JPS6320228B2 - - Google Patents

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JPS6320228B2
JPS6320228B2 JP9883279A JP9883279A JPS6320228B2 JP S6320228 B2 JPS6320228 B2 JP S6320228B2 JP 9883279 A JP9883279 A JP 9883279A JP 9883279 A JP9883279 A JP 9883279A JP S6320228 B2 JPS6320228 B2 JP S6320228B2
Authority
JP
Japan
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group
general formula
tetrahydroisoquinoline
compound according
lower alkyl
Prior art date
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Expired
Application number
JP9883279A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5622769A (en
Inventor
Naoto Yoneda
Joji Kato
Keizo Kinashi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tanabe Pharma Corp
Original Assignee
Tanabe Seiyaku Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tanabe Seiyaku Co Ltd filed Critical Tanabe Seiyaku Co Ltd
Priority to JP9883279A priority Critical patent/JPS5622769A/ja
Priority to US06/138,933 priority patent/US4294832A/en
Priority to DE8080102066T priority patent/DE3060129D1/de
Priority to EP80102066A priority patent/EP0018549B1/en
Publication of JPS5622769A publication Critical patent/JPS5622769A/ja
Publication of JPS6320228B2 publication Critical patent/JPS6320228B2/ja
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  • Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式 (但し、R1は低級アルキル基、低級シクロア
ルキル基、低級アルケニル基または低級アルキニ
ル基、R2は低級アルキル基、R3は低級アルキル
基またはフエニル基置換低級アルキル基を表わ
す) で示されるテトラヒドロイソキノリン誘導体およ
びその製法に関する。 本発明の化合物〔〕は新規化合物であり、す
ぐれた血圧降下作用を有する有用な医薬化合物で
ある。 本発明化合物は上記一般式〔〕で示される化
合物であつて、例えば記号R1で示される基がメ
チル基、エチル基、n・プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、シクロプロピル
基、シクロブチル基、シクロペンチル基、アリル
基またはプロパルギル基などであり、記号R2で
示される基がメチル基、エチル基、n・プロピル
基、イソプロピル基、n・ブチル基、t・ブチル
基またはペンチル基などであり、記号R3で示さ
れる基がメチル、エチル基、n・プロピル基、イ
ソプロピル基、t・ブチル基、ペンチル基または
ベンジル基等である化合物をあげることができ
る。また、好ましい化合物としては例えば記号
R1で示される基がエチル基、イソプロピル基ま
たはプロパルギル基などであり、記号R2で示さ
れる基がメチル基、エチル基またはn・ブチル基
などであり、記号R3で示される基がメチル基ま
たはエチル基などである化合物があり、さらに、
より好ましい化合物としては例えば2―〔N―エ
