JPS63196675A - 筆記板用不透明性インキ - Google Patents
筆記板用不透明性インキInfo
- Publication number
- JPS63196675A JPS63196675A JP62027644A JP2764487A JPS63196675A JP S63196675 A JPS63196675 A JP S63196675A JP 62027644 A JP62027644 A JP 62027644A JP 2764487 A JP2764487 A JP 2764487A JP S63196675 A JPS63196675 A JP S63196675A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- acid
- ink
- handwriting
- carbon atoms
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- Granted
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- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は筆記板用マーキングインキに関し、詳細にはイ
ンキに対して不浸透性である表面材からなる筆記板にマ
ークされた筆跡が不透明性であり、乾布または軟質紙等
の消去材で軽く擦過することにより容易に消去される性
能を有する筆記板用不透明性インキに関する。
ンキに対して不浸透性である表面材からなる筆記板にマ
ークされた筆跡が不透明性であり、乾布または軟質紙等
の消去材で軽く擦過することにより容易に消去される性
能を有する筆記板用不透明性インキに関する。
従来より、この種の筆記板用マーキングインキについて
は多くの提案（例えば特公昭４５−３９８９２号、特開
昭４９−２９号、特開昭６０−５１７６４号、特開昭６
１−２４６２７２号及び特公昭６１−４６５０９号等の
公報に記載の発明）がなされているが、それらにはホー
ロー、金属、ガラスのような吐水性の表面材及びプラス
チックスのような疎水性の表面材のいずれに対しても優
れた消去性を発揮し、且つ不透明性の筆跡を与えるイン
キは見出せない。
は多くの提案（例えば特公昭４５−３９８９２号、特開
昭４９−２９号、特開昭６０−５１７６４号、特開昭６
１−２４６２７２号及び特公昭６１−４６５０９号等の
公報に記載の発明）がなされているが、それらにはホー
ロー、金属、ガラスのような吐水性の表面材及びプラス
チックスのような疎水性の表面材のいずれに対しても優
れた消去性を発揮し、且つ不透明性の筆跡を与えるイン
キは見出せない。
特に透明なアクリル樹脂、スチロール樹脂、塩化ビニル
樹脂のようなプラスチックスからなる筆配板では筆跡が
不透明性であることが必要であるが、前記従来技術のイ
ンキではこの種の筆記板に消去性のよいものは筆跡が透
明性で、輪郭がはっきりせず、逆に筆跡が不透明性のも
のは消去性に難がある。
樹脂のようなプラスチックスからなる筆配板では筆跡が
不透明性であることが必要であるが、前記従来技術のイ
ンキではこの種の筆記板に消去性のよいものは筆跡が透
明性で、輪郭がはっきりせず、逆に筆跡が不透明性のも
のは消去性に難がある。
本発明は透明または濃色の筆記板面でもはっきりと視認
でき、且つ表面材の種類に関わらず良好な消去性を示す
筆跡を与える筆記板用マーキングインキを提供しようと
するものである。
でき、且つ表面材の種類に関わらず良好な消去性を示す
筆跡を与える筆記板用マーキングインキを提供しようと
するものである。
本発明の筆記板用不透明性インキの組成は必須成分とし
て蛍光顔料及び有機顔料から選ばれる顔料、二酸化チタ
ン、樹脂、下記一般式（１）および（２）で示される化
合物群から選ばれるグリコールエーテルエステル、及び
有機溶剤を含有してなる一般式（１） ％式％） 一般式（２） ここで、Ｘは炭素数Ｏ乃至３４のアルキレン基、アルケ
ニレン基、ヒドロキシアルキレン基またはフェニレン基
、Ｒ，、Ｒ□は水素またはメチル基、Ｒ１は炭素数１乃
至３０のアルキル基またはフェニル基、Ｒ１は炭素数５
乃至２９のアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシアル
キル基またはヒドロキシアルケニル基、ｎは１乃至１０
の数をそれぞれ表す。従って、前記一般式（１）におけ
る−ｏｏｃ−ｘ−ｃｏｏ−は炭素数２乃至３６（好まし
