JPS6319746A - 表面解析装置 - Google Patents

表面解析装置

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JPS6319746A
JPS6319746A JP61164299A JP16429986A JPS6319746A JP S6319746 A JPS6319746 A JP S6319746A JP 61164299 A JP61164299 A JP 61164299A JP 16429986 A JP16429986 A JP 16429986A JP S6319746 A JPS6319746 A JP S6319746A
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青木 正彦
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尚登 岡崎
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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、PELS (陽子エネルギー損失スペクト
ル分析)による表面解析装置、即ち、加速されたプロト
ンビーム等のイオンビームを試料に照射し、試料表面数
層からの散乱ビームを減速管中を通過させて減速し、こ
の減速された散乱ビームのエネルギーを測定することに
より試料表面の物性を解析する表面解析装置に関する。
〔従来の技術〕
第5図は、従来のPELSによる表面解析装置を示す概
略平面図である。イオン[2から引き出された例えばプ
ロトンビーム等のイオンビームを加速管6で加速し、加
速されたイオンビームを必要に応じて集束系8により集
束させる。その後質量分析マグネット10によりビーム
偏向(質量分析)を行う。偏向後、散乱チャンバ14内
の試料(図示省略)にイオンビームを照射するが、試料
の一部分にイオンビームを照射するために散乱チャンバ
14に入射前のビームライン上に1mmφ程度のスリッ
ト(図示省略)を設置している。尚、イオンビームとし
ては、He等を使用すると1価のイオン以外に2価のイ
オンも散乱される可能性があり計測が複雑となるため、
実際は、1価イオンしか存在しないプロトンが用いられ
る。図中12は真空ポンプでるある。
試料に照射されたイオンビームは試料表面数層で散乱さ
れる。この散乱ビームは一般に種々のエネルギーを持っ
ており、そのエネルギー幅を抑制するために2mmφ程
度のスリット(図示省略)を散乱後のビームライン上に
設置している。そしてこのスリットを通過した散乱ビー
ムを減速管18によって減速させた後、測定器20によ
ってそのエネルギースペクトルを測定する。この場合の
減速後の電位は次のようにして決められる。
即ち、第6図も併せて参照して、イオン源2におけるイ
オンビームの引出し電圧をVex加速管6での加速電圧
をV、散乱チャンバ14は接地されているものとしてそ
の電位をOとすれば、イオンビームの全加速電圧Vaは
、Va =V+Veとなる。この電圧からオフセント電
圧Voだけ下がった電位Vdを測定器20が設置されて
いる架台19(大地からは絶縁されている)の電位とす
ると(即ち減速管18での減速電圧を(Va −V。
)とすると)、減速されて測定器20に入る散乱ビーム
のエネルギーはqXVo  (eV)となる(試料に衝
突した時のエネルギー損失を無視した場合)。ここでq
はイオン、例えばプロトンの単位電荷である。
この場合、試料に照射するイオンビームの加速エネルギ
ーは、試料表面でのイオンビームの中性化確率を抑える
等のために高い方が好ましく例えば100KeV程度で
あり、一方、散乱後のビームは、高精度でそのエネルギ
ースペクトルを測定可能とするために低い方が好ましく
例えばIKeV程度以下に減速する。
上記のように減速された散乱ビームのエネルギースペク
トルを測定することにより、固体の試料表面の結晶構造
等の物性を調べることができる。
例えば第7図を参照して、イオンビーム3と試料15と