チル―N―(2―メトキシカルボニルエチル)カ
ルバモイル〕―1,2,3,4―テトラヒドロイ
ソキノリン―3―L―カルボン酸メチルエステ
ル、2―〔N―エチル―N―(2―エトキシカル
ボニルエチル)カルバモイル〕―1,2,3,4
―テトラヒドロイソキノリン―3―L―カルボン
酸エチルエステル、2―〔N―イソプロピル―N
―(2―メトキシカルボニルエチル)カルバモイ
ル)―1,2,3,4―テトラヒドロイソキノリ
ン―3―L―カルボン酸メチルエステル、2―
〔N―プロパルギル―N―(2―エトキシカルボ
ニルエチル)カルバモイル〕―1,2,3,4―
テトラヒドロイソキノリン―3―L―カルボン酸
エチルエステル、2―〔N―イソプロピル―N―
(2―n・ブトキシカルボニルエチル)カルバモ
イル〕―1,2,3,4―テトラヒドロイソキノ
リン―3―L―カルボン酸エチルエステル等をあ
げることができる。 本発明化合物〔〕は、分子内に1ケの不斉炭
素原子を有し、従つて2種の光学活性体が存在す
るが、本発明はそのいずれの化合物をも含むもの
である。とりわけ、イソキノリン環3位の不斉炭
素原子の絶対配位がL型である化合物が医薬とし
て好ましい。 本発明化合物〔〕は下記反応式で示される方
法により製することができる。 (但し、R1,R2およびR3は前記と同一意味を
有する) 即ち、A法によれば、まず1,2,3,4―テ
トラヒドロイソキノリン―3―カルボン酸エステ
ル〔〕とホスゲンとを反応させて2―クロロカ
ルボニル―1,2,3,4―テトラヒドロイソキ
ノリン―3―カルボン酸エステル〔〕を得、つ
いでこの化合物〔〕に3―アミノプロピオン酸
誘導体〔〕を縮合反応させることにより目的化
合物〔〕を製することができる。また、B法に
よれば3―アミノプロピオン酸誘導体〔〕とホ
スゲンとを反応させてN―クロロカルボニル―3
―アミノプロピオン酸誘導体〔〕を得、ついで
この化合物〔〕に1,2,3,4―テトラヒド
ロイソキノリン―3―カルボン酸エステル〔〕
を縮合反応させることにより目的化合物〔〕を
製することができる。 以下、詳しく説明する。 上記A法もしくはB法の第一工程、即ち化合物
〔〕もしくは〔〕とホスゲンとの反応は、適
当な溶媒中で化合物〔〕もしくは〔〕とホス
ゲンとを脱酸剤の存在下もしくは非存在下に反応
させることにより実施することができる。化合物
〔〕および〔〕において、記号R3,R1および
R2で示される基としては、たとえば前記した如
きものをあげることができる。脱酸剤としては例
えばトリエチルアミン、トリプロピルアミン、N
―メチルモルホリン、ピリジン等の有機3級塩基
が好ましい。溶媒の例としては、たとえば塩化メ
チレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン等をあげることができる。反応は例えば
適当な溶媒にホスゲンを溶解し、この溶液へ化合
物〔〕もしくは〔〕と脱酸剤とを溶解した前
記溶媒溶液を−20℃以下で滴下することによりス
ムースに進行する。反応後、過剰のホスゲンを減
圧下に除去することにより収率よく化合物〔〕
もしくは〔〕を得ることができる。なお、化合
物〔〕および〔〕はいずれも単離することな
く直ちに次工程に使用するのが好ましい。 つづく化合物〔〕と〔〕との縮合反応ある
いは化合物〔〕と〔〕との縮合反応は、適当
な溶媒中脱酸剤の存在下もしくは非存在下に実施
することができる。脱酸剤としては、前記第一工
程で例示したものを好適に使用することができ、
また、反応溶媒としては、前記第一工程で例示し
たもののほか、ジメチルホルムアミド等をあげる
ことができる。反応は一般に約0〜80℃の条件下
で実施することができる。例えば当該反応は室温
下(約25℃)にてもスムースに進行するが、微か
に加温(35〜40℃)することにより、さらに反応
を促進せしめることができ、収率よく目的化合物
〔〕を製することができる。 本発明化合物〔〕の光学活性体を得るには、
たとえば原料化合物〔〕に光学活性体を使用す
ることにより光学活性な目的化合物〔〕を製す
ることができる。 本発明の化合物〔〕は、医薬として使用する
場合には経口もしくは非経口的に投与することが
できる。経口的に投与する場合には、例えば錠
剤、散剤、カプセル、顆粒剤等とすることがで
き、また、非経口的に投与する場合には例えば注
射用製剤、坐剤等として使用することができる。
いずれの場合にも製剤上常用されるデンプン、ラ
クトース等の担体、リン酸ジカルシウム等の賦形
剤、コンスターチ、アラビアゴム等の結合剤、ス
テアリン酸等の滑沢剤などを使用することができ
