JPS63198645A - ブラシル酸ジ低級アルキルエステルの製造法 - Google Patents
ブラシル酸ジ低級アルキルエステルの製造法Info
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はムスク系香料物質の合成における中間体として
有用なブラシル酸ジ低級アルキルエステルの製造法に関
する。
有用なブラシル酸ジ低級アルキルエステルの製造法に関
する。
本発明のブラシル酸ジ低級アルキルエステルは一般式(
1) (式中、R+、Rgは同一または異なる低級アルキル基
を示す) で表され、ムスク系香料物質すなわちブラシル酸環状エ
チレンエステルを合成する際の重要な中間体である。ブ
ラシル酸ジ低級アルキルエステルの最も一般的製法とし
ては従来、ナタネ油の加水分解物中に存在するエルカ酸
をオゾン酸化して得られるブラシル酸をエステル化する
方法(S、C,Bha−ttacharyyaらInd
ian J、 cheIl、 4 、 (12)、 5
24. (1966))、アジピン酸モノエステルとア
ジピン酸モノエステルをコルベ反応による合成法(特開
昭57−198287号)、−一ハロゲン化デカン酸エ
ステルにマロン酸を反応させる方法(Dudinov、
A、A、らIzv。
1) (式中、R+、Rgは同一または異なる低級アルキル基
を示す) で表され、ムスク系香料物質すなわちブラシル酸環状エ
チレンエステルを合成する際の重要な中間体である。ブ
ラシル酸ジ低級アルキルエステルの最も一般的製法とし
ては従来、ナタネ油の加水分解物中に存在するエルカ酸
をオゾン酸化して得られるブラシル酸をエステル化する
方法(S、C,Bha−ttacharyyaらInd
ian J、 cheIl、 4 、 (12)、 5
24. (1966))、アジピン酸モノエステルとア
ジピン酸モノエステルをコルベ反応による合成法(特開
昭57−198287号)、−一ハロゲン化デカン酸エ
ステルにマロン酸を反応させる方法(Dudinov、
A、A、らIzv。
Akad、Nauksssr、Ser Khim、19
74.(6)、1421) 、)リゾカンを微生物によ
り2塩基酸をつくってエステル化する方法が知られてい
る(特開昭57−206394)。
74.(6)、1421) 、)リゾカンを微生物によ
り2塩基酸をつくってエステル化する方法が知られてい
る(特開昭57−206394)。
しかしながら、この従来の製法は原料的に入手が困難と
なってきたこと、原料価格が上昇してきていてより安価
な原料による合成法が切望されていた。
なってきたこと、原料価格が上昇してきていてより安価
な原料による合成法が切望されていた。
本発明は上記事情を鑑みて新たに創案されたものであっ
て、その主たる課題はハロゲン化ブラシル酸ジ低級アル
キルエステルを3級アミンの存在下に水素化分解反応を
して工業的規模で有利にブラシル酸ジ低級アルキルエス
テルを製造する方法を提供するにある。
て、その主たる課題はハロゲン化ブラシル酸ジ低級アル
キルエステルを3級アミンの存在下に水素化分解反応を
して工業的規模で有利にブラシル酸ジ低級アルキルエス
テルを製造する方法を提供するにある。
本発明は上記課題を解決するために、ハロゲン化ブラシ
ル酸ジ低級アルキルエステルをラネーニッケルと3級ア
ミンの存在下で水素化分解反応を行ない、生成するハロ
ゲン化水素を3級アミンの塩とすることで水素化触媒の
ラネーニッケルを不活性化することなしに水素化してブ
ラシル酸ジ低級アルキルエステル合成に関する。
ル酸ジ低級アルキルエステルをラネーニッケルと3級ア
ミンの存在下で水素化分解反応を行ない、生成するハロ
ゲン化水素を3級アミンの塩とすることで水素化触媒の
ラネーニッケルを不活性化することなしに水素化してブ
ラシル酸ジ低級アルキルエステル合成に関する。
本発明者等は、ハロゲン化ブラシル酸ジ低級アルキルエ
ステルを出発原料として水素化分解反応を種々の塩基及
び水添触媒を用いて鋭意研究を行った結果、ニッケルは
白金、パラジウムと異なりハロゲン化水素により溶かさ
れて、触媒毒となる(A、R,Pinder、5ynt
hesis 4251980) eそれにもかかわらず
3級アミンの塩基をうまく使うことにより、触媒毒であ
るハロゲン化水素を塩として除去することで水添触媒の