くは炭素数４乃至１８）のジカルボン酸の残基であり、
具体的にはコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリ
ン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバシ、ン酸、ドデ
カンジ酸、トリデカンジ酸、テトラデカンジ酸、ヘキサ
デカンジ酸、オクタデカンジ酸、エイコサジ酸、トコサ
ジ酸、フマル酸、マレイン酸、リンゴ酸、酒石酸、フタ
ル酸などの酸残基があげられ、前記一般式（２）におけ
るＲ４ＣＯＯ−は炭素数６乃至３０（好ましくは炭素数
９〜２３）の脂肪酸残基であり、具体的にはヘキサン酸
、オクタン酸、デカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、
パルミチン酸、ステアリン１１．７ラーｔ−ジ酸、ベヘ
ニン酸、モンタン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸
、エルカ酸、リシノール酸、１２−ヒドロキシステアリ
ン酸、イソオクチル酸、イソデカン酸、イソラウリン酸
、イソミリスチン酸、イソパルミチン酸、イソステアリ
ン酸、イソアラキン酸等の脂肪酸残基があげられる前記
のとおり、本発明の筆記板用インキでは着色成分として
有機顔料及び蛍光顔料から選ばれる顔料と二酸化チタン
が組合されて用いられ、樹脂の作用によりインキ中に安
定に分散されて存在する。
て蛍光顔料及び有機顔料から選ばれる顔料、二酸化チタ
ン、樹脂、下記一般式（１）および（２）で示される化
合物群から選ばれるグリコールエーテルエステル、及び
有機溶剤を含有してなる一般式（１） ％式％） 一般式（２） ここで、Ｘは炭素数Ｏ乃至３４のアルキレン基、アルケ
ニレン基、ヒドロキシアルキレン基またはフェニレン基
、Ｒ，、Ｒ□は水素またはメチル基、Ｒ１は炭素数１乃
至３０のアルキル基またはフェニル基、Ｒ１は炭素数５
乃至２９のアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシアル
キル基またはヒドロキシアルケニル基、ｎは１乃至１０
の数をそれぞれ表す。従って、前記一般式（１）におけ
る−ｏｏｃ−ｘ−ｃｏｏ−は炭素数２乃至３６（好まし
くは炭素数４乃至１８）のジカルボン酸の残基であり、
具体的にはコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリ
ン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバシ、ン酸、ドデ
カンジ酸、トリデカンジ酸、テトラデカンジ酸、ヘキサ
デカンジ酸、オクタデカンジ酸、エイコサジ酸、トコサ
ジ酸、フマル酸、マレイン酸、リンゴ酸、酒石酸、フタ
ル酸などの酸残基があげられ、前記一般式（２）におけ
るＲ４ＣＯＯ−は炭素数６乃至３０（好ましくは炭素数
９〜２３）の脂肪酸残基であり、具体的にはヘキサン酸
、オクタン酸、デカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、
パルミチン酸、ステアリン１１．７ラーｔ−ジ酸、ベヘ
ニン酸、モンタン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸
、エルカ酸、リシノール酸、１２−ヒドロキシステアリ
ン酸、イソオクチル酸、イソデカン酸、イソラウリン酸
、イソミリスチン酸、イソパルミチン酸、イソステアリ
ン酸、イソアラキン酸等の脂肪酸残基があげられる前記
のとおり、本発明の筆記板用インキでは着色成分として
有機顔料及び蛍光顔料から選ばれる顔料と二酸化チタン
が組合されて用いられ、樹脂の作用によりインキ中に安
定に分散されて存在する。
前記樹脂としてはエチルセルロース、ニトロセルロース
、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセ
ルロース、セルロースアセテート、セルロースブチレー
ト等のセルロース誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリ
ビニルブチラール、ビニルピロリドン−ビニルアセテ−
） 共ｔｌＣ１塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体等のビ
ニル系ポリマー、アリールスルホアミド−ホルムアルデ
ヒド縮合樹脂及びスチレン−マレイン酸共重合体などが
あげられる。これら樹脂はインキ組成中０．５乃至１２