の衝突により生じるイオンビーム3のエネルギー損失を
八Eとし、測定器20に入射する散乱ビーム4のエネル
ギーをEとすると次の関係式が成立する。
ΔE=qVo −E     ・・・ (1)なぜなら
ば、測定器20に入射する散乱ビーム4のエネルギーE
は次のように表され、 E−qVa−ΔE−q(Va −Vo )これを変形す
れば(1)式が得られるからである。
また、ここでは測定器20として例えばエネルギー分析
器21とチャネルトロン等の検出器22を用いており、
エネルギー分析器21に印加する電圧をV E3Aとす
れば、上記エネルギーEは次のよう−に表現することも
できる。ここでkは定数である。
E”kqVEjA      ・・・ (2)従って、
(1)式および(2)式から分かるように、エネルギー
損失スペクトルはオフセット電圧Voか電圧Y ESA
を変化させることにより求めることができる。例えば、
試料表面の第1層目の原子と第2層目等の原子により散
乱されるビームを比較すると、第2層目等からの散乱ビ
ームは格子内を走る距離が長いためエネルギー損失ΔE
が大きくなり、例えば第8図のようなスペクトルが得ら
れる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
所が上記のような装置においては、散乱角θ(第7図参
照)は10度程度にしか設定できなかった。これは、散
乱角θを0度から大きくするに従って散乱ビーム4の立
体角が小さくなってビーム検出効率が低下するためと、
散乱角θをあまり大きくすると装置の各部分が機械的に
干渉してしまうためである。従って散乱角θがこのよう
に小さいため、散乱ビーム4が試料15の表面の乱れの
影g(即ちエネルギーストラグリング)を受けて、その
スペクトルがブロードになり解析精度があまり良くない
という問題があった。
また、イオンビーム3を試料15で散乱させずに測定器
20に直接入れて、エネルギー損失の原点(即ち測定器
20におけるエネルギー損失ΔE=0の散乱ビーム4が
入射する点)や装置のエネルギー分解能を測定する場合
には、上記散乱角θがO変になるように散乱チャンバ1
4以陣のビームトランスポートライン等を接続し直す必
要があり、そのための作業およびアライメント調整に非
常に手間がかかると共に、組立の再現性も悪化するとい
う問題もあった。
これに対して発明者は、散乱角θと散乱ビーム4の立体
角との関係の詳細な検討により、散乱角θをほぼ180
度に設定すれば、シャープなスペクトルを得ることがで
きると共にビーム検出効率もかえって大幅に向上するこ
とを見出した。
従ってこの発明は、散乱角がほぼ180度の測定を行う
ことができると共に、エネルギー損失の原点やエネルギ
ー分解能の測定も容易に行うことができる表面解析装置
を提供することを主たる目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明の表面解析装置は、試料に照射前のイオンビー
ムおよび試料からの散乱ビームの経路上に両ビームを偏
向させる第1の偏向磁石を設け、かつ第1の偏向磁石を
通過して来る散乱ビームの経路上に当該散乱ビームを第
1の偏向磁石と同方向に偏向させて前記減速管へ入射さ
せる第2の偏向磁石を設け、そして第1の偏向磁石にお
ける散乱ビームの経路側の偏向角をφ1、出射角をα。
、エネルギー損失が零の散乱ビームの曲率半径をrlと
し、第2の偏向磁石における偏向角をφ2、入射角をα
2、エネルギー損失が零の散乱ビームの曲率半径をr2
とした場合、φ、=φz1α宜−α2=(φl /2)
 −90C度〕かつr、=rzとしていることを特徴と
する。
〔作用〕
第1の偏向磁石は試料に照射するイオンビームと試料か
らの散乱ビームの軌道を分離させるので、散乱角をほぼ
180度に設定することができる。
その場合、試料でのエネルギー損失を受けた程度の違い
により、散乱ビームは第1の偏向磁石によって分散され
るけれども、この分散された散乱ビームは、第1の偏向
磁石とほぼ対称の構造をした第2の偏向磁石によって偏
向されることによって、再び一つの軌道に集束されて減
速管に入射される。
その結果、この発明の装置においては、シャープなスペ