ラネーニッケルを不活性化することなく且つ反応を収率
よく進行することを見い出し本発明を完成するに至った
。
ステルを出発原料として水素化分解反応を種々の塩基及
び水添触媒を用いて鋭意研究を行った結果、ニッケルは
白金、パラジウムと異なりハロゲン化水素により溶かさ
れて、触媒毒となる(A、R,Pinder、5ynt
hesis 4251980) eそれにもかかわらず
3級アミンの塩基をうまく使うことにより、触媒毒であ
るハロゲン化水素を塩として除去することで水添触媒の
ラネーニッケルを不活性化することなく且つ反応を収率
よく進行することを見い出し本発明を完成するに至った
。
本発明に使用する原料の1つの2−ハロゲン化ブラシル
酸ジ低級アルキルエステルはヒマシ油の熱分解で得られ
る安価なウンデシレン酸のエステルとモノハロゲン化酢
酸エステルからジーtert −ブチルパーオキサイド
を触媒としてラジカル付加反応により次の反応式[1)
のごとく合成される。
酸ジ低級アルキルエステルはヒマシ油の熱分解で得られ
る安価なウンデシレン酸のエステルとモノハロゲン化酢
酸エステルからジーtert −ブチルパーオキサイド
を触媒としてラジカル付加反応により次の反応式[1)
のごとく合成される。
(D、LEFORT Bull、Soc、Chim、
Fr、、(11) 4613.(1968))一→ R
+ 0CCH(CHz) +。coRz
(1)(式中、XはCIまたはBrを表わし、RI+
Rzは前記一般式(1)におけるものと同一の低級アル
キル基を示す。) 一方、4ハロゲン化ブラシル酸ジ低級アルキルエステル
の合成は、オートクレーブ中に、ウンデシレン酸エステ
ルの炭化水素系溶媒(例えば、n−へブタン、ベンゼン
、又はトルエンが好ましい)溶液とモノハロゲノ酢酸エ
ステルを仕込み、十分に窒素置換を行った後、ルテニウ
ム−ホスフィン錯体を添加し、加熱攪拌して反応させる
。
Fr、、(11) 4613.(1968))一→ R
+ 0CCH(CHz) +。coRz
(1)(式中、XはCIまたはBrを表わし、RI+
Rzは前記一般式(1)におけるものと同一の低級アル
キル基を示す。) 一方、4ハロゲン化ブラシル酸ジ低級アルキルエステル
の合成は、オートクレーブ中に、ウンデシレン酸エステ
ルの炭化水素系溶媒(例えば、n−へブタン、ベンゼン
、又はトルエンが好ましい)溶液とモノハロゲノ酢酸エ
ステルを仕込み、十分に窒素置換を行った後、ルテニウ
ム−ホスフィン錯体を添加し、加熱攪拌して反応させる
。
なお、仕込み量はウンデシレン酸エステル10mM(ミ
リモル)に対し、モノハロゲノ酢酸エステル18〜24
mM、ルテニウム−ホスフィン錯体0.005〜0.1
mMの割合で用いることが好ましい。
リモル)に対し、モノハロゲノ酢酸エステル18〜24
mM、ルテニウム−ホスフィン錯体0.005〜0.1
mMの割合で用いることが好ましい。
また、反応温度は、反応促進と副反応防止との兼ね合い
から110℃〜180℃の範囲内とすることが望ましい
。
から110℃〜180℃の範囲内とすることが望ましい
。
ここで、反応時間は通常、数時間乃至20時間程度を要
する。
する。
本発明で触媒として用いられるルテニウム−ホスフィン
錯体は三級ホスフィンをルテニウムに配位させたもので
、例えば以下に列挙するものなどである。
錯体は三級ホスフィンをルテニウムに配位させたもので
、例えば以下に列挙するものなどである。
RuHz(PPh3) 4(PPb3はトリフェニルホ
スフィンを表わす、以下同じ〕 RuHCl (PPha) 3 RuC1z (PPhz) ! RuzClt(PTO13)HtffNCPToliは
トリトリルホスフィン を表わす、I!t3Nはトリエチルア ミンを表わす、以下同じ〕 Ru2C14(PNaphi)4EtJ(PNaphs
はトリナフチルホスフィンを表わす、以下同じ〕 RuzCl4 (dppb) zEtsN(dppbは
1.4−ビス (ジフェニルホスフィノ)ブタンを表わ
す、以 下同じ〕 (RuzCl、:+(CI8七P)、) CIこれら錯
体はいづれも公知の物質であり、例えば文献、新実験化
学講座、 12. P157〜P165 (昭和51年
、丸善)、又はプリテン・オプ・ザ・ケミカルソサイエ
ティ・オプ・ジャパン(Bull、 Chew。
