても構わないが、５％を超えるとガラスの耐熱
性を低下させ、さらに溶融ガラスの粘度の導度変化が大
きくなり成形を困難にする。
添加されても構わないが、５％を超えるとガラスの耐熱
性を低下させ、さらに溶融ガラスの粘度の導度変化が大
きくなり成形を困難にする。
Ｒ２００−ｃ＋、ｔｗｔ％ ニガラスの溶解性を向上さ
せるが、（＋、ｒｗｔ％を超えると作成された基板から
のアルカリ溶出蚕が増加し、基板ガラス上に形成される
薄膜素子、液晶素子等に悪影響を与える。
せるが、（＋、ｒｗｔ％を超えると作成された基板から
のアルカリ溶出蚕が増加し、基板ガラス上に形成される
薄膜素子、液晶素子等に悪影響を与える。
以上の基本成分の他に原料中の不純物例えばＦｅ２Ｏ３
およびガラスの清澄剤となるＡＳ２０３ 。
およびガラスの清澄剤となるＡＳ２０３ 。
５ｂ２０３ ＋Ｓ０３ ｒＣ６＊Ｆ などはそれぞれ
７％までなら含有しても本発明のガラス組成物の主旨を
損ねることがない。但し、Ｒ２０の範凹はＯ−Ｏ，Ｓ％
である。
７％までなら含有しても本発明のガラス組成物の主旨を
損ねることがない。但し、Ｒ２０の範凹はＯ−Ｏ，Ｓ％
である。
第１表に示す各組成のガラスが得られるよう原料を訓製
し、白金−ロジウムルツボ中で溶ＩＴ／１′徒、鉄板上
に流し出し徐冷して試料を得た。耐酸性の測定は、ガラ
スの耐水性試験方法であるＪＩＳ３３０２に準じ、浸漬
液に純水のかわりに０．０／規定硝酸を使用して行ない
、各成分の溶出■を測定した。また、耐７ツ酸性の測定
は、各ガラスをたテ２０ＩＩＩＩ１１横３０關厚さ３朋
の大きさに切断・研磨し、２’１−２６°Ｃの約ｇｏ％
７ツ化水素酸に２０分間浸漬し、その重毒減を測定した
。
し、白金−ロジウムルツボ中で溶ＩＴ／１′徒、鉄板上
に流し出し徐冷して試料を得た。耐酸性の測定は、ガラ
スの耐水性試験方法であるＪＩＳ３３０２に準じ、浸漬
液に純水のかわりに０．０／規定硝酸を使用して行ない
、各成分の溶出■を測定した。また、耐７ツ酸性の測定
は、各ガラスをたテ２０ＩＩＩＩ１１横３０關厚さ３朋
の大きさに切断・研磨し、２’１−２６°Ｃの約ｇｏ％
７ツ化水素酸に２０分間浸漬し、その重毒減を測定した
。
試料Ａ／−＃；は本発明の成分範囲内のガラスであり、
試料Ａ／ ７ 、／ ｒは本発明の成分範囲外のガラス
で、屋７７は市ｆｉ／７０−ト板ガラスと類似組成であ
り、Ａ／ ｒは無アルカリ基板用ガラスとして代表的な
コーニングコード７０！；９と類似の組成である。
試料Ａ／ ７ 、／ ｒは本発明の成分範囲外のガラス
で、屋７７は市ｆｉ／７０−ト板ガラスと類似組成であ
り、Ａ／ ｒは無アルカリ基板用ガラスとして代表的な
コーニングコード７０！；９と類似の組成である。
第１表から本発明の電子機器の基板用ガラスが、ＳＯ℃
〜３００℃の平均線熱膨張係数が３５へ６ｏｘｉｏ−’
７１／”Ｃ，６３０″Ｃ以上の歪点、耐酸性、耐フツ酸
性というすぐれた性質をそなえたガラスであることがわ
かる。
〜３００℃の平均線熱膨張係数が３５へ６ｏｘｉｏ−’
７１／”Ｃ，６３０″Ｃ以上の歪点、耐酸性、耐フツ酸
性というすぐれた性質をそなえたガラスであることがわ
かる。
実施例；からも明らかなように本発明の電子機器の基板
用ガラス組成物はシリカ・ソーダ・ライム系の板ガラス
組成に較べて耐酸性に優れている。
用ガラス組成物はシリカ・ソーダ・ライム系の板ガラス
組成に較べて耐酸性に優れている。
また従来のアルミノ硼珪酸ガラスと較べて耐７ツｎシ性
に優れたものであり、歪点（対数粘度ｌｏｇη−／Ｌｊ
となる温度）、軟化点Ｃ１ｏｇ １−７．４ ＞が高く
、耐熱性に優れたガラスである。
に優れたものであり、歪点（対数粘度ｌｏｇη−／Ｌｊ
となる温度）、軟化点Ｃ１ｏｇ １−７．４ ＞が高く
、耐熱性に優れたガラスである。
Claims (1)
- （１）重量％で Ｒ＿２Ｏ ０〜０．５ ＭｇＯ ０〜１０ ＣａＯ １１〜２５ ＢａＯ ０〜５ ＳｒＯ ０〜５ ＺｎＯ ０〜５ Ｂ＿２Ｏ＿３ ０〜５ Ａｌ＿２Ｏ＿３ １３〜３０ ＳｉＯ＿２ ５３〜７０ ＴｉＯ＿２ ０〜３ ＺｒＯ＿２ ０〜３ Ｐ＿２Ｏ＿５ ０〜３ ただしＲ＿２Ｏはアルカリ金属酸化物 からなる電子機器の基板用ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62007874A JPH0825772B2 (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 電子機器の基板用ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62007874A JPH0825772B2 (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 電子機器の基板用ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63176332A true JPS63176332A (ja) | 1988-07-20 |
| JPH0825772B2 JPH0825772B2 (ja) | 1996-03-13 |
Family
ID=11677768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62007874A Expired - Lifetime JPH0825772B2 (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 電子機器の基板用ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0825772B2 (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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