JPS6319794A - 加熱調理器 - Google Patents

加熱調理器

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JPS6319794A
JPS6319794A JP61164092A JP16409286A JPS6319794A JP S6319794 A JPS6319794 A JP S6319794A JP 61164092 A JP61164092 A JP 61164092A JP 16409286 A JP16409286 A JP 16409286A JP S6319794 A JPS6319794 A JP S6319794A
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JP
Japan
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heating chamber
heating
frequency
heat
electric heating
Prior art date
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Pending
Application number
JP61164092A
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English (en)
Inventor
昌弘 新田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP61164092A priority Critical patent/JPS6319794A/ja
Publication of JPS6319794A publication Critical patent/JPS6319794A/ja
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  • Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、オープン電子レンジのように加熱室内の被加
熱物?ヒーターの熱と高周波により加熱する加熱調理器
に関するものである。
従来の技術 一般にオープン電子レンジにはヒーターによる加熱方式
により主に熱の輻射と自然対流を利用し加熱室の天面及
び底面にシーズヒーターを配設した上下ヒーター式と加
熱室外でヒーターにより発生させた熱を送風装置により
加熱室内に強制循環させて食品を加熱する熱風循環式と
に大別出来る。
前者は概して電気オープンとしての性能も良く安価に出
来るので主流を成している。
第4図に示す様に加熱室1の天面2と底面3にはそれぞ
れシーズヒーター等の上ヒータ−4、下ヒータ−5、が
配置されている。この上下ヒーター4.5は加熱室壁6
を貫通し、゛電子レンジ本体7内で電気的に接続され通
電されている。又加熱室1内には発振器8より発振され
た高周波が導波管9を通って放射されている。加熱室の
底面3上には食品を回転移動させて高周波加熱の均一加
熱性を向上させるためのターンテープ/L/10が設ケ
ラれている。加熱室内に放射された高周波は前述の上、
下ヒータ−4,6が貫通する加熱室壁の穴を通り加熱室
外へ漏洩する為これを防止する高周波チ嘗−り11.1
2が設けられている。特に底面3の下ヒータ−5は食品
の煮汁等がこぼれた場合などに底面の掃除を容易にする
ために脱着可能な構造としているため、下ヒータ−5の
接続部は複雑罠なっている。
発明が解決しようとする問題点 ところが、このような従来の加熱調理器によると上ヒー
タ−4、および下ヒータ−Sが加熱室1内に露出してお
り、又ターンテープ/L’l Ol−設けた構成である
ため、この分だけ加熱室1の有効容積が狭くなり大きな
食品の場合加熱しにくいという欠点があった。また大き
な食品まで収納できる1゜ 本うにするためにはヒーター及びターンテープpが占め
る寸法分だけ加熱室を大きくする必要があ6、外形も大
きくなるので広い設置スペースを必要とするので使い難
い加熱m瑠器となっていた。
さらに加熱室内に上、下ヒーターが露出していると加熱
室壁面に食品の汚れが飛散した場合にも上、下ヒーター
が邪魔になって掃除がしにくく、この面からも使い勝手
が悪かった。
さらに、ヒーターを加熱室の外に配する構成もあったが
、この場合はヒーターの熱が加熱室内に効率よく伝わら
ないので熱効率が悪く、十分な消費電力容量を有する場
合などごく限られたものだけしか実用されていなかった
。又特に下ヒーターを加熱室外に配設すると下ヒーター
の熱が設置台等に輻射し余分に断熱構造が必要となる等
、二ネμギー損失が大きく、省エネルギーの面からも好
ましくなく、実用的ではなかった。
本発明はこの様な従来の問題点を解消するものであり熱
効率に優れ、加熱室内をすっきりさせることによって使
い易く、しかもヒーター加熱、高本発明の加熱調理器は
食品を収納する加熱室と、加熱室内に高周波を放射する
高周波発生装置と、食品を加熱する電熱装置とを備え、
加熱室内にセラミック等無機質誘電体で形成した棚板に
より支切り構成した隔室を設け、この隔室内に高周波発