スフィンを表わす、以下同じ〕 RuHCl (PPha) 3 RuC1z (PPhz) ! RuzClt(PTO13)HtffNCPToliは
トリトリルホスフィン を表わす、I!t3Nはトリエチルア ミンを表わす、以下同じ〕 Ru2C14(PNaphi)4EtJ(PNaphs
はトリナフチルホスフィンを表わす、以下同じ〕 RuzCl4 (dppb) zEtsN(dppbは
1.4−ビス (ジフェニルホスフィノ)ブタンを表わ
す、以 下同じ〕 (RuzCl、:+(CI8七P)、) CIこれら錯
体はいづれも公知の物質であり、例えば文献、新実験化
学講座、 12. P157〜P165 (昭和51年
、丸善)、又はプリテン・オプ・ザ・ケミカルソサイエ
ティ・オプ・ジャパン(Bull、 Chew。
Soc、 Jan) 57.897 (1984)の記
載に基づいて調製することができる。
載に基づいて調製することができる。
上記の如くルテニウム−ホスフィン錯体の存在下でウン
デシレン酸エステ゛ルとモノハロゲノ酢酸エステルとを
反応させ4ハロゲン化ブラシル酸ジ低級アルキルエステ
ルを生成する。
デシレン酸エステ゛ルとモノハロゲノ酢酸エステルとを
反応させ4ハロゲン化ブラシル酸ジ低級アルキルエステ
ルを生成する。
本発明はか(して得られたハロゲン化ブラシル酸ジ低級
アルキルエステルを原料としてブラシル酸ジ低級アルキ
ルエステルを以下のごとく合成する。
アルキルエステルを原料としてブラシル酸ジ低級アルキ
ルエステルを以下のごとく合成する。
即ち、オートクレーブ中にハロゲン化ブラシル酸ジ低級
アルキルエステルを約1モルとトリn−ブチルアミンの
ごとき3級アミン約1.5モル〜3.5モルを加え、メ
タノール、エタノール、イソプロパツールのごときアル
コール類を約5モル〜10モル加えて溶かし、それにラ
ネーニッケル約0.01モル〜0.1モルを加えて水素
圧1〜20 kg / cll、好ましくは5〜15
kg /−で約50〜100℃、好ましくは70〜80
℃にて2〜5時間水素化分解反応を行う。
アルキルエステルを約1モルとトリn−ブチルアミンの
ごとき3級アミン約1.5モル〜3.5モルを加え、メ
タノール、エタノール、イソプロパツールのごときアル
コール類を約5モル〜10モル加えて溶かし、それにラ
ネーニッケル約0.01モル〜0.1モルを加えて水素
圧1〜20 kg / cll、好ましくは5〜15
kg /−で約50〜100℃、好ましくは70〜80
℃にて2〜5時間水素化分解反応を行う。
水素の吸収が終了後1〜2時間反応を続けて反応を完結
させる。反応混合物を濾別して触媒を除き、減圧下で溶
媒を回収する。残留物にベンゼン、トルエン、キシレン
、n−ヘキサン等の水の分離する有機溶媒を加えて溶解
後着硫酸を加え攪拌して3級アミンを水層に移し、水層
を分液後有機溶媒層炭酸ソーダ水溶液、炭酸水ツナトリ
ウム水溶液で中和水洗後有機溶媒層を分液する。
させる。反応混合物を濾別して触媒を除き、減圧下で溶
媒を回収する。残留物にベンゼン、トルエン、キシレン
、n−ヘキサン等の水の分離する有機溶媒を加えて溶解
後着硫酸を加え攪拌して3級アミンを水層に移し、水層
を分液後有機溶媒層炭酸ソーダ水溶液、炭酸水ツナトリ
ウム水溶液で中和水洗後有機溶媒層を分液する。
得られた有機溶媒層を減圧下で有機溶媒を留去回収し、
ブラシル酸ジ低級アルキルエステルを得る。反応に使っ
た3級アミンはアミン抽出水層に苛性ソーダ水溶液を加
え、約20〜60℃で5分間攪拌後静置する。水層を分
液して除き、3級アミンを回収する。
ブラシル酸ジ低級アルキルエステルを得る。反応に使っ
た3級アミンはアミン抽出水層に苛性ソーダ水溶液を加
え、約20〜60℃で5分間攪拌後静置する。水層を分
液して除き、3級アミンを回収する。
ここに使用される3級アミンは例えばトリエチルアミン
、トリーn−ブチルアミン、トリイソプロピルアミン、
トリーn−ヘキシルアミン、トリーn−オクチルアミン
、トリー2−エチルヘキシルアミン、ジメチルブチルア
ミン、ジオクチルメチルアミン、ジブチル−2−エチル
ヘキシルアミン、N−エチルピペリジン、N−エチルピ
ロリジン、N−エチルピペコリンが挙げられるが、好ま
しくはトリーn−ブチルアミン、トリイソプロピルアミ
ン、ジブチル−2−エチルヘキシルアミン、トリーn−
ヘキシルアミンである。