る。 尚、原料化合物〔〕は、例えばフエニルアラ
ニンとホルムアルデヒドとをピクテ・スペングラ
ー反応に付して縮合させて、1,2,3,4―テ
トラヒドロイソキノリン―3―カルボン酸とし
〔ジヤーナル・オブ・ゼ・アメリカン・ケミカ
ル・ササイエテイ;70巻、180頁(1948)等〕、次
いで常法によりエステル化することにより製する
ことができる〔薬学雑誌、94巻、934頁(1974)
参照〕。また、他方の原料化合物〔〕は、それ
ぞれ対応するアクリル酸エステルと第1級アミン
とをマイケル付加反応に付することにより製する
ことができる〔アール・ビー・ワグナー等;シン
テテイツク、オルガニツク・ケミストリー、673
頁(1961)等〕。 実施例 1 原料化合物〔〕の製造例 (1) 1,2,3,4―テトラヒドロイソキノリン
―3―L―カルボン酸・塩酸塩10.7g、ベンジ
ルアルコール27g、p・トルエンスルホン酸・
1水和物11,5gおよびトルエン150mlの混液
を、脱水装置をつけて6時間加熱還流する。溶
媒を留去し、残査にエーテルを加えて析出する
結晶をろ取することにより、1,2,3,4―
テトラヒドロイソキノリン―3―L―カルボン
酸ベンジルエステル・p・トルエンスルホン酸
塩を20.0g得る。収率91% 本品は、50%含水メタノールより再結晶する
ことにより、無色針状晶にして、mp.146〜148
℃を示す。 IRνNujol nax(cm-1):1740 〔α〕27 D−55.3゜(C=1、メタノール) 本品に重そう水を加え、クロロホルムで抽出
し、抽出層を水洗乾燥後溶媒を留去することに
より、1,2,3,4―テトラヒドロイソキノ
リン―3―L―カルボン酸ベンジルエステルを
無色粘稠油として得る。 (2) 1,2,3,4―テトラヒドロイソキノリン
―3―L―カルボン酸・塩酸塩10.7gのジオキ
サン120mlけん濁液に、濃硫酸12mlを注加し、
約−20℃に冷却する。この混液に液化イソブテ
ン120mlを加え、耐圧容器中1夜室温で放置す
る。反応混合物を氷冷した飽和重そう水に注入
し、酢酸エチルで抽出する。抽出層を水洗乾燥
後溶媒を留去することにより、1,2,3,4
―テトラヒドロイソキノリン―3―L―カルボ
ン酸t・ブチルエステルを無色粘稠油として
7.9g得る。収率67.6% IRνfilm nax(cm-1):1730 実施例 2 原料化合物〔〕の製造例 (1) イソプロピルアミン15.6gに、氷水冷却かく
はん下アクリル酸n・ブチルエステル27.8gを
徐々に滴下する。滴下後、室温で約5時間かく
はんして反応を終る。反応液を蒸留することに
より、3―イソプロピルアミノプロピオン酸
n・ブチルエステルを無色油として33g得る。
収率80% bp.126〜127℃/33mmHg IRνfilm nax(cm-1):3220、1740 (2) プロパルギルアミン6gのテトラヒドロフラ
ン50ml溶液に、室温かくはん下アクリル酸エチ
ルエステル10.0gを滴下し、同温度にてさらに
6時間かくはんする。溶媒を留去し、残査を蒸
留することにより、3―プロパルギルアミノプ
ロピオン酸エチルエステルを無色油として10.0
g得る。収率65.2% bp.121℃/35mmHg IRνfilm nax(cm-1):3300、1735 (1)もしくは(2)と同様にして以下の化合物を製す
ることができる。 (3) 3―イソプロピルアミノプロピオン酸メチル
エステル 無色油、bp.81〜82℃/29mmHg (4) 3―シクロプロピルアミノプロピオン酸メチ
ルエステル 無色油、IRνfilm nax(cm-1):3320、1740 (5) 3―アリルアミンプロピオン酸メチルエステ
ル 無色油、IRνfilm nax(cm-1):3330、1743 (6) 3―プロパルギルアミノプロピオン酸メチル
エステル 無色油、IRνfilm nax(cm-1):3290、1735 実施例 3 ホスゲン3.0gを含む塩化メチレン20ml溶液に、
−30〜−20℃に冷却かくはん下1,2,3,4―
テトラヒドロイソキノリン―3―L―カルボン酸
メチルエステル3.8gおよびトリエチルアミン3.0
gの塩化メチレン20ml溶液を徐々に滴下する。滴
下後、同温度で更に30分かくはんし、ついで反応
液を減圧下に濃縮乾固する。残査の2―クロロカ
ルボニル―1,2,3,4―テトラヒドロイソキ
ノリン―3―L―カルボン酸メチルエステルを塩
化メチレン20mlに溶解し、室温かくはん下、この
溶液に3―エチルアミノプロピオン酸メチルエス
テル(bp.85〜86℃/39mmHg)2.6gおよびトリ
