JPS63201140A - アルキレンビスフエノールおよびアルキルトリスフエノールの脱アリール方法 - Google Patents
アルキレンビスフエノールおよびアルキルトリスフエノールの脱アリール方法Info
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- JPS63201140A JPS63201140A JP63026744A JP2674488A JPS63201140A JP S63201140 A JPS63201140 A JP S63201140A JP 63026744 A JP63026744 A JP 63026744A JP 2674488 A JP2674488 A JP 2674488A JP S63201140 A JPS63201140 A JP S63201140A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/50—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by reactions decreasing the number of carbon atoms
- C07C37/52—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by reactions decreasing the number of carbon atoms by splitting polyaromatic compounds, e.g. polyphenolalkanes
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
- C07C45/54—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition of compounds containing doubly bound oxygen atoms, e.g. esters
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアルキレンビスフェノールおよびアルキルトリ
スフェノールの脱アリール又は分解(cleavage
)によるフェノールおよびアルキルおよび(又は)ア
ルケニル置換フェノールの製造に関する。特に本発明は
ぶつ化水素存在、おだやかな条件のもとで脱アリールを
行なうことによるp−インプロペニルフェノールの様な
アルケニルフェノール化合物および他の関連重合体類の
製造に関する。
スフェノールの脱アリール又は分解(cleavage
)によるフェノールおよびアルキルおよび(又は)ア
ルケニル置換フェノールの製造に関する。特に本発明は
ぶつ化水素存在、おだやかな条件のもとで脱アリールを
行なうことによるp−インプロペニルフェノールの様な
アルケニルフェノール化合物および他の関連重合体類の
製造に関する。
従来技術
ビスフェノールA1即ち42−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)フロパン、の様なアルキレンビスフェノールノ
脱アリール反応は酸又は塩基を用いる方法が知られてお
り、これによりp−イソプロペニルフェノールと7エノ
ールを生成する。例えば米国特許第346fi337号
はビスフェノールAを酸と加熱分解するフェノールと他
の生成物の製造法を発表している。反応は酸触媒、例え
ばベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、水素硫酸
ナトリウム、りん酸又はベンゼンホスホン酸の存在のも
と125乃至300℃の温度で行なわれる。この方法は
またインプロペニルフェノールとビスフェノールの縮合
によって見られるトリスフェノールの様な同等物質の処
理に応用できることも知られている。米国特許第:17
a015号にはフェノールとアルデヒドおよびケトンと
のビスフェノール性縮合生成物の稀アルカリ金属水酸化
物水溶液による分解又は脱アリール反応が記載されてい
る。ヨーロッパ特許10017852号は水素と酸化ニ
ッケル、酸化マンガン、および金属酸化物の触媒支持体
の存在においてアルキレンビスフェノールおよびトリス
フェノールのフェノールと他の副成物への分解を発表し
ている。反応は2500乃至400℃の温度で行なわれ
る。この酸又は塩基による反応は株々利点をもたらすが
、これらの方法はいづれも高温および(又は)高圧のき
びしい条件を使う欠点をもつ。したがって本発明の目的
は適度の温度圧力条件のもとでアルキレンビスフェノー
ルを脱アリール反応させうる有効触媒を提供することに
ある。
ェニル)フロパン、の様なアルキレンビスフェノールノ
脱アリール反応は酸又は塩基を用いる方法が知られてお
り、これによりp−イソプロペニルフェノールと7エノ