クトルを得ることができると共にビーム検出効率も大幅
に向上する。しかも広範囲のエネルギー損失の測定を正
確に行うこともできる。
また、第1の偏向磁石を制御することにより、イオンビ
ームを試料に照射せずにそのまま減速管へ導(ことがで
き、これによって装置の配置を変更することなく容易に
エネルギー損失の原点やエネルギー分解能を測定するこ
とができる。
〔実施例〕
第1図は、この発明の一実施例に係る表面解析装置を示
す概略平面図である。この装置も上述した従来の装置と
原理は同様である。尚、従来例との相違点の説明に特に
関係ない部分は省略している。
この装置においては、散乱チャンバ14の手前側に例え
ば電磁石から成る概ねT形をした第1の偏向磁石30を
設け、その左右にイオンビーム3の加速系と散乱ビーム
4の測定系とを配置しており、これによって180度の
散乱角θにおける測定を可能にしている。
即ち、イオン源2から引き出され、f!分析マグネット
10で質量分析された例えばプロトンビーム等のイオン
ビーム3は、何枚かの電極7を有する加速管6によって
例えば従来と同様に100KeV程度のエネノにギーに
まで加速され、その経路上に設けられた偏向磁石30で
偏向されて例えば超高真空の散乱チャンバ14内に導か
れ、試料15に照射される。この場合、試料15は、前
述した散乱角θが180度になるように設定されており
、従ってイオンビーム3は試料15の表面に垂直に入射
すると共に、当該試料15からの散乱ビーム4もその表
面に垂直に出て行く。
従って上記散乱ビーム4は、イオンビーム3と同一経路
を逆向きに進むことによって偏向磁石30を通過し、そ
こでイオンビーム3とは左右反対側に偏向される。つま
り偏向磁石30によって、試料15に照射前のイオンビ
ーム3と試料15からの散乱ビーム4の軌道が分離され
る。ちなみに、この例の場合の偏向磁石30の磁束の向
きは紙面に対して上向きである。
尚、加速管6の下流側に設けたQレンズ(静電三重四極
子レンズ)8aおよび散乱チャンバ140手前側に設け
たQレンズ8bは、それぞれ、イオンビーム3あるいは
散乱ビーム4を整形してその発散(特に紙面に上下方向
の発散)を防止するためのものであり、いずれも必須の
ものではないが、測定をより正確にするためにはこの実
施例のように設けるのが好ましい。
一方、偏向磁石30を通過して来る散乱ビーム4の経路
上には、当該散乱ビーム4を偏向磁石30と同方向に偏
向させて、何枚かの電極17を有する減速管18の中心
軸付近に入射させる第2の偏向磁石32を設けている。
この偏向磁石32も例えば電磁石から成り、その磁束の
向きは紙面に対して上向きである。
そして減速管18によって散乱ビーム4をそのエネルギ
ーが例えば従来と同様に1KeV程度以下になるように
減速し、測定器20によってそのエネルギースペクトル
を測定するようにしている。
上記のような偏向磁石32を設ける理由は次のとおりで
ある。即ち、偏向磁石30を通過して来る散乱ビーム4
は、試料15でのエネルギー損失ΔEを受けた程度の違
いにより、例えば第1図中に42(そのエネルギー損失
ΔE=0)および4b(そのエネルギー損失ΔE≠0)
で模式的に示すように偏向磁石30によって分散される
ので、この分散された散乱ビーム4を偏向磁石32によ
って再び一つの軌道にまとめて減速管18に入射させる
ためである。
これは、分散した散乱ビーム4は、減速管18を通過し
て分散したまま、あるいは場合によっては減速管18で
レンズ作用を受けて更に分散する等して測定器20に入
るため、測定器20に入射する効率がエネルギー損失Δ
Eによって異なり、即ちビーム輸送効率がエネルギー損
失ΔEによって異なり、測定の信顧性、定量性等を低下
させる原因になるからである。
そのため、偏向磁石30における散乱ビーム4の経路側
と偏向磁石32とは、はぼ対称の構造をしている。即ち
、偏向磁石30における散乱ビーム4の経路側の偏向角
をφ1、出射角をα1、エネルギー損失ΔE=0の散乱
ビーム4aの曲率半径をrlとし、偏向磁石32におけ
る偏向角をφ2、入射角をα2、上記散乱ビーム4aの
曲率半径をr2とした場合、 としている。より具体的には、この実施例においては、