、トリーn−ブチルアミン、トリイソプロピルアミン、
トリーn−ヘキシルアミン、トリーn−オクチルアミン
、トリー2−エチルヘキシルアミン、ジメチルブチルア
ミン、ジオクチルメチルアミン、ジブチル−2−エチル
ヘキシルアミン、N−エチルピペリジン、N−エチルピ
ロリジン、N−エチルピペコリンが挙げられるが、好ま
しくはトリーn−ブチルアミン、トリイソプロピルアミ
ン、ジブチル−2−エチルヘキシルアミン、トリーn−
ヘキシルアミンである。
本発明に使用されるラネーニッケルは市販されているも
ので十分目的を達することができる。
ので十分目的を達することができる。
ここで得られたブラシル酸ジ低級アルキルエステルの収
率はほぼ定量的であって最も優れており、必要に応じて
蒸溜またはカラムクロマトグラフィーにより精製される
。
率はほぼ定量的であって最も優れており、必要に応じて
蒸溜またはカラムクロマトグラフィーにより精製される
。
ブラシル酸ジ低級アルキルエステルは例えば下記の反応
式(2)で示される公知の方法(例えば特公昭46−3
7584号)によりエチレングリコールとのエステル化
反応又はエステル交換を行ないポリエステルとし、更に
熱解重合により単量体のブラシル酸環状エチレンエステ
ルとすることができる。
式(2)で示される公知の方法(例えば特公昭46−3
7584号)によりエチレングリコールとのエステル化
反応又はエステル交換を行ないポリエステルとし、更に
熱解重合により単量体のブラシル酸環状エチレンエステ
ルとすることができる。
ORZ
\Co−C)It
(式中、RI+ Rzは前記定義と同じ)このブラシル
酸環状エチレンエステルはムスク系香料物質の1つとし
てきわめて重要である。
酸環状エチレンエステルはムスク系香料物質の1つとし
てきわめて重要である。
次に本発明の参考例及び実施例によって詳しく説明する
。
。
参考例1
2−クロルブラシル酸ジメチルの合成
モノクロル酢酸メチル1.047kgを2rrrの反応
釜に仕込み、加温して還流開始してからウンデシレン酸
メチル147.5kg (純度97.6%)とモノクロ
ル酢酸メチル147.5 k+rとジーtert−ブチ
ルパーオキサイド17.7kgの混合液を約15時間か
けて滴下する。
釜に仕込み、加温して還流開始してからウンデシレン酸
メチル147.5kg (純度97.6%)とモノクロ
ル酢酸メチル147.5 k+rとジーtert−ブチ
ルパーオキサイド17.7kgの混合液を約15時間か
けて滴下する。
滴下終了後同条件下で更に3時間攪拌を続は熟成させる
。反応終了後歪部70℃まで冷却し、引き続き減圧下で
過剰のモノクロル酢酸メチルを回収する。
。反応終了後歪部70℃まで冷却し、引き続き減圧下で
過剰のモノクロル酢酸メチルを回収する。
残留物2−クロルブラシル酸ジメチル238 kgを得
る。理論収率72.2%、純度67.6%の2−クロル
ブラシル酸ジメチル150gを減圧蒸溜し、沸点165
〜168℃/ 1 mm11gの留分106gを得る。
る。理論収率72.2%、純度67.6%の2−クロル
ブラシル酸ジメチル150gを減圧蒸溜し、沸点165
〜168℃/ 1 mm11gの留分106gを得る。
この物質はIRスペクトル、NMRスペクトル、マスス
ペクトル等の測定による分析により純度95%の2−ク
ロルブラシル酸ジメチルであることを確認した。
ペクトル等の測定による分析により純度95%の2−ク
ロルブラシル酸ジメチルであることを確認した。
IRスペクトル: 1720cm−’NMR〃:
3.4PPM S、6)1マススペクトル: 306(
M”) 参考例2 4−クロルブラシル酸ジメチルの合成 500−のオートクレーブにウンデシレン酸メチル10
g(50,5mM) 、トルエン20mZ、モノクロル
酢酸メチルLL、7g(108mM)を仕込み、オート
クレーブ内に窒素ガスで十分に置換したのち、RuCl
z (PPh、l) 397wg(0,1mM)及び
トルエン5rBlを加えた。
3.4PPM S、6)1マススペクトル: 306(
M”) 参考例2 4−クロルブラシル酸ジメチルの合成 500−のオートクレーブにウンデシレン酸メチル10
g(50,5mM) 、トルエン20mZ、モノクロル
酢酸メチルLL、7g(108mM)を仕込み、オート
クレーブ内に窒素ガスで十分に置換したのち、RuCl