重量％、好ましくは１〜６重量％の範囲で用いられる。
、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセ
ルロース、セルロースアセテート、セルロースブチレー
ト等のセルロース誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリ
ビニルブチラール、ビニルピロリドン−ビニルアセテ−
） 共ｔｌＣ１塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体等のビ
ニル系ポリマー、アリールスルホアミド−ホルムアルデ
ヒド縮合樹脂及びスチレン−マレイン酸共重合体などが
あげられる。これら樹脂はインキ組成中０．５乃至１２
重量％、好ましくは１〜６重量％の範囲で用いられる。
前記有機顔料としては不溶性アゾ系、ポリアゾ系、アン
スラキノン系、チオインジゴ系、ペリノン及びペリレン
系、ジオキサジン系、キナクドリン系及びフタロシアニ
ン系顔料があげられ、前記樹脂で表面処理された易分散
性の加工顔料が好適に用いられる。
スラキノン系、チオインジゴ系、ペリノン及びペリレン
系、ジオキサジン系、キナクドリン系及びフタロシアニ
ン系顔料があげられ、前記樹脂で表面処理された易分散
性の加工顔料が好適に用いられる。
前記蛍光顔料としては蛍光染料−樹脂固溶体の粉末から
なる昼光蛍光顔料が用いられ、前記蛍光染料としてはブ
リリアン′トスルホフラビン（Ｃ，１゜５６２０５ ）
、チオ７−７ビ７ （Ｃ０１，４９００５） 、ヘー
’ｙツタイエロー■Ｇ （Ｃ，！、４６０４） 、フル
オレッセイ７ （Ｃ，１，４５３５０） 、ｘオ’ｉン
（Ｃ，１，４５３８０） 、ｌ：２−グミ７６Ｇ （Ｃ
，１，４５１６０） 、ｌ：）−グミ７ Ｂ （Ｃ。
なる昼光蛍光顔料が用いられ、前記蛍光染料としてはブ
リリアン′トスルホフラビン（Ｃ，１゜５６２０５ ）
、チオ７−７ビ７ （Ｃ０１，４９００５） 、ヘー
’ｙツタイエロー■Ｇ （Ｃ，！、４６０４） 、フル
オレッセイ７ （Ｃ，１，４５３５０） 、ｘオ’ｉン
（Ｃ，１，４５３８０） 、ｌ：２−グミ７６Ｇ （Ｃ
，１，４５１６０） 、ｌ：）−グミ７ Ｂ （Ｃ。
１．４５１７０ ）等があげられ、これら染料の担体と
なる樹脂はポリメタアクリル酸エステル、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体、アルキッド樹脂、芳香族スルホア
ミド樹脂、ユリア樹脂、トリアジン樹脂、ベンゾグアナ
ミン樹脂及びそれらの共縮合樹脂があげられる。好適な
例としてはメラミン−トルエンスルホアミド縮合樹脂ま
たはトリアジン樹脂と前記蛍光染料の固溶体からなる蛍
光顔料があげられる。
なる樹脂はポリメタアクリル酸エステル、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体、アルキッド樹脂、芳香族スルホア
ミド樹脂、ユリア樹脂、トリアジン樹脂、ベンゾグアナ
ミン樹脂及びそれらの共縮合樹脂があげられる。好適な
例としてはメラミン−トルエンスルホアミド縮合樹脂ま
たはトリアジン樹脂と前記蛍光染料の固溶体からなる蛍
光顔料があげられる。
前記有機顔料（純顔料分として）及び蛍光顔料から選ば
れる顔料はインキ組成中１乃至３５重量％、好ましくは
２〜２５重量％の範囲で用いられる。
れる顔料はインキ組成中１乃至３５重量％、好ましくは
２〜２５重量％の範囲で用いられる。
前記グリコールエーテルエステル化合物はインキの筆跡
の消去を容易にする剥離性付与添加剤であり、前記−触
式（１）及び（２）におけるＸ及びＲ１、Ｒ，、Ｒ，の
条件は主に商業的入手の面からの制約であるが、Ｒオの
炭素数が５未満の場合及びｎが１０を超える場合にはイ
ンキはプラスチック材を膨潤させ、筆跡の消去性を阻害
するので好ましくない。グリコールエーテルエステル化
合物はインキ組成中０．５乃至２０重量％、好ましくは
４〜１５重量％の範囲で用いられる。０．５重量％未満
配合のインキでは筆跡の消去性が充分でなり、２０重量
％を超える系では過飽和分が析出し易く、インキの安定
性を欠き、筆記板面の汚染原因ともなる。
の消去を容易にする剥離性付与添加剤であり、前記−触
式（１）及び（２）におけるＸ及びＲ１、Ｒ，、Ｒ，の
条件は主に商業的入手の面からの制約であるが、Ｒオの
炭素数が５未満の場合及びｎが１０を超える場合にはイ
ンキはプラスチック材を膨潤させ、筆跡の消去性を阻害
するので好ましくない。グリコールエーテルエステル化