φ1 =φ2=90°、α1 =α2=−45゜(α1
、α2は図示のような場合を一般的にマイナス表示する
。)としている。
上記(3)式を満たす場合、偏向磁石30において一つ
の軌道から分離された散乱ビーム4aと散乱と−ム4b
とは、偏向磁石30から出て行くときは互いに平行とな
り、そして偏向磁石32において偏向磁石30における
のとはちょうど逆の態様で偏向されて、再び一つの軌道
にまとめられて偏向磁石32から出て行く。
その結果、散乱ビーム4は、そのエネルギー損失ΔEの
違いに拘わらず、一つの中心軌道で減速管18に入射し
、そしてそこを通過して測定器20に入射するため、エ
ネルギー損失ΔEの違いによる測定器20への入射効率
の違いが無(なり、エネルギー損失ΔEの大きなものか
ら小さいものまで広範囲の測定が正確に行えるようにな
る。従って、例えば散乱ビーム4の軌道のずれによる検
出効率の変化を補正する等の必要性も全く無くなる。
尚、上述したような偏向磁石30および32の代わりに
、第2図に示したような偏向磁石34お−よび36を設
けた表面解析装置が同一出願人によって別途提案されて
いるけれども、この発明はその装置を更に改良したもの
であると言える。
即ち、第2図の装置も、偏向磁石34によってイオンビ
ーム3と散乱ビーム4の軌道を分離して180度の散乱
角θにおける測定を可能にし、偏向磁石34によって分
散された散乱ビーム4を偏向磁石36によって減速管1
8の中心軸付近に集束させてエネルギー損失へEの違い
による測定器20への入射効率の違いを無くするように
したものであるが、偏向磁石36にはこの実施例のよう
にエネルギー損失ΔEの異なる散乱ビーム4の中心軌道
を出射時に一つにまとめるという機能は無いため、広範
囲のエネルギー損失ΔEの散乱ビーム4を測定する場合
はこの実施例の方がより正確である。
尚、測定器20は、例えば第3図に示すような構成のも
のとすれば、広範囲のエネルギー測定を一括して行うこ
とができる。即ち、測定器20はこの例では、平行平板
アナライザ21、マイクロチャネルプレート24、位置
検出器25等を備えており、散乱ビーム4をそのエネル
ギー、即ちエネルギー損失ΔEの違いによってマイクロ
チャネルプレート24上の各点に分散させ、その入射位
置を位置検出器25および位置演算器26によって検出
し、そして各位置におけるカウントをマルチチャネルア
ナライザ27に表示するようにしている。従って、この
ような測定器20によれば、試料15を傾ける(その角
度は、試料により、また何層口の原子でビームを散乱さ
せるかにより異なる)だけで表面各層からの散乱ビーム
の量を一括して測定することができ、従来のようにオフ
セット電圧Voやエネルギー分析器21に印加する電圧
V。Aを変化させることなく例えば第8図のようなスペ
クトルを効率良く得ることができる。
そのためスペクトル分析中の状態変化の影響を排除する
ことができるという利点がある。
第4図は、散乱角の変化に対する最適化した立体角の変
化を示す図であり、縦軸は対数目盛である。この図から
分かるように、散乱角θを180度に設定した場合、最
適化した立体角ΔΩ(str〕、即ちビーム検出効率は
、例えば散乱角θが20度の場合に比べて数百倍(試料
15が金の場合)〜数千倍(試料15がシリコンの場合
)向上する。しかも、散乱角θが180度の場合は散乱
ビーム4は試料15の表面の乱れの影響を受けないため
、換言すれば散乱ビーム4は試料表面の原子の影響のみ
を受けるため、シャープなスペクトルを得ることができ
、これによって解析精度も向上する。
一方、エネルギー損失の原点や装置のエネルギー分解能
を測定する場合は、偏向磁石30の極性や磁束密度を制
御することにより、偏向磁石3゜に入射されたイオンビ
ーム3をそのまま(即ち試料15に照射せずに)エネル
ギー損失ΔE=Oの散乱ビーム4aと同一軌道で出射さ
せることができる。従って従来のように装置の配置を変
更する必要はなく、それゆえアライメント調整等に手間
がかかったり組立の再現性が悪化したりするようなこと
はない。
特にこの実施例のように、前述した条件φ1=φz=9