ールを生成する。例えば米国特許第346fi337号
はビスフェノールAを酸と加熱分解するフェノールと他
の生成物の製造法を発表している。反応は酸触媒、例え
ばベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、水素硫酸
ナトリウム、りん酸又はベンゼンホスホン酸の存在のも
と125乃至300℃の温度で行なわれる。この方法は
またインプロペニルフェノールとビスフェノールの縮合
によって見られるトリスフェノールの様な同等物質の処
理に応用できることも知られている。米国特許第:17
a015号にはフェノールとアルデヒドおよびケトンと
のビスフェノール性縮合生成物の稀アルカリ金属水酸化
物水溶液による分解又は脱アリール反応が記載されてい
る。ヨーロッパ特許10017852号は水素と酸化ニ
ッケル、酸化マンガン、および金属酸化物の触媒支持体
の存在においてアルキレンビスフェノールおよびトリス
フェノールのフェノールと他の副成物への分解を発表し
ている。反応は2500乃至400℃の温度で行なわれ
る。この酸又は塩基による反応は株々利点をもたらすが
、これらの方法はいづれも高温および(又は)高圧のき
びしい条件を使う欠点をもつ。したがって本発明の目的
は適度の温度圧力条件のもとでアルキレンビスフェノー
ルを脱アリール反応させうる有効触媒を提供することに
ある。
発明の概要
本発明によりアルキレンビスフェノール又はアルキルト
リスフェノールをおだやかな温度圧力条件のもとで液体
ぶつ化水素と十分の時間接触させてフェノールおよびア
ルキル−および(又は)アルケニル−ft、1%フェノ
ールを生成した後説アリール生成物を回収することより
成るアルキレンビスフェノールおよびアルキルトリスフ
ェノールの脱アリール方法が提供される。
リスフェノールをおだやかな温度圧力条件のもとで液体
ぶつ化水素と十分の時間接触させてフェノールおよびア
ルキル−および(又は)アルケニル−ft、1%フェノ
ールを生成した後説アリール生成物を回収することより
成るアルキレンビスフェノールおよびアルキルトリスフ
ェノールの脱アリール方法が提供される。
本発明の好ましい態様において効果的脱アリール反応は
HF対アルキレンビスフェノール又はアルキルトリスフ
エノール容量モル比を20−50:lとし約30℃の温
度でHFを液相とするに十分な圧力のもとで反応域に望
ましい象があるときに行なわれる。液相は供給多価フェ
ノール物質がとける本質的なぶつ化水素である。
HF対アルキレンビスフェノール又はアルキルトリスフ
エノール容量モル比を20−50:lとし約30℃の温
度でHFを液相とするに十分な圧力のもとで反応域に望
ましい象があるときに行なわれる。液相は供給多価フェ
ノール物質がとける本質的なぶつ化水素である。
反応域に保たれるHF対アルキレンビスフェノール又ハ
アルキル) IJスフエノール容量モル比は広く1:1
乃至約75=1の範囲でよい力ζ一般に20:1乃至5
0:1である。
アルキル) IJスフエノール容量モル比は広く1:1
乃至約75=1の範囲でよい力ζ一般に20:1乃至5
0:1である。
脱アリール反応はフェノール性装入物を液相ふつ化水素
とO乃至120℃、好ましくは20乃至80℃、最良は
30乃至50℃の温度で15分乃至6時間、好ましくは
30分乃至4時間接触させて行なわれる。30℃の大気
温中反応1時間で定量的収量がえられる。
とO乃至120℃、好ましくは20乃至80℃、最良は
30乃至50℃の温度で15分乃至6時間、好ましくは
30分乃至4時間接触させて行なわれる。30℃の大気
温中反応1時間で定量的収量がえられる。
HFは実質的に無水形がよいが少量、例えば約2重量−
までの水はあってもよい。必要ならば少量の3ぶつ化は
う素もぶつ化水素と共に使用できる。
までの水はあってもよい。必要ならば少量の3ぶつ化は
う素もぶつ化水素と共に使用できる。
本明細書で使う“ぶつ化水素1とは本質的活性成分がぶ
つ化水素であるどんな均一系触媒でも使用できる。
つ化水素であるどんな均一系触媒でも使用できる。
反応域の圧力は実質的に液相操作を保つに十分高く、例
えば約25乃至500 psigに保たれる。
えば約25乃至500 psigに保たれる。
本発明によって広範のアルキレンビスフェノールとアル
キルトリスフェノールの脱アリール反応ができる。
キルトリスフェノールの脱アリール反応ができる。
本発明のフェノール性出発化合物即ちアルキレンビスフ
ェノール及びアルキルトリスフェノールには2又は3個
のフェノール構造が2価又は3価の脂肪族炭化水素基に
結合した化合物又はそのフェノール性水酸基がエステル
基等の官能保護基(ブロック基)で置換した化合物、又
はこれらに適宜の置換基が置換した化合物が含まれる。
ェノール及びアルキルトリスフェノールには2又は3個
のフェノール構造が2価又は3価の脂肪族炭化水素基に