z (PPh、l) 397wg(0,1mM)及び
トルエン5rBlを加えた。
ついで150℃で15時間、攪拌下で反応させた後得ら
れた反応液を5%炭酸ソーダ水で洗浄した。
れた反応液を5%炭酸ソーダ水で洗浄した。
次に溶媒を留去したのち、減圧蒸溜を行い、沸点165
℃〜170℃/ 1 m+*Hgの留去を集め、純度約
85%の4−クロルブラシル酸ジメチル7.8gを得た
(収率76%)。
℃〜170℃/ 1 m+*Hgの留去を集め、純度約
85%の4−クロルブラシル酸ジメチル7.8gを得た
(収率76%)。
次いで、これをカラムクロマトグラフィにより精製し、
純度はぼ100%の4−クロルブラシル酸ジメチルを得
た。
純度はぼ100%の4−クロルブラシル酸ジメチルを得
た。
参考例3
2−クロルブラシル酸ジエチルの合成
モノクロル酢酸エチル1182に+rを2n?の反応釜
に仕込み、加温還流開始後ウンデシレン酸エチル(純度
97.6%)158ktrとモノクロル酢酸エチル16
6.5kgとジーLert−ブチルパーオキサイド19
kgの混合液を約15時間かけて滴下する0滴下終了後
回条件下で更に3時間攪拌を続は反応を完結する0反応
終了後谷部70℃まで冷却し、引き続き減圧下で過剰の
モノクロル酢酸エチルを回収する。
に仕込み、加温還流開始後ウンデシレン酸エチル(純度
97.6%)158ktrとモノクロル酢酸エチル16
6.5kgとジーLert−ブチルパーオキサイド19
kgの混合液を約15時間かけて滴下する0滴下終了後
回条件下で更に3時間攪拌を続は反応を完結する0反応
終了後谷部70℃まで冷却し、引き続き減圧下で過剰の
モノクロル酢酸エチルを回収する。
この時、釜残油として2−クロルブラシル酸ジエチルを
得る。収it260kg 、純度67.4%、理論収率
は72.0%である。この残留油の一部を減圧蒸溜し、
沸点180〜185℃10.5nusHgの留分を集め
、ガスクロマトグラフィー、G S−Massスペクト
ル、NMRスペクトル、IRスペクトルの測定を行い、
このものが純度95%の2−クロルブラシル酸ジエチル
であることを確認した。
得る。収it260kg 、純度67.4%、理論収率
は72.0%である。この残留油の一部を減圧蒸溜し、
沸点180〜185℃10.5nusHgの留分を集め
、ガスクロマトグラフィー、G S−Massスペクト
ル、NMRスペクトル、IRスペクトルの測定を行い、
このものが純度95%の2−クロルブラシル酸ジエチル
であることを確認した。
IRスペクトル:1720C!l−’
N M R# : (3,8PPM、q、411)
(1,2PPM、 t、6H)マススペクトル: 3
34(M+) 実施例1 17!のオートクレーブ中に参考例1で得られた純度6
7.6%の2−クロルブラシル酸ジメチル175g(0
,386モル)とトリーn−ブチルアミン159g (
0,86モル)メタノール233g、ラネーニッケル触
媒(用研ファインケミカル製)3.5gを取り、水素圧
10kg/−下で70℃にて水素化分解を行う。水素の
吸収は6時間で終了するが、さらに同条件下で2時間反
応し反応を完結する。反応混合物より触媒を濾別後、減
圧下でメタノール228.9g (トリーn−ブチルア
ミン4.3g含有)を回収する。メタノール回収率は理
論量の96.4%であった。このメタノールはそのまま
リサイクル使用ができる。メタノール回収後の残油33
7.5gにトルエン220gを加え溶解後、7%希硫酸
450g (0,32M)を加え攪拌し、トリー〇−ブ
チルアミンを水層に抽出する。水層を分液後トルエン層
に2%の炭酸ソーダ水溶液、2%の炭酸水素ナトリウム
水溶液、2.5%食塩水の等量混合水溶液をトルエンと
同量加え中和復水層を分液する。
(1,2PPM、 t、6H)マススペクトル: 3
34(M+) 実施例1 17!のオートクレーブ中に参考例1で得られた純度6
7.6%の2−クロルブラシル酸ジメチル175g(0
,386モル)とトリーn−ブチルアミン159g (
0,86モル)メタノール233g、ラネーニッケル触
媒(用研ファインケミカル製)3.5gを取り、水素圧
10kg/−下で70℃にて水素化分解を行う。水素の
吸収は6時間で終了するが、さらに同条件下で2時間反
応し反応を完結する。反応混合物より触媒を濾別後、減