0°に加えて偏向磁石30のイオンビーム3の経路側の
偏向角φ。も90°としておけば、エネルギー損失の原
点やエネルギー分解能を測定する場合は、偏向磁石30
の励磁を単にオフするだけで良く、それによってイオン
ビーム3は第1図中にAで示すように、偏向磁石30中
を直進してエネルギー損失ΔE=0の散乱ビーム4aと
同一軌道で出射するようになる。従って、エネルギー損
失の原点やエネルギー分解能の測定が極めて容易になる
ちなみに、第2図の装置においても、偏向磁石34の極
性切替えと磁束密度上昇とによって、同図中にBで示す
ようにイオンビーム3を大きく偏向させてエネルギー損
失の原点やエネルギー分解能の測定をすることができる
けれども、上述した実施例であれば偏向磁石30の励磁
をオフするだけで良いのでその方が蟲かに容易である。
〔発明の効果〕
以上のようにこの発明においては、散乱角をほぼ180
度に設定して測定を行うことができ、それによってシャ
ープなスペクトルが得られると共にビーム検出効率も大
幅に向上する。しかも、減速管に入射する散乱ビームの
中心軌道をそのエネルギー損失の違いに拘わらず一つに
することができるので、エネルギー損失の違いによる検
出効率の変化が無くなり、広いエネルギー範囲の測定を
正確に行うことができる。また、装置の配置を変更する
ことなく容易にエネルギー損失の原点やエネルギー分解
能の測定を行うこともできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例に係る表面解析装置を示
す概略平面図である。第2図は、表面解析装置の先行例
を部分的に示す概略平面図である。 第3図は、第1図の測定器の一例を示す概略図である。 第4図は、散乱角の変化に対する最適化した立体角の変
化を示す図である。第5図は、従来の表面解析装置を示
す概略平面図である。第6図は、第5図の装置の電位の
区分を示す図である。 第7図は、第5図の装置の原理を説明するための図であ
る。第8図は、第5図の装置によって得られるスペクト
ルを説明するための図である。 2・・・イオン源、3・・・イオンビーム、4,4a、
4b・・・散乱ビーム、15・・・試料、18・・、減
速管、20・・・測定器、30・・・第1の偏向磁石、
32・・・第2の偏向磁石。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)加速されたイオンビームを試料に照射し、試料表
    面数層からの散乱ビームを減速管中を通過させて減速し
    、この減速された散乱ビームのエネルギーを測定するこ
    とにより試料表面の物性を解析する装置において、試料
    に照射前のイオンビームおよび試料からの散乱ビームの
    経路上に両ビームを偏向させる第1の偏向磁石を設け、
    かつ第1の偏向磁石を通過して来る散乱ビームの経路上
    に当該散乱ビームを第1の偏向磁石と同方向に偏向させ
    て前記減速管へ入射させる第2の偏向磁石を設け、そし
    て第1の偏向磁石における散乱ビームの経路側の偏向角
    をφ_1、出射角をα_1、エネルギー損失が零の散乱
    ビームの曲率半径をr_1とし第2の偏向磁石における
    偏向角をφ_2、入射角をα_2、エネルギー損失が零
    の散乱ビームの曲率半径をr_2とした場合、φ_1=
    φ_2、α_1=α_2=(φ_1/2)−90〔度〕
    かつr_1=r_2としていることを特徴とする表面解
    析装置。
JP61164299A 1986-07-12 1986-07-12 表面解析装置 Granted JPS6319746A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007513460A (ja) * 2003-09-05 2007-05-24 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 粒子光学システム及び装置、並びに、かかるシステム及び装置用の粒子光学部品

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