結合した化合物又はそのフェノール性水酸基がエステル
基等の官能保護基(ブロック基)で置換した化合物、又
はこれらに適宜の置換基が置換した化合物が含まれる。
好ましくはフェノール性出発化合物は一般式:
で示される。式中Rt1水素又は炭素原子1乃至9をも
つアルキル基であシ、Wは水素、炭素原子1乃至9をも
つアルキル基、シクロアルキル、又はアリール基又はそ
の官能性誘導体、例えばエステル化されたアリール基で
ある。脱アリール反応目的に好ましいフェノール性出発
化合物社ビス(4−ヒドロキシフェニル)アルカンおよ
びトリス(4−ヒドロキシフェニル)アルカン、例えば
Ll−ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、Ll−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、42−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)フロパン、2.2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)ブタン、22−ビス【4−ヒド
ロキシフェニル)ペンタン、43−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)ペンタン、Ll−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)シクロヘキサン、Ll−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)−1−フェニルエタン、1.1.1−) 9
ス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、44’−ジヒド
ロキシ−トリスフェニル−メタン、2.2−(44’−
ジヒドロキシフェニル)−2−フェニル−エタン、44
’−ペンジリデンージ(2−インプロピルフェノール)
等がある。好ましい態様におけるフェノール性出発化合
物は式:で示される。式中R′は水素、アルキル、シク
ロアルキル、又はエステル化アリール基であり、Rは水
素又は炭素原子1乃至9をもつアルキル基であり、かつ
R“はアルキル、シクロアルキル又はアリール基又はそ
の官能性誘導体である。
つアルキル基であシ、Wは水素、炭素原子1乃至9をも
つアルキル基、シクロアルキル、又はアリール基又はそ
の官能性誘導体、例えばエステル化されたアリール基で
ある。脱アリール反応目的に好ましいフェノール性出発
化合物社ビス(4−ヒドロキシフェニル)アルカンおよ
びトリス(4−ヒドロキシフェニル)アルカン、例えば
Ll−ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、Ll−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、42−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)フロパン、2.2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)ブタン、22−ビス【4−ヒド
ロキシフェニル)ペンタン、43−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)ペンタン、Ll−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)シクロヘキサン、Ll−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)−1−フェニルエタン、1.1.1−) 9
ス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、44’−ジヒド
ロキシ−トリスフェニル−メタン、2.2−(44’−
ジヒドロキシフェニル)−2−フェニル−エタン、44
’−ペンジリデンージ(2−インプロピルフェノール)
等がある。好ましい態様におけるフェノール性出発化合
物は式:で示される。式中R′は水素、アルキル、シク
ロアルキル、又はエステル化アリール基であり、Rは水
素又は炭素原子1乃至9をもつアルキル基であり、かつ
R“はアルキル、シクロアルキル又はアリール基又はそ
の官能性誘導体である。
LLl−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(T
HPE)とビスフェノールAの脱アリール反応機構は次
式で示される。
HPE)とビスフェノールAの脱アリール反応機構は次
式で示される。
フェニル)エタン(THPE) フェニル)エ
チレン(BHPE)ビスフェノールA 反応平衡による問題解決のため同じ反応を保護剤又はブ