圧下でメタノール228.9g (トリーn−ブチルア
ミン4.3g含有)を回収する。メタノール回収率は理
論量の96.4%であった。このメタノールはそのまま
リサイクル使用ができる。メタノール回収後の残油33
7.5gにトルエン220gを加え溶解後、7%希硫酸
450g (0,32M)を加え攪拌し、トリー〇−ブ
チルアミンを水層に抽出する。水層を分液後トルエン層
に2%の炭酸ソーダ水溶液、2%の炭酸水素ナトリウム
水溶液、2.5%食塩水の等量混合水溶液をトルエンと
同量加え中和復水層を分液する。
トルエン層より減圧下でトルエン210g (回収率9
5%)回収し、純度70.3%のブラシル酸ジメチル1
46gを得る。理論収率98%、このものを減圧蒸溜し
、沸点137〜140℃/lmmHgの留分102gを
得た。
5%)回収し、純度70.3%のブラシル酸ジメチル1
46gを得る。理論収率98%、このものを減圧蒸溜し
、沸点137〜140℃/lmmHgの留分102gを
得た。
この物質はガスクロマトグラフィー、IRスペクトル、
NMRスペクトル、マススペクトル等の分析の結果純度
96%のブラシル酸ジメチルであることを確認した。
NMRスペクトル、マススペクトル等の分析の結果純度
96%のブラシル酸ジメチルであることを確認した。
IRスペクトル: 1720cm−’NMR〃:
3.2PPM S、6Hマススペクトル: 272(
Mつ トリーn−ブチルアミン抽出水層740gに25%苛性
ソーダ水溶液220gを加え、50℃で5分間、攪拌後
静置する。下層の水層を分液除去し、油層のトリーn−
ブチルアミン151gを回収した。このものは純度99
%以上で、精製することな(リサイクル使用できる。
3.2PPM S、6Hマススペクトル: 272(
Mつ トリーn−ブチルアミン抽出水層740gに25%苛性
ソーダ水溶液220gを加え、50℃で5分間、攪拌後
静置する。下層の水層を分液除去し、油層のトリーn−
ブチルアミン151gを回収した。このものは純度99
%以上で、精製することな(リサイクル使用できる。
実施例2
参考例2で得られた4−クロルブラシル酸ジメチル10
2g(0,33モル、純度100%)を11のオートク
レーブに入れ、トリエチルアミン74.8g(0,74
モル)、エタノール210g、ラネーニッケル3.1g
をとり水素圧12kir/cjで65℃にて水素化分解
を行った。以下の処理は実施例1と同様に処理して純度
99.5%のブラシル酸ジメチル90g得る。理論収率
98%、この物質はガスクロマトグラフィー、IRスペ
クトル、NMRスペクトル、マススペクトル等の分析の
結果純度96%のブラシル酸ジメチルであることを確認
した。
2g(0,33モル、純度100%)を11のオートク
レーブに入れ、トリエチルアミン74.8g(0,74
モル)、エタノール210g、ラネーニッケル3.1g
をとり水素圧12kir/cjで65℃にて水素化分解
を行った。以下の処理は実施例1と同様に処理して純度
99.5%のブラシル酸ジメチル90g得る。理論収率
98%、この物質はガスクロマトグラフィー、IRスペ
クトル、NMRスペクトル、マススペクトル等の分析の
結果純度96%のブラシル酸ジメチルであることを確認
した。
IRスペクトル: 1720c1m−’NMR〃:
3.2PPMS、6H マススペクトル: 272(M”) 実施例3 水素化分解反応によるジエチルブラシレートの合成 参考例3で得られた純度67.4%の2−クロルブラシ
ル酸ジエチル192gとトリーn−ブチルアミン159
gとメタノール233gとラネーニッケル触媒3.8g
をLAのオートクレーブ中に取り実施例1と同様な条件
下で水素化分解を行ない、粗製ブラジル酸ジエチル16
1.0g (純度70.5%、理論収率98%)を得た
。この物質の減圧蒸溜により沸点150〜155℃/
l mm11gの留分として112.3gを得た。
3.2PPMS、6H マススペクトル: 272(M”) 実施例3 水素化分解反応によるジエチルブラシレートの合成 参考例3で得られた純度67.4%の2−クロルブラシ
ル酸ジエチル192gとトリーn−ブチルアミン159
gとメタノール233gとラネーニッケル触媒3.8g
をLAのオートクレーブ中に取り実施例1と同様な条件
下で水素化分解を行ない、粗製ブラジル酸ジエチル16
