JPS63183143A - 半導体装置用Cu合金製リ−ドフレ−ム材 - Google Patents

半導体装置用Cu合金製リ−ドフレ−ム材

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JPS63183143A
JPS63183143A JP1308087A JP1308087A JPS63183143A JP S63183143 A JPS63183143 A JP S63183143A JP 1308087 A JP1308087 A JP 1308087A JP 1308087 A JP1308087 A JP 1308087A JP S63183143 A JPS63183143 A JP S63183143A
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JP
Japan
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lead frame
solder
frame material
alloy
semiconductor device
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JP1308087A
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Rensei Futatsuka
二塚 錬成
Shunichi Chiba
俊一 千葉
Tadao Sakakibara
直男 榊原
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Mitsubishi Shindoh Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Shindoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上のモ1」用分野〕 この発明は、高強度と、すぐれたはんだの耐熱剥離性を
有する半導体装置用Cu合金製リードフレーム材に関す
るものであるっ 〔従来の技術〕 従来、例えば1軍歌%でC以下%は軍歌%を示す)、C
u−2%Sn −0,2%Ni −0,05%Pの代表
組成を有するCu合金が、IC−?LS1.さらにVL
SIなどの半導体装置のリードフレーム材として用いら
れている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しがし、近年の半導体装置の高性能(ヒおよび高集積f
ヒに伴い、これを構成するリードフレーム材にも高強度
が要求されるようになっているが、上記の従来Cu合金
製リードフレーム材は、リードフレーム材に要求される
繰り返し曲げ性や耐打抜金型摩耗性、さらに熱および電
気伝導性、めっき性。
およびはんだ付は性にすぐれるものの1強度不足が原因
で、これらの要求に十分対応することができないば7j
=りでなく、はんだの耐熱剥離性も満足するものでない
ため、信頼性の点で問題がある。
〔問題点を解決するための手段〕
そこで1本発明者等は、上述のような観点から。
高強度を有し、かつはんだの耐熱剥離性のすぐれた半導
体装置用リードフレーム材を開発すべく研究を行なった
結果。
Ni:1〜4%、   Sn:1〜3%。
Si: 0.15〜0.8%、 Zn : 0.1〜1
%。
Ca: 0.002〜0.04%。
を含有し、残りがCuと不可避不純物からなる組成を有
するCu合金は、引張強さで60 K、 /−以上の高
強度を有し、かつはんだの耐熱剥離性にもすぐれ、さら
に、リードフレーム材に要求される繰り返し曲げ性、耐
打抜金型摩耗性、IP4および電気伝導性、めっき性、
はんだ付は性にもすぐれた特性をもつという知見を得た
のである。
この発明は、上記知見にもとづいてなされたものであっ
て、以下に成分組成を上記の通りに限定しt理由を説明
する。
fal  Ni N1E分には強度および繰り返し曲げ性を向上させる作
用があるが、その含有酸が1%未満では前記作用に所望
の効果が得られず、一方その含有酸が4%を越えると熱
間加工性が低下するようになることから、その含有酸な
1〜4%と定めた。
(b)  5n Sn成分にもNi5!2分と同様に強度と繰り返し曲げ
性を向上させる作用があるが、その含有酸が1%未満で
は前記特性に所望の向上効果が得られず。
一方その含有酸が3%を越えると、同じく熱間加工性が
低下するようになることから、その含有Iを1〜3%と
定めた。
tel  5i Si成分には、主としてNi2Siの「ヒ合物を形成し
て強度を向上させる作用があるが、その含有酸が0.1
5%未満では所望の高強度を確保することができず、一
方その含有酸が0.8%を越えると、遊離Siを形成す
るようになって、はんだの耐熱剥離性が損なわれるよう
になることから、その含有酸を0.15〜0.8%と定
めた。
fd)  Zn Zn成分には、はんだの耐熱剥離性を一段と向上させる
作用があるが、その含有lが0.1%未満では、所望の
すぐれたはんだの耐熱剥離性を確保することができず、
一方その含有酸が1%を越えると、はんだ付は性が劣化
するようになることから。
その含有酸を0.1〜1%と定めた。
fel  Ca Ca成分には、プレス打抜き(スタンピングともいう)
にて1条材からリードフレーム材を成形するに際して使
用される打抜金型の摩耗を抑制する作用(耐打抜金型摩
耗性向上効果)があるが、その含有はが0.002%未
満では所望の耐打抜金型摩耗性向上効果が得られず、一
方その含有酸が0.04%を越えると冷間王延性が損な
われるようになることから、その含有酸を0.002〜
0.04%と定めたつ〔実旋例〕 つぎに、この発明のCu合金製リードフレーム材を実稚
例に工り具体的に説明する。
通常の低周波溝型溶解炉を用い、木炭被覆下の大気雰囲
気中で、それぞれ第1表に示される成分組成をもった合
金浴湯を調製し、半連続鋳造法にて厚さ:160mmX
幅:450+++mX長さ:2400順の寸法をもった
鋳塊に鋳債し、この鋳塊に温度:850℃で熱間圧延を
施して厚さ:10圏の熱延機とし、熱間圧延後直ちに水
冷し、スケール除去の面前を行ない、ついで前記熱延板
に冷間圧延を旌して厚さ:0.5mmの玲延機とした時
点で、これに温度=500°Cに2時間保持の条件で焼
鈍な旋し、再び冷間圧延にて、その厚さを0.25ff