合物はインキ組成中０．５乃至２０重量％、好ましくは
４〜１５重量％の範囲で用いられる。０．５重量％未満
配合のインキでは筆跡の消去性が充分でなり、２０重量
％を超える系では過飽和分が析出し易く、インキの安定
性を欠き、筆記板面の汚染原因ともなる。
尚、前記グリコールエーテルエステルは対応するグリコ
ールモノエーテルとカルボン酸との通常のエステル化反
応により合成される。
ールモノエーテルとカルボン酸との通常のエステル化反
応により合成される。
また必要に応じて前記グリコールエーテルエステルに加
えて二塩基酸エステル、ポリオキシエチレン燐酸エステ
ル、ポリオキシエチレン硫酸エステル、グリセライド及
び液状ポリエステル等のエステル系剥離性付与添加剤を
併用してもよい。
えて二塩基酸エステル、ポリオキシエチレン燐酸エステ
ル、ポリオキシエチレン硫酸エステル、グリセライド及
び液状ポリエステル等のエステル系剥離性付与添加剤を
併用してもよい。
溶剤については前記樹脂を溶解または分散し、且つイン
キによる筆記板上の筆跡が速乾性であるよう７０〜１８
０℃の範囲のｉ点をもつ有機溶剤が用いられる。具体的
にはエチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルア
ルコール等の脂肪族低級アルコール、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等の脂肪族ケトン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸ブチル等の低級
脂肪酸エステル等があげられ、これら溶剤はインキ組成
中４０乃至９５重量％の範囲で用いられろ。
キによる筆記板上の筆跡が速乾性であるよう７０〜１８
０℃の範囲のｉ点をもつ有機溶剤が用いられる。具体的
にはエチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルア
ルコール等の脂肪族低級アルコール、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等の脂肪族ケトン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸ブチル等の低級
脂肪酸エステル等があげられ、これら溶剤はインキ組成
中４０乃至９５重量％の範囲で用いられろ。
本発明の筆記板用インキは着色成分として有機顔料およ
び蛍光顔料から選ばれる顔料と二酸化チタンを組合せて
用いることにより、透明な材料や濃色に着色された表面
からなる筆記板上でもはっきりと視認できる筆跡をもた
らし、筆跡に剥離性を付与する添加剤の前記グリコール
エーテルエステルの作用により、前記二酸化チタン添加
に起因する筆跡の消去性の低下の解消及び化学的特性の
異なる各種の表面材からなる筆記板のいずれについても
良好な筆跡消去性を示す性能を備えている前記グリコー
ルエーテルエステルは前記有機溶剤に溶解してインキ中
に安定に存在しており、筆跡が形成されると、筆記板と
の界面にあってインキ中の樹脂が板面に強固に接着する
のを阻害して筆跡の消去性に寄与する。 該化合物は分
子中に親木部と疎水部をバランス良く有する構造である
ので、親水性または疎水性の表面材の化学特性の如何に
関わらず筆記板表面への親和性を示して、前記作用を果
たすものと考えられる。また該化合物自体は不揮発性で
あり、筆跡が形成されて経時してもその作用は持続され
る。
び蛍光顔料から選ばれる顔料と二酸化チタンを組合せて
用いることにより、透明な材料や濃色に着色された表面
からなる筆記板上でもはっきりと視認できる筆跡をもた
らし、筆跡に剥離性を付与する添加剤の前記グリコール
エーテルエステルの作用により、前記二酸化チタン添加
に起因する筆跡の消去性の低下の解消及び化学的特性の
異なる各種の表面材からなる筆記板のいずれについても
良好な筆跡消去性を示す性能を備えている前記グリコー
ルエーテルエステルは前記有機溶剤に溶解してインキ中
に安定に存在しており、筆跡が形成されると、筆記板と
の界面にあってインキ中の樹脂が板面に強固に接着する
のを阻害して筆跡の消去性に寄与する。 該化合物は分
子中に親木部と疎水部をバランス良く有する構造である
ので、親水性または疎水性の表面材の化学特性の如何に
関わらず筆記板表面への親和性を示して、前記作用を果
たすものと考えられる。また該化合物自体は不揮発性で
あり、筆跡が形成されて経時してもその作用は持続され
る。
（１）インキの調製
エタノール９０重量部にポリビニルブチラール樹脂１０