1.0g (純度70.5%、理論収率98%)を得た
。この物質の減圧蒸溜により沸点150〜155℃/
l mm11gの留分として112.3gを得た。
この物質はガスクロマトグラフィー、IRスペクトル、
NMRスペクトル、マススペクトル等による分析により
純度96%のブラシル酸ジエチルである事を確認した。
NMRスペクトル、マススペクトル等による分析により
純度96%のブラシル酸ジエチルである事を確認した。
IRスペクトル:1720cm−’
N M R〃: (3,8PPM q、4H) (1,
2PPルt、6H)マススペクトル: 300(Mつ ガスクロマトグラフィー条件 カラム:シリ:2 ン0V−1010,25φ×251
11温度:100〜250℃(10℃/m1n)機 器
:ガスクロマトグラフィーGc7A(株式会社島津製作
所製) 111核磁気共鳴スペクトル(NMR): JNM−G
X400型(400MHz) (日本電子株式会社製) 赤外分光光度計(IR) : I R−810(日本分光株式会社製)〔発明の効
果〕 本発明によればハロゲン化ブラシル酸ジ低級アルキルエ
ステルから高収率でブラジル酸ジ低級アルキルエステル
を合成でき、しかも発生する塩化水素ガスを3級アミン
塩として捕獲できて労働作業上安全であるばかりでなく
、反応に使った触媒のラネーニッケル、溶媒、3級アミ
ンが全て安全に回収できるので大変重要なムスク系香料
物質の1つである大環状ブラシル酸エチレンエステルの
中間体の製造法として有用である。
2PPルt、6H)マススペクトル: 300(Mつ ガスクロマトグラフィー条件 カラム:シリ:2 ン0V−1010,25φ×251
11温度:100〜250℃(10℃/m1n)機 器
:ガスクロマトグラフィーGc7A(株式会社島津製作
所製) 111核磁気共鳴スペクトル(NMR): JNM−G
X400型(400MHz) (日本電子株式会社製) 赤外分光光度計(IR) : I R−810(日本分光株式会社製)〔発明の効
果〕 本発明によればハロゲン化ブラシル酸ジ低級アルキルエ
ステルから高収率でブラジル酸ジ低級アルキルエステル
を合成でき、しかも発生する塩化水素ガスを3級アミン
塩として捕獲できて労働作業上安全であるばかりでなく
、反応に使った触媒のラネーニッケル、溶媒、3級アミ
ンが全て安全に回収できるので大変重要なムスク系香料
物質の1つである大環状ブラシル酸エチレンエステルの
中間体の製造法として有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)ハロゲン化ブラシル酸ジ低級アルキルエステルをラ
ネーニッケルと3級アミンの存在下で水素化分解反応を
行うことを特徴とするブラシル酸ジ低級アルキルエステ
ルの製造法。 2)ハロゲン化ブラシル酸ジ低級アルキルエステルが2
又は4−ハロゲン化ブラシル酸のメチル又はエチルのジ
エステルである特許請求の範囲第1項記載のブラシル酸
ジ低級アルキルエステルの製造法。 3)ハロゲン化ブラシル酸ジ低級アルキルエステルのハ
ロゲン原子がクロル原子である特許請求の範囲第1項記
載のブラシル酸ジ低級アルキルエステルの製造法。 4)3級アミンがトリ−n−ブチルアミンである特許請
求の範囲第1項記載のブラシル酸ジ低級アルキルエステ
ルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62029696A JPS63198645A (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | ブラシル酸ジ低級アルキルエステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62029696A JPS63198645A (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | ブラシル酸ジ低級アルキルエステルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63198645A true JPS63198645A (ja) | 1988-08-17 |
| JPH0417939B2 JPH0417939B2 (ja) | 1992-03-26 |
Family