ロック剤、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸又は酢酸
、アセチルハロゲン化物等の様な他の知られた有機化合
物の存在で行ってp−インプロペニルフェニルアセテー
ト単量体および4−HAP (4−ヒドロキシアセトフ
ェノン)を生成できる。後者は副成フェニルアセテート
の付ずいするフリース転移によって生じる。4−HAP
はこの反応条件ではビニル生成物と反応しない。無水酢
酸の存在で反応■はBHPEと安定単量体生成物、例え
ば44′−とスーアセトキシフェニルエチレンと4−ヒ
ドロキシ、4′−アセトキシフェニルエチレンを生成す
る。保護剤はgとでについて脱了り−ル反応中エステル
生成を妨げない様などんな1個有機基でもよい。例えば
アルキル、アルケニル、アリール、アラルキルおよびシ
クロアルキルがある。
チレン(BHPE)ビスフェノールA 反応平衡による問題解決のため同じ反応を保護剤又はブ
ロック剤、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸又は酢酸
、アセチルハロゲン化物等の様な他の知られた有機化合
物の存在で行ってp−インプロペニルフェニルアセテー
ト単量体および4−HAP (4−ヒドロキシアセトフ
ェノン)を生成できる。後者は副成フェニルアセテート
の付ずいするフリース転移によって生じる。4−HAP
はこの反応条件ではビニル生成物と反応しない。無水酢
酸の存在で反応■はBHPEと安定単量体生成物、例え
ば44′−とスーアセトキシフェニルエチレンと4−ヒ
ドロキシ、4′−アセトキシフェニルエチレンを生成す
る。保護剤はgとでについて脱了り−ル反応中エステル
生成を妨げない様などんな1個有機基でもよい。例えば
アルキル、アルケニル、アリール、アラルキルおよびシ
クロアルキルがある。
ビスフェノールAジアセテートの様なエステル化された
アルキリデンビスフェノールは次のとおり定量的に脱ア
リールできる。
アルキリデンビスフェノールは次のとおり定量的に脱ア
リールできる。
4− RAP
下記実施例は本発明実施の具体例を示すものである。
実施例1
本実施例は液相条件において触媒としてぶつ化水素の存
在において1,1.1− トリス(p−ヒドロキシフェ
ニル)アセテート(THPE)の脱アリール反応による
Ll−ビス(1)−ヒドロキシフェニル)エチレン(B
HPE)とフェノールの製造を例証するものである。
在において1,1.1− トリス(p−ヒドロキシフェ
ニル)アセテート(THPE)の脱アリール反応による
Ll−ビス(1)−ヒドロキシフェニル)エチレン(B
HPE)とフェノールの製造を例証するものである。
300sdオートクレーブ(ハステロイC)に1.1.
1−)リス(p−ヒドロキシフェニル)エタン30.6
F(0,1モル)を加え一10℃に冷し175Torr
真空とした。次いで実質的に無水のふつ化水素100f
(5モル)をシリンダーから30℃、50aaHf圧の
オートクレーブに移した。
1−)リス(p−ヒドロキシフェニル)エタン30.6
F(0,1モル)を加え一10℃に冷し175Torr
真空とした。次いで実質的に無水のふつ化水素100f
(5モル)をシリンダーから30℃、50aaHf圧の
オートクレーブに移した。
添加終了後オートクレーブを30℃、とし窒素圧5ps
igに保った。オートクレーブ内容物を30℃で90分
攪拌し反応終了時苛性(KOH)スクラバーをとおして
過剰のふつ化水素を排出しオートクレーブ内容物を窒素
で追出した。
igに保った。オートクレーブ内容物を30℃で90分
攪拌し反応終了時苛性(KOH)スクラバーをとおして
過剰のふつ化水素を排出しオートクレーブ内容物を窒素
で追出した。
えた有機相をエチルアセテートにとかしエチルアセテー
ト相を水相から回収した。エチルアセテート相を蒸発し
ビスヒドロキシフェニルエチレン(BHPE)を晶出さ
セ濾過回収し12F(57%)をえた。副成フェノール
は油状残渣から水蒸気ストリップによって除去し更にB
HPEを回収した。他の有機生成物又はTHPEは生成
混合物中に認められなかった。
ト相を水相から回収した。エチルアセテート相を蒸発し
ビスヒドロキシフェニルエチレン(BHPE)を晶出さ
セ濾過回収し12F(57%)をえた。副成フェノール
は油状残渣から水蒸気ストリップによって除去し更にB
HPEを回収した。他の有機生成物又はTHPEは生成
混合物中に認められなかった。
実施例2
本実施例は触媒としてぶつ化水素を使用するビスフェノ
ールAの脱アリール反応によるp−インプロペニルフェ
ノールの液相製造法を示すものである。
ールAの脱アリール反応によるp−インプロペニルフェ
ノールの液相製造法を示すものである。
ビスフェノールA22.8F(0,10モル)とふつ化
水素100P(5モル)を用い実施例1の方法を反復し
九。反応を30℃で90分行なわせてフェノール&8?