エチルアミン2.4gの塩化メチレン10ml溶液を滴
下する。同温度でさらに15時間かくはんして反応
を終る。反応液を減圧下に濃縮乾固し、残査を酢
酸エチルに溶解し、希塩酸、重そう水、水の順に
洗浄し、乾燥する。溶媒を留去し、残査のアメ状
物質をシリカゲルカラムクロマトグラフイー(溶
媒;トルエン:酢酸エチル=3:1)で精製する
ことにより、2―〔N―エチル―N―(2―メト
キシカルボニルエチル)カルバモイル〕―1,
2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―3―L
―カルボン酸メチルエステルを無色結晶として
5.0g得る。収率71.8% 本品は酢酸エチル・n・ヘキサン混液より再結
晶することにより、無色プリズム晶にして、
mp.53〜55℃を示す。 IRνNujol nax(cm-1):1738、1725、1635 NMR(CDCl3)δ:7.0〜7.2(m,4H,芳香族
水素)、4.80(t,1H,CH―N)、4.52
(s,2H,Ar―CH 2―N)、3.66(s,
3H,O―CH3 )、3.64(s,3H,O―C
H3)、3.19(d,2H,Ar―CH2 ―CH)、
3.1〜3.5(m,4H,N―CH2 ―CH3および
N―CH2 ―CH2)、2.57(t,2H,CH2 ―
CO)、1.20(t,3H,N―CH2―CH3 ) Mass m/e:348(M+) 〔α〕20 D−1.2゜(C=1、メタノール) 実施例 4〜23 実施例3と同様にして、それぞれ対応するテト
ラヒドロイソキノリン誘導体および3―アミノプ
ロピオン酸誘導体より下記化合物を製することが
できる。 尚、各生成物のNMRデータについては、その
特徴的なもののみを記載する。 (4) 2―〔N―エチル―N―(2―エトキシカル
ボニルエチル)カルバモイル〕―1,2,3,
4―テトラヒドロイソキノリン―3―L―カル
ボン酸エチルエステル、無色粘稠油、収率74.4
% IRνfilm nax(cm-1):1740、1640 NMR(CDCl3)δ:4.09(q,2H×2,O―
CH 2―CH3)、3.48(q,2H,N―CH2
―CH3)、1.21(t,3H×2,O―CH2
―CH3 )、1.18(t,3H,N―CH2―C
H3) Mass m/e:376(M+) 〔α〕26 D―0.2゜(C=2、メタノール) (5) 2―〔N―イソプロピル―N―(2―メトキ
シカルボニルエチル)カルバモイル〕―1,
2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―3―
L―カルボン酸メチルエステル、収率70.8%、
無色プリズム晶(酢酸エチル・n・ヘキサン混
液より再結晶)、mp.78〜79℃ IRνNujol nax(cm-1):1735、1640 NMR(CDCl3)δ:3.5〜4.1(m,1H,CH
(CH3)2)、3.66(s,3H,O―CH3 )、
3.59(s,3H,O―CH 3)、1.26(d,
3H,CH―CH3 )、1.16(d,3H,
CH―CH 3) Mass m/e:362(M+) 〔α〕20 D−0.35゜(C=1、メタノール) (6) 2―〔N―イソプロピル―N―(2―エトキ
シカルボニルエチル)カルバモイル〕―1,
2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―3―
L―カルボン酸ベンジルエステル、無色粘稠
油、収率77.3% IRνfilm nax(cm-1):1730、1640 NMR(CDCl3)δ:6.9〜7.5(m,9H,芳香
族水素)、5.12(s,2H,CH 2C6H5)、
4.07(q,2H,OCH 2CH3)、3.4〜4.1
(m,1H,CH(CH3)2)、1.24(d,
3H,CH―CH 3)、1.17(t,3H,
CH2―CH 3)、1.10(d,3H,CH―
CH 3) Mass m/e:452(M+) 〔α〕27 D−4.3゜(C=2、メタノール) (7) 2―〔N―プロパルギル―N―(2―エトキ
シカルボニルエチル)カルバモイル〕―1,
2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―3―
L―カルボン酸エチルエステル、無色粘稠油、
収率72.5% IRνfilm nax(cm-1):3300、1740、1650 NMR(CDCl3)δ:3.8〜4.3(m,2H,N―
CH 2―C≡C)、4.14(q,2H×2,O
―CH 2―CH3)、2.3〜2.4(m,1H,―