ID=12283271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62029696A Granted JPS63198645A (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | ブラシル酸ジ低級アルキルエステルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63198645A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1323541A2 (en) | 2001-12-27 | 2003-07-02 | Eastman Kodak Company | Thermal dye transfer receiver element with microvoided support |
| EP1431055A2 (en) | 2002-12-20 | 2004-06-23 | Eastman Kodak Company | Voided polyester sheet for thermal recording materials |
| EP1452336A1 (en) | 2003-02-26 | 2004-09-01 | Eastman Kodak Company | Therma dye-transfer receiver element with microvoided layer |
| US7078367B2 (en) | 2004-02-20 | 2006-07-18 | Eastman Kodak Company | Thermal-dye-transfer receiver element with polylactic-acid-based sheet material |
-
1987
- 1987-02-13 JP JP62029696A patent/JPS63198645A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1323541A2 (en) | 2001-12-27 | 2003-07-02 | Eastman Kodak Company | Thermal dye transfer receiver element with microvoided support |
| EP1431055A2 (en) | 2002-12-20 | 2004-06-23 | Eastman Kodak Company | Voided polyester sheet for thermal recording materials |
| US6867168B2 (en) | 2002-12-20 | 2005-03-15 | Eastman Kodak Company | Microbead and immiscible polymer voided polyester for thermal imaging medias |
| EP1452336A1 (en) | 2003-02-26 | 2004-09-01 | Eastman Kodak Company | Therma dye-transfer receiver element with microvoided layer |
| US6890884B2 (en) | 2003-02-26 | 2005-05-10 | Eastman Kodak Company | Thermal dye-transfer receiver element with microvoided layer |
| US7078367B2 (en) | 2004-02-20 | 2006-07-18 | Eastman Kodak Company | Thermal-dye-transfer receiver element with polylactic-acid-based sheet material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0417939B2 (ja) | 1992-03-26 |
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