、ビスフェノールA7.1%およびp−インプロペニル
フェノール(単量体、2を体、およびオリゴマー)4.
1fの混合物を回収した。
水素100P(5モル)を用い実施例1の方法を反復し
九。反応を30℃で90分行なわせてフェノール&8?
、ビスフェノールA7.1%およびp−インプロペニル
フェノール(単量体、2を体、およびオリゴマー)4.
1fの混合物を回収した。
ビスフェノールA22.8t(0,10モル)とふつ化
水素150 f (7,5モル)を用い40℃で3時間
同じ反応を行なわせてフェノール6.7P、ビスフェノ
ールALL8fおよUp−イソプロペニルフェノール(
単量体、2F体およびオリゴマー)5.6Fを含む混合
物をえることもできる。
水素150 f (7,5モル)を用い40℃で3時間
同じ反応を行なわせてフェノール6.7P、ビスフェノ
ールALL8fおよUp−イソプロペニルフェノール(
単量体、2F体およびオリゴマー)5.6Fを含む混合
物をえることもできる。
ビスフェノールA22.8f(0,10モル)とぶつ化
水素10(1(5モル)を用い30℃で3時間同じ方法
によってフェノール5.1F、 ビスフェノールA 7
.7 Pおよびp−インプロペニルフェノール(単量体
、2を体およびオリゴマー)&52の混合物をえた。
水素10(1(5モル)を用い30℃で3時間同じ方法
によってフェノール5.1F、 ビスフェノールA 7
.7 Pおよびp−インプロペニルフェノール(単量体
、2を体およびオリゴマー)&52の混合物をえた。
ビスフェノールA22.8F(0,10モル)とふつ化
水素150 f (7,5モル)を用い40℃、17時
間同じ方法を行なわせてフェノール71t1 ビスフェ
ノールA12.5Fおよびp−インプロペニルフェノー
ル(単量体、2量体およびオリゴマー)5.79を含む
混合物をえた。
水素150 f (7,5モル)を用い40℃、17時
間同じ方法を行なわせてフェノール71t1 ビスフェ
ノールA12.5Fおよびp−インプロペニルフェノー
ル(単量体、2量体およびオリゴマー)5.79を含む
混合物をえた。
実施例3
本実施例はふつ化水素と無水酢酸を用いLλ1−トリス
(p−ヒドロキシフェニル)エタン(THPF)の脱ア
リー#反応に!ルl、 1− ヒス(p−ヒドロキシフ
ェニル)エチレン(BHPF )の液相製造を例証する
ものである。
(p−ヒドロキシフェニル)エタン(THPF)の脱ア
リー#反応に!ルl、 1− ヒス(p−ヒドロキシフ
ェニル)エチレン(BHPF )の液相製造を例証する
ものである。
THPF30.6F(0,1モル)、無水酢酸4Fs、
9t(0,45モル)およびぶつ化水素1oof(5モ
ル)を使用し実施例1の方法を反復した。70℃で約2
時間反応させて4−ヒドロキシアセトフェノン(4−H
AP)、2−ヒドロキシアセトフェノン(2−HAP
)、ビスヒドロキシフェニルエチレン(BHPE)、4
−ヒドロキシ、4′−アセトキシフェニルエチレンおよ
び44′−ビスアセトキシフェニルエチレンの混合物を
回収した。生成混合物中にはフェノールもTHPEも検
出されなかった。
9t(0,45モル)およびぶつ化水素1oof(5モ
ル)を使用し実施例1の方法を反復した。70℃で約2
時間反応させて4−ヒドロキシアセトフェノン(4−H
AP)、2−ヒドロキシアセトフェノン(2−HAP
)、ビスヒドロキシフェニルエチレン(BHPE)、4
−ヒドロキシ、4′−アセトキシフェニルエチレンおよ
び44′−ビスアセトキシフェニルエチレンの混合物を
回収した。生成混合物中にはフェノールもTHPEも検
出されなかった。
実施例3の反応体の同量を30℃、90分反応させても
同じ生成物をえた。
同じ生成物をえた。
実施例4
本実施例は触媒としてふつ化水素を使用するビスフェノ
ールAジアセテートの脱アリール反応によるp−イソプ
ロペニルフェニルアセテートの液相製造法を例証するも
のである。
ールAジアセテートの脱アリール反応によるp−イソプ
ロペニルフェニルアセテートの液相製造法を例証するも
のである。
ビスフェノールAジアセテート772F(2,5モル)
とふつ化水素3200f(80モル)を用い実施例1の
方法を行なった。40℃で4時間反応させた後、4−ヒ
ドロキシアセトフェノン(4−HAP)、2−ヒドロキ
シアセトフェノン(2−HAP )、I) −’fソプ