C≡CH)、1.20(t,3H,CH2―CH
3)、1.25(t,3H,CH2―CH 3) Mass m/e:386(M+) 〔α〕26 D+1.7゜(C=2、メタノール) (8) 2―〔N―メチル―N―(2―メトキシカル
ボニルエチル)カルバモイル〕―1,2,3,
4―テトラヒドロイソキノリン―3―L―カル
ボン酸メチルエステル、無色粘稠油、収率57.2
% IRνfilm nax(cm-1):1740、1640 NMR(CDCl3)δ:3.63(s,3H×2,O―
CH 3)、2.93(s,3H,N―CH 3) Mass m/e:334 (9) 2―〔N―メチル―N―(2―エトキシカル
ボニルエチル)カルバモイル〕―1,2,3,
4―テトラヒドロイソキノリン―3―L―カル
ボン酸エチルエステル、無色粘稠油、収率73.1
% IRνfilm nax(cm-1):1735、1640 NMR(CDCl3)δ:4.10(q,2H×2,O―
CH 2―CH3)、2.95(s,3H,N―CH
3)、1.21(t,3H,O―CH2―CH 3)、
1.18(t,3H,O―CH2―CH 3) Mass m/e:362(M+) 〔α〕26 D+4.5゜(C=2、メタノール) (10) 2―〔N―メチル―N―(2―エトキシカル
ボニルエチル)カルバモイル〕―1,2,3,
4―テトラヒドロイソキノリン―3―L―カル
ボン酸ベンジルエステル、無色粘稠油、収率
81.2% IRνfilm nax(cm-1):1735、1640 NMR(CDCl3)δ:6.9〜7.4(m,9H,芳香
族水素)、5.09(s,2H,CH 2C6H5)、
4.08(q,2H,O―CH 2―CH3)、2.91
(s,3H,N―CH 3)、1.21(t,3H,
O―CH2―CH 3) Mass m/e:424(M+) 〔α〕26 D−1.3゜(C=2、メタノール) (11) 2―〔N―エチル―N―(2―メトキシカル
ボニルエチル)カルバモイル〕―1,2,3,
4―テトラヒドロイソキノリン―3―L―カル
ボン酸t・ブチルエステル、無色粘稠油、収率
66.6% IRνfilm nax(cm-1):1740、1645 NMR(CDCl3)δ:3.62(s,3H,O―CH
3)、3.05〜3.7(m,4H,【式】)、 1.32(s,3H×3,C(CH3)3)、1.20(t,3H,
N―CH2―CH 3) Mass m/e:390(M+) (12) 2―〔N―エチル―N―(2―エトキシカル
ボニルエチル)カルバモイル〕―1,2,3,
4―テトラヒドロイソキノリン―3―L―カル
ボン酸ベンジルエステル、無色粘稠油、収率
70.6% IRνfilm nax(cm-1):1735、1640 NMR(CDCl3)δ:6.9〜7.4(m,9H,芳香
族水素)、5.10(s,2H,CH 2C6H5)、4.08(q,
2H,O―CH 2―CH3)、3.0〜3.8(m,6H,ArC
H2―Cおよび【式】)、1.21(t, 3H,OCH2CH 3)、1.17(t,3H,NCH2CH 3) 〔α〕26 D−3.0°(C=2、メタノール) (13) 2―〔N―エチル―N―(2―n・ブトキ
シカルボニルエチル)カルバモイル〕―1,
2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―3―
L―カルボン酸ベンジルエステル、無色粘稠
油、収率72.9% IRνfilm nax(cm-1):1730、1640 NMR(CDCl3)δ:6.9〜7.5(m,9H,芳香
族水素)、5.14(s,8H,CH 2C6H5)、4.06(t,
2H,O―CH 2―CH2)、3.0〜3.8(m,6H,ArC
H2―Cおよび【式】)、1.0〜1.8 (m,4H,O―CH2―CH 2―CH 2―CH3)、1.17
(t,3H,N―CH2―CH 3)、0.89(t,3H,C
―CH2―CH 3) Mass m/s:466 〔α〕26 D−2.6゜(C=2、メタノール) (14) 2―N―n・プロピル―N―(2―メトキ
シカルボニルエチル)カルバモイル〕―1,
2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―3―
L―カルボン酸メチルエステル、無色粘稠油、
収率71.7% IRνfilm nax(cm-1):1740、1640 NMR(CDCl3)δ:3.68(s,3H,O―CH
3)、3.65(s,3H,O―CH 3)、3.2〜3.6(m,