部を溶解してなる溶液またはメチルイソブチルケトンに
所定量のグリコールエーテルエステルを加え、約３０℃
で加温溶解して得られるビヒクル中に、予め下記のよう
に調製された加工顔料分散体または蛍光顔料、及び下記
のように調製された二酸化チタン分散体をそれぞれ所定
量加え、この混合物を高速別型ミキサーにて約１時間攪
拌して実施例インキ６種を得た。
部を溶解してなる溶液またはメチルイソブチルケトンに
所定量のグリコールエーテルエステルを加え、約３０℃
で加温溶解して得られるビヒクル中に、予め下記のよう
に調製された加工顔料分散体または蛍光顔料、及び下記
のように調製された二酸化チタン分散体をそれぞれ所定
量加え、この混合物を高速別型ミキサーにて約１時間攪
拌して実施例インキ６種を得た。
前記加工顔料分散体はイソプロパツール８０重量部に加
工顔料２０重量部を加え、ペイントコンディショナーで
２時間分散処理して得られた。
工顔料２０重量部を加え、ペイントコンディショナーで
２時間分散処理して得られた。
前記二酸化チタン分散体はイソプロパツール４９重量部
中１重量部のポリビニルブチラールを溶解してなる溶液
に５０重量部の二酸化チタンを加え、ペイントコンディ
ショナーで２時間分散処理して得られた。
中１重量部のポリビニルブチラールを溶解してなる溶液
に５０重量部の二酸化チタンを加え、ペイントコンディ
ショナーで２時間分散処理して得られた。
前記インキ処方において、グリコールエーテルエステル
に換えて他の添加剤を添加するか、またはグリコールエ
ーテルエステルを添加しない比較例インキも４種調製し
た。
に換えて他の添加剤を添加するか、またはグリコールエ
ーテルエステルを添加しない比較例インキも４種調製し
た。
各インキに用いた原料は次のとおり。
・有機顔料（顔料／樹脂比約１／１の加工顔料）緑色加
工顔料：ポリビニルブチラールで表面処理された緑色顔
料（Ｃ，１，ピグメントグリーン７）赤色加工顛料：塩
化ビニルー酢酸ビニル共重合体で表面処理された赤色顔
料（Ｃ，１，ピグメントレッド１５） ・蛍光顔料 黄色蛍光顔料；黄色蛍光染料（チオフラビン。
工顔料：ポリビニルブチラールで表面処理された緑色顔
料（Ｃ，１，ピグメントグリーン７）赤色加工顛料：塩
化ビニルー酢酸ビニル共重合体で表面処理された赤色顔
料（Ｃ，１，ピグメントレッド１５） ・蛍光顔料 黄色蛍光顔料；黄色蛍光染料（チオフラビン。
Ｃ，１，４９００５）とトリアジン樹脂の固溶体からな
るピンク色蛍光顔料：ピンク色蛍光染料（ローダミン６
Ｇ 、 Ｃ，１，４５１６０）とメラミン−トルエンス
ルホアミド縮合樹脂の固溶体からなる ・二酸化チタン ルチル型二酸化チタン ・樹脂 ポリビニルブチラールＬ：平均重合度約２８０、ブチラ
ール化度６３±３モル％、アセチル化度３モル％以下 ポリビニルブチラールＭ：平均重合度約６５０、ブチラ
ール化度６５±３モル％、アセチル化度３モル％以下 ・グリコールエーテルエステル グリコールエーテルエステルＡ−Ｃは下記一般式（１）
のＸ、 Ｒｔ、 Ｒｚ、Ｒｓ及びｎがそれぞれ下記の表
１に示すとおりの基または数である化合物一般式（１） ％式％ （次のページに記載） グリコールエーテルエステルＤ〜Ｆは下記 ８式（２）
におけるＲ、、 Ｒ１，Ｒ，及びｎがそれぞれ次の表２
に示すとおりの基または数である化合物一般式（２） ・その他の添加剤（比較例インキに使用）脂肪酸エステ
ルＰ：２−エチルヘキサン酸ステアリ脂肪酸エステルＱ
ニステアリン酸ブチル流動パラフィン ・有機溶剤 エタノール、イソプロパツール、メチルイソブチルケト
ン 実施例インキ及び比較例インキの組成（重量部で表す）
を表３に示す。
るピンク色蛍光顔料：ピンク色蛍光染料（ローダミン６
Ｇ 、 Ｃ，１，４５１６０）とメラミン−トルエンス
ルホアミド縮合樹脂の固溶体からなる ・二酸化チタン ルチル型二酸化チタン ・樹脂 ポリビニルブチラールＬ：平均重合度約２８０、ブチラ
ール化度６３±３モル％、アセチル化度３モル％以下 ポリビニルブチラールＭ：平均重合度約６５０、ブチラ
ール化度６５±３モル％、アセチル化度３モル％以下 ・グリコールエーテルエステル グリコールエーテルエステルＡ−Ｃは下記一般式（１）
のＸ、 Ｒｔ、 Ｒｚ、Ｒｓ及びｎがそれぞれ下記の表
１に示すとおりの基または数である化合物一般式（１） ％式％ （次のページに記載） グリコールエーテルエステルＤ〜Ｆは下記 ８式（２）
におけるＲ、、 Ｒ１，Ｒ，及びｎがそれぞれ次の表２
に示すとおりの基または数である化合物一般式（２） ・その他の添加剤（比較例インキに使用）脂肪酸エステ