ロベニルフェニルアセテート、p−インプロペニルフェ
ノール18体、2量体およびオリゴマー)を含む混合物
をえた。生成混合物中に少11(1%)のフェノールが
検出されたがビスフェノールは検出されなかった。
とふつ化水素3200f(80モル)を用い実施例1の
方法を行なった。40℃で4時間反応させた後、4−ヒ
ドロキシアセトフェノン(4−HAP)、2−ヒドロキ
シアセトフェノン(2−HAP )、I) −’fソプ
ロベニルフェニルアセテート、p−インプロペニルフェ
ノール18体、2量体およびオリゴマー)を含む混合物
をえた。生成混合物中に少11(1%)のフェノールが
検出されたがビスフェノールは検出されなかった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、アルキレンビスフェノール又はアルキレントリスフ
ェノールを液相条件のもとで脱アリール反応させるに十
分の時間ふつ化水素と接触させてフェノールおよびアル
キル−および(又は)アルケニル−置換フェノールを生
成させることを特徴とするアルキレンビスフェノール又
はアルキルトリスフェノールの脱アリール方法。 2、出発化合物が式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (上式中Rは水素又は炭素原子1乃至9をもつアルキル
基をあらわしかつR′は水素、炭素原子1乃至9をもつ
アルキル基、シクロアルキル、アリール又はその官能性
誘導体をあらわす)で示される特許請求の範囲第1項に
記載の方法。 3、温度が0゜乃至120℃でありかつ圧力が2.5乃
至500psigである特許請求の範囲第2項に記載の
方法。 4、上記接触を8時間以内の時間行なわせる特許請求の
範囲第3項に記載の方法。 5、出発化合物がビス(4−ヒドロキシフェニル)アル
カンである特許請求の範囲第2項、3項又は4項に記載
の方法。 6、出発化合物がトリス(4−ヒドロキシフェニル)ア
ルカンである特許請求の範囲第2項、3項又は4項に記
載の方法。 7、出発化合物が2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンである特許請求の範囲第5項に記載の方法
。 8、出発化合物が1,1,1−トリス(4−ヒドロキシ
フェニル)エタンである特許請求の範囲第6項に記載の
方法。 9、1価の有機保護基又は末端ブロック基の存在で脱ア
リール反応を行なわせる特許請求の範囲第7項又は8項
に記載の方法。 10、アルキレンビスフェノールが式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (上式中R′は水素、アルキル、シクロアルキル又はエ
ステル化されたアリール基をあらわし、Rは水素又は炭
素原子1乃至9をもつアルキル基をあらわし、かつR″
はアルキル、シクロアルキル、アリール基又はその官能
性誘導体をあらわす)で示される特許請求の範囲第1項
に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| US12419 | 1987-02-09 | ||
| US07/012,419 US4754081A (en) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | Process for dearylation of alkylenebisphenols and alkyltrisphenols |
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|---|---|
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ID=21754881
Family Applications (1)
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| JP63026744A Pending JPS63201140A (ja) | 1987-02-09 | 1988-02-09 | アルキレンビスフエノールおよびアルキルトリスフエノールの脱アリール方法 |
Country Status (7)
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