4H,【式】)、1.3〜2.0(m,2H, CH2―CH 2―CH3)、0.9(t,3H,CH2―CH 3) Mass m/e:362(M+) (15) 2―〔N―イソプロピル―N―(2―メト
キシカルボニルエチル)カルバモイル〕―1,
2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―3―
L―カルボン酸ベンジルエステル、無色粘稠
油、収率62.7% IRνfilm nax(cm-1):1740、1640 NMR(CDCl3)δ:7.0〜7.4(m,9H,芳香
族水素)、5.09(s,2H,CH 2C6H5)、
3.5〜4.0(m,1H,CH(CH3)2)、3.57
(s,3H,O―CH 3)、1.20(d,3H,
CH―CH 3)、1.09(d,3H,C―
CH 3) Mass m/e:438 (16) 2―〔N―イソプロピル―N―(2―エト
キシカルボニルエチル)カルバモイル〕―1,
2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―3―
L―カルボン酸エチルエステル、無色粘稠油、
収率71.7% IRνfilm nax(cm-1):1740、1645 NMR(CDCl3)δ:4.10(q,2H,O―CH 2
―CH3)、4.05(q,2H,O―CH 2―
CH3)、3.9〜4.3(m,1H,CH
(CH3)2)、1.0〜1.5(m,12H,O―CH2
―CH 3)×2,CH(CH 3)2) Mass m/e:390(M+) 〔α〕26 D−4.6゜(C=2、メタノール) (17) 2―〔N―イソプロピル―N―(2―n・
ブトキシカルボニルエチル)カルバモイル〕―
1,2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―
3―L―カルボン酸エチルエステル、無色粘稠
油、収率72.9% IRνfilm nax(cm-1):1740、1640 NMR(CDCl3)δ:4.11(q,2H,O―CH 2
―CH3)、4.00(t,2H,O―CH 2―
CH2)、3.9〜4.2(m,1H,CH
(CH3)2)、1.2〜1.8(m,4H,O―CH2
―CH 2―CH 2―)、1.26(d,3H,
CH―CH 3)、1.18(t,3H,O―CH2
―CH 3)、1.16(d,3H,CH―CH
3)、0.89(t,3H,C―CH2―CH 3) Mass m/e:418(M+) 〔α〕26 D−4.1゜(C=2、メタノール) (18) 2―〔N―イソプロピル―N―(2―イソ
プロポキシカルボニルエチル)カルバモイル〕
―1,2,3,4―テトラヒドロイソキノリン
―3―L―カルボン酸エチルエステル、無色粘
稠油、収率77.9% IRνfilm nax(cm-1):1730、1645 NMR(CDCl3)δ:4.8〜5.2(m,1H,O―
CH(CH3)2)、4.10(q,2H,O―CH
2―CH3)、3.7〜4.15(m,1H,N―CH
(CH3)2)、1.18(d,6H,CH―CH 3
×2)、1.16(d,6H,CH―CH 3×
2)、1.16(t,3H,O―CH2―CH 3) Mass m/e:404(M+) 〔α〕26 D−5.0°(C=2、メタノール) (19) 2―〔N―イソプロピル―N―(2―t・
ブトキシカルボニルエチル)カルバモイル〕―
1,2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―
3―L―カルボン酸メチルエステル、無色粘稠
油、収率64.3% IRνfilm nax(cm-1):1730、1645 NMR(CDCl3)δ:3.6〜4.1(m,1H,CH
(CH3)2)、3.7(s,3H,O―CH 3)、
1.42(s,3H×3、C(CH 3)3)、1.19
(d,3H×2,CH(CH 3)2) Mass m/e:404 (20) 2―〔N―イソプロピル―N―(2―n・
ブトキシカルボニルエチル)カルバモイル〕―
1,2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―
3―L―カルボン酸ベンジルエステル、無色粘
稠油、収率69.7% IRνfilm nax(cm-1):1735、1640 NMR(CDCl3)δ:6.9〜7.4(m,9H,芳香
族水素)、5.09(s,2H,CH 2C6H5)、
3.98(t,2H,O―CH 2―)、3.4〜4.1
(m,1H,CH(CH3)2)、1.1〜1.7(m,
4H,O―CH2―CH 2―CH 2―CH3)、
1.22(d,3H,CH―CH 3)、1.10(d,