生装置の高周波放射口と電波攪拌器及び電熱装置を配置
したものである。さらに高周波放射口を加熱室壁の略中
心に位置させ、かつ電熱装置を高周波放射口の周囲に放
射口の垂直、水平の2軸に対して対称形に設け、さらに
電熱装置と棚板の間に復数個の開口を有する導電板を介
在させたものである。
作   用 本発明の加熱調理器は電熱装置よりの熱と高周波発生装
置よりの高周波電波を上記棚板金倉して食品に輻射及び
放射させることによって加熱するものである。そして、
隔室を構成する棚板はセラミック等の無機質誘電体より
形成されているため、高周波電波に対しては損失は極め
て小さく、また、棚板に近接する電熱装置よりの熱伝導
と輻射を受けるため、通常の金属面に比べて放射率が高
くなり、電熱装置の熱を効率よく被加熱物に向って輻射
されるのでこの面からも熱効率が高まることになる。
また、隔室内に電熱装置と高周波放射口及び電波攪拌機
が全て集約され、更に、露出したヒーターが不要である
ので加熱室内の有効容積も広くなり、又、熱分布は棚板
によって均一化され、高周波分布は加熱室壁中央に設け
た放射口と電波攪拌機及び電熱装置の対称形状等によっ
て均一化されるなど性能、使い勝手の向上が達成出来る
実施例 以下本発明の一実施例の加熱調理器を図面を参照して説
明する。
第1図は本発明の加熱調理器の構造を示す正面断面図で
ある。
第1図において、被加熱物13を収納する加熱室14は
上壁面16と下壁面も一体に形成された側壁面16と奥
壁面(図示せず)と被加熱物13の搬入搬出を行なう扉
面(図示せず)で略函体に形成されている。加熱室14
の側壁下部には棚突起16が左右にそれぞれ設けられて
いる。
セラミック等の無機質誘電体より成る棚板17は周囲を
シリコンゴム等の可とう性耐熱材料より成るパツキン1
日で被われており、加熱室壁(側壁面16、奥壁面等)
と間隙なく棚突起16に当接する位置に固定されている
。この棚板17により加熱室14内に新たに構成された
隔室19の底面中央には開口2oが設けられ、高周波発
振器であるマグネトロン21より発振された高周波電波
が隔室下面中央に設けられた導波管22″に、伝搬し開
口20より隔室19内に搬入される。搬入された高周波
電波は、開口20上に設けられ、軸23によりモーター
24で回転する電波攪拌翼であるヌタラーハネ25で、
高周波電界分布を均一化され棚板17を透過して加熱室
14内に放射される。
又隔室19内には開口20及びスタラーハネ25を包囲
するように下ヒータ−26が設けられており、棚板17
に伝導熱と輻射熱を伝え更に加熱室14に熱を下部より
放射する。被加熱物1aに上部より熱を与える上ヒータ
−27が上壁面15に近接して設けられている。各々の
ヒーターは、加熱室外への高周波電波の漏洩を防止する
だめのチョーク構造を持ち加熱室側壁16に固定された
チョーク筒28.29を貫通し庫外からの電源供給を受
ける。下ヒータ−26・と棚板17との間には導電体よ
り成りスタラーハネ25で攪拌された高周波電波及び下
ヒータ−26よりの熱を被加熱物13により均一に与え
るための反射板30が設けられてい・る。
第2図は上記本発明による加熱調理器の隔室の構成を示
す第1図イーイ′断面矢視平面図である。
第2図において隔室中央部には導波管22の高周波電波
進行方向(図左方向)に対して垂直にスリット状に開口
20が設けられている。高周波電波は開口20より隔室
19内に放射されるが、その際、電波の指向性により電
波進行方向に電界の強弱を生じるため、開口上には4枚
の攪拌翼を持つスタラーハネ25が設けられ、この回転
に二り開口20よりの隔室内に入射する電波の指向性を
解消している。更にスタラーハネ25と加熱室140間
には反射板30が設けられており、スタラーハネ25で
攪拌された電波は反射板30上の開孔31.31’や取
付足32のための切欠き33及び外周部の間隙34を通
過して加熱室14に放射される。この場合、開孔31の
大きさにより通過する電波の強度を調整出来るため、開
口20よりの放射距離が短かいA部に対してB部の開孔
を大きくし均一化をはかっている。又、下ヒータ−26
は導電体である為開口20よりの電波を反射するため開
口20″f、中心としたx −x’軸、Y−Y’軸に対
して略軸対称形に形成し、電波の均一性を損なわない配
慮を行なっている。
下ヒータ−26の形状により若干の熱分布に強弱を生じ
る例えば、庫外よりの電源供給部近傍C部は他の部分に
比べてヒーターの投影密度が高いため、局部的に伝導、
輻射熱が強くなる。このため反射板30のA部に設けた
様な開孔を0部では無くし、熱的な均一性をはかってい
る実施例では開孔31.31”e円形としたが矩形の開
孔としても同様の効果含有する。
第3図は上記反射板3oの形状を示す斜視図である。実
施例では取付足32と切欠き33(il−一体で形成し
たが、取付足を単独で形成することも可能である。この
場合、反射板3oは平板となり自由に開孔31.31”
k形成することが出来る。
発明の効果 以上のように本発明による加熱調理器によると次のよう
な効果を発揮することが出来る。
(1)  ヒーター等の電熱装置と高周波発生装置の放
射口及び電波攪拌器が加熱室を棚板で支切った隔室内に
集中して設けられているため、高周波加熱と電熱加熱の