ルＰ：２−エチルヘキサン酸ステアリ脂肪酸エステルＱ
ニステアリン酸ブチル流動パラフィン ・有機溶剤 エタノール、イソプロパツール、メチルイソブチルケト
ン 実施例インキ及び比較例インキの組成（重量部で表す）
を表３に示す。
（２）筆跡消去性テスト
アクリル繊維賢樹脂加工体からなるペン体を備え、軸筒
内部に収容されているインキが弁機構を介してペン体に
供給されるタイプのマーキングペンに、実施例及び比較
例の各インキをそれぞれ所定量充填して試料ペンとする
。
内部に収容されているインキが弁機構を介してペン体に
供給されるタイプのマーキングペンに、実施例及び比較
例の各インキをそれぞれ所定量充填して試料ペンとする
。
透明アクリル樹脂板面に各試料ペンで所定の形の線を描
き、初期及び経時（室温１力月及び４０℃２週間の２法
）後の消去性をテストした。
き、初期及び経時（室温１力月及び４０℃２週間の２法
）後の消去性をテストした。
消去テストは消去面がフェルトからなる消去具を用い、
３００±１０ｇ／ａｍ”の荷重にて１回擦過する方法に
より行った。
３００±１０ｇ／ａｍ”の荷重にて１回擦過する方法に
より行った。
消去性の良否の判断にあたっては、筆跡の剥離性と剥離
後の板面の汚染（スティン）の有無の両面について観察
し、判定した。
後の板面の汚染（スティン）の有無の両面について観察
し、判定した。
尚、透明板面での筆跡の視認性については、いずれの試
料インキによる筆跡もはっきりとした輪郭を有する明瞭
な筆跡であった。
料インキによる筆跡もはっきりとした輪郭を有する明瞭
な筆跡であった。
テスト結果を表４に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 必須成分として蛍光顔料及び有機顔料から選ばれる顔料
、二酸化チタン、樹脂、下記一般式（１）及び（２）で
示される化合物群から選ばれるグリコールエーテルエス
テル、及び有機溶剤を含有してなる筆記板用不透明性イ
ンキ。 一般式（１） Ｒ＿３−（ＯＣＨＲ＿２ＣＨＲ＿１）＿ｎ−ＯＯＣ−Ｘ
−ＣＯＯ−（ＣＨＲ＿１ＣＨＲ＿２Ｏ）＿ｎ−Ｒ＿３一
般式（２） ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで、Ｘは炭素数０乃至３４のアルキレン基、アルケ
ニレン基、ヒドロキシアルキレン基またはフェニレン基
、Ｒ＿１、Ｒ＿２は水素またはメチル基、Ｒ＿３は炭素
数１乃至３０のアルキル基またはフェニル基、Ｒ＿４は
炭素数５乃至２９のアルキル基、アルケニル基、ヒドロ
キシアルキル基またはヒドロキシアルケニル基、ｎは１
乃至１０の数をそれぞれ表す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62027644A JPH0832844B2 (ja) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | 筆記板用不透明性インキ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62027644A JPH0832844B2 (ja) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | 筆記板用不透明性インキ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63196675A true JPS63196675A (ja) | 1988-08-15 |
| JPH0832844B2 JPH0832844B2 (ja) | 1996-03-29 |
Family
ID=12226638
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62027644A Expired - Lifetime JPH0832844B2 (ja) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | 筆記板用不透明性インキ |
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-
1987
- 1987-02-09 JP JP62027644A patent/JPH0832844B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
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