I+++とし、最終的に連続焼鈍炉を用いて温度=50
0℃に20秒間保持の条件で焼鈍を誰すことによって。
本発明Cu合金製リすドフレーム素材c以下本発明リー
ド素材という)1〜12および比較Cu合金製リードフ
レーム素材C以下比較リード素材という)1〜6をそれ
ぞれ製造した。
なお、比較リード素材1〜6は、いずれも構成成分のう
ちのいずれかの成分含有酸(第1表に※印を付しtもの
)がこの発明の範囲刀)ら外れたものであるう つぎに、この結果得られた本発明リード素材1〜12お
工び比較リード素材1〜6、さらに市販のCu合金裂リ
ードフレーム素材(以下従来リード素材という)につい
て、引張試験、はんだの熱剥離試験、繰り返し曲げ試験
、および打抜金型摩耗試験を行ない、それぞれ強度、は
んだの耐熱剥離性、繰り返し曲げ性、および耐打抜金型
摩耗性を評価した。
なお、引張試験は、圧延方向に平行に採取したJI35
号試験片を用いて行ない、引張強さと伸びを測定した。
また、はんだの熱剥離試験は、厚さ:0.25+n×幅
:1511I11×長さ二60圏の寸法をもった試験片
を、aジンフラックスで処理し、@度:230℃の60
%5n−40%pbのはんだ浴中に浸漬して、その表面
に前記はんだを付着させ、この状態で、大気中、温度:
150’C+ニ一1000時間保持の条件で加熱し、加
熱後、試験片を180°密着曲げし、再び180°曲げ
戻す条件で行ない、この180°曲げ部におけるはんだ
剥離の有無を観察した。
繰り返し曲げ試験は、厚さ: 0.25 m X @:
 0.5晴の寸法をもった試験片を、水平に置き、中心
を皮膚として一方端に取り付けた226.8 F (8
オンス)の錘りにより90°曲げ、再び水平に戻す工程
を1サイクルとし、これを繰り返す条件でそれぞれ10
個の試験片について行ない、破断じ至るまでの曲げサイ
クル数を測定し、この測定結果にもとづいて10個の試
験片の平均値を求めた。
さらに、打抜金型摩耗試験は、金型として市販のCo 
: 16%、WC:残りからなる組成を有するWC基超
硬合金製のものを用い、16リードのリードフレームを
プレス打抜き加工することにより行ない、打抜き加工後
のリードフレームに0.015閣のパリが発生するに至
るまでのスタンピング回数を測定した。これらの結果を
第1表に示した。
〔発明の効果〕
第1表(:示される結果がら1本発明リード素材1〜1
2は、いずれも従来リード素材と同等、あるいはこれ以
上のすぐれた繰り返し曲げ性および耐打抜金型摩耗性を
もち、かつ従来リード素材と比較して一段とすぐれた強
度およびはんだの耐熱剥離性をもつことが明らかであり
、さらに、第1表には示されていないが、いずれも半導
体装置のリードフレーム材として最低必要な3%lAC
3工り一段と高い15%lAC3以上の導電性を示し、
熱および電気伝導性のすぐれたものであった。
これに対して、比較リード素材1〜4(二見られるよう
に、構成成分のうちのいずれかの成分含有がでもこの発
明の範囲から外れると、上記の特性のうちの少なくとも
いずれかの性質が劣ることが明らがであるう 上述のように、この発明のCu合金製リードフレーム材
は、高強度とすぐれたはんだの耐熱剥離性を有し、さら
にリードフレームに要求される繰り返し曲げ性、耐打抜
金型摩耗性、熱および電気伝導性、めつき注、およびは
んだ付は性などの特性にもすぐれているので、半導体装
置の高性能化および高集積化に寄与するところ大なるも
のであり。
かつすぐれた性能を長期に亘って発揮する信頼性の高い
ものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 Ni:1〜4%、Sn:1〜3%、 Si:0.15〜0.8%、Zn:0.1〜1%、Ca
    :0.002〜0.04%、 を含有し、残りがCuと不可避不純物からなる組成(以
    上重量%)を有するCu合金で構成したことを特徴とす
    る高強度およびすぐれたはんだの耐熱剥離性を有する半
    導体装置用Cu合金製リードフレーム材。
JP1308087A 1987-01-22 1987-01-22 半導体装置用Cu合金製リ−ドフレ−ム材 Granted JPS63183143A (ja)

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JP1308087A JPS63183143A (ja) 1987-01-22 1987-01-22 半導体装置用Cu合金製リ−ドフレ−ム材

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JPS63183143A true JPS63183143A (ja) 1988-07-28
JPH0422978B2 JPH0422978B2 (ja) 1992-04-21

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ID=11823187

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02209442A (ja) * 1989-02-10 1990-08-20 Mitsubishi Shindoh Co Ltd 高強度Cu合金

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63109133A (ja) * 1986-10-23 1988-05-13 Furukawa Electric Co Ltd:The 電子機器用銅合金とその製造法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63109133A (ja) * 1986-10-23 1988-05-13 Furukawa Electric Co Ltd:The 電子機器用銅合金とその製造法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02209442A (ja) * 1989-02-10 1990-08-20 Mitsubishi Shindoh Co Ltd 高強度Cu合金

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JPH0422978B2 (ja) 1992-04-21

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