両加熱手段が被加熱物に同一方向より与えられ、電熱装
置、電波攪拌器等の均一加熱構造が両加熱手段に有効で
あり構造が集約出来る。
これにより、加熱室°内の有効容積が増し、大きな食品
でも加熱調理することが出来る。また同一の加熱容積と
すればその分だけ従来よりも外形を小型にできるので、
置き場所をとらないコンパクトで使いやすい加熱調理器
を実現出来る。
(2)加熱室内や被加熱物に対しての電熱装置からの熱
放射が、セラミック等の無機質誘電体より成る棚板で2
次放射体として行なわれることになり、表面の放射率が
金属面に比べて極めて高く、特に波長1ミクロン以上の
近赤外線から遠赤外線と呼ばれる比較的長波長の領域に
於ける放射率が高くなる。したがって、電熱装置の熱を
効率よく加熱室内に伝達すると共に食品の加熱に適した
近赤外線、遠赤外線などの熱輻射が高まり加熱調理の効
率、出来ばえヲ極めて向とさせることが出来る。
0)電熱装置の熱は一旦棚板に伝達されるので、棚板の
熱容量によって全体に熱が広がるので、加熱室内へ向け
て均一な熱輻射が行なわれるため、被加熱物に均一な熱
分布を与えることが出来る。
(4)従来の煮汁等で一番汚染される下ヒーターを加熱
室内に露出して設ける構成に比べ、加熱室内は凸凹の少
ないすっきりした形になり、電熱装置の着脱も不用で又
、掃除が楽で極めて使い勝手が良くなる。
なお、棚板とヒーター間に反射板を設ける構成とした場
合は、この反射板によりヒーターの熱の局部的な過熱及
び熱の偏りi防止出来るだけでなく高周波電波の被加熱
物への透過率を調整も出来、高周波加熱、電熱加熱の両
加熱を更に商工させることが出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例による加熱調理器の縦断面図
、第2図は同加熱調理器の隔室の構成を示すイーイ′線
の断面矢視図、第3図は同加熱調理器の反射板を示す斜
視図である。第4図は従来の加熱調理器の断面図である
。 14−加熱室、17・・・・・・棚板、19・・・・・
・隔室、20・・・・・・開口、21・・・・・・マグ
ネトロン、22・・・・・・i波?、2s・・・・・・
スタラーハネ、26・・・・・・下ヒータ−,3o・・
・・・・反射板、31・・・・・・開孔。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名/q
−7%’!! 第3図 αノ 第 4 図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)食品を収納して加熱調理する加熱室と加熱室内に
    高周波を放射する高周波発生装置と食品を加熱する電熱
    装置とを備え、前記加熱室内にセラミック等の無機質誘
    電体で形成した棚板により支切り構成した隔室を設け、
    この隔室内に前記高周波発生装置の高周波放射口と電波
    攪拌器及び前記電熱装置を配置したことを特徴とする加
    熱調理器。
  2. (2)高周波放射口を加熱室壁の略中心に位置させ、電
    熱装置を高周波放射口の周囲に垂直、水平の2軸に対し
    て対称形に設けたことを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の加熱調理器。
  3. (3)電熱装置と棚板の間に複数個の開孔を有する反射
    板を介在させたことを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の加熱調理器。
JP61164092A 1986-07-11 1986-07-11 加熱調理器 Pending JPS6319794A (ja)

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JP61164092A JPS6319794A (ja) 1986-07-11 1986-07-11 加熱調理器

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JP61164092A JPS6319794A (ja) 1986-07-11 1986-07-11 加熱調理器

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ID=15786618

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0454975U (ja) * 1990-09-17 1992-05-12
JPH0552696U (ja) * 1991-12-12 1993-07-13 北芝電機株式会社 ライニングレス誘導溶解炉

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5741197A (en) * 1980-08-15 1982-03-08 Inoue Japax Res Jet working device
JPS6029840U (ja) * 1983-08-05 1985-02-28 ナニワ建設機材株式会社 手摺設置用ホルダ−

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