3H,CH―CH 3)、0.89(t,3H,
CH2―CH 3) Mass m/e:480(M+) 〔α〕26 D−4.2゜(C=2、メタノール) (21) 2―〔N―シクロプロピル―N―(2―メ
トキシカルボニルエチル)カルバモイル〕―
1,2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―
3―L―カルボン酸メチルエステル、無色粘稠
油、収率75.4% IRνfilm nax(cm-1):1740、1630 NMR(CDCl3)δ:3.3〜3.9(m,3H,
【式】およびN―CH 2)、3.67(s,3H,O― CH 3)、3.63(s,3H,O―CH 3)、0.5〜1.1(m,
4H,【式】) Mass m/e:360(M+) (22) 2―〔N―アリル―N―(2―メトキシカ
ルボニルエチル)カルバモイル〕―1,2,
3,4―テトラヒドロイソキノリン―3―L―
カルボン酸メチルエステル、無色粘稠油、収率
76.8% IRνfilm nax(cm-1):1740、1640 NMR(CDCl3)δ:5.5〜6.0(m,1H,CH2
=CH―)、5.0〜5.45(m,2H,CH 2=
CH―)、3.7〜3.95(m,2H,N―CH 2
―CH=)、3.66(s,3H,O―CH 3)、
3.63(s,3H,O―CH 3)、 Mass m/e:360 (23) 2―〔N―プロパルギル―N―(2―メト
キシカルボニルエチル)カルバモイル〕―1,
2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―3―
L―カルボン酸メチルエステル、無色粘稠油、
収率68.8% IRνfilm nax(cm-1):3280、1740、1645 NMR(CDCl3)δ:4.01(d,2H,CH 2―C
≡C)、3.69(s,3H×2,O―CH 3)、
2.33(t,1H,C≡CH) 実施例 24 ホスゲン3.0gの塩化メチレン20ml溶液を−30
〜−20℃に冷却し、かくはん下にこの溶液へ3―
エチルアミノプロピオン酸メチルエステル2.6g
およびトリエチルアミン3.0gの塩化メチレン20
ml溶液を徐々に滴下する。同温度でさらに30分か
くはん後、反応液を減圧下に濃縮乾固する。残査
のN―クロロカルボニル―3―エチルアミノプロ
ピオン酸メチルエステルに塩化メチレン20mlを加
え、得られる溶液に室温かくはん下、1,2,
3,4―テトラヒドロイソキノリン―3―L―カ
ルボン酸メチルエステル3.8gおよびトリエチル
アミン2.4gのの塩化メチレン10ml溶液を滴下す
る。同温度でさらに15時間かくはんして反応を終
る。以下、実施例3と同様に処理することによ
り、2―〔N―エチル―N―(2―メトキシカル
ボニルエチル)カルバモイル〕―1,2,3,4
―テトラヒドロイソキノリン―3―L―カルボン
酸メチルエステル4.8gを得る。収率68.9% 本品の物理化学的性状は実施例3で製した標品
のそれらと一致した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 (但し、R1は低級アルキル基、低級シクロア
    ルキル基、低級アルケニル基または低級アルキニ
    ル基、R2は低級アルキル基、R3は低級アルキル
    基またはフエニル基置換低級アルキル基を表わ
    す) で示されるテトラヒドロイソキノリン誘導体。 2 一般式〔〕において、R1が低級アルキル
    基である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3 一般式〔〕において、R1が低級シクロア
    ルキル基である特許請求の範囲第1項記載の化合
    物。 4 一般式〔〕において、R1が低級アルケニ
    ル基である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 5 一般式〔〕において、R1が低級アルキニ
    ル基である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 6 一般式〔〕において、R3が低級アルキル
    基である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 7 一般式〔〕において、R3がフエニル基置
    換低級アルキニル基である特許請求の範囲第1項
    記載の化合物。 8 一般式〔〕において、イソキノリン環3位
    の不斉炭素原子の絶対配位がL型またはD型であ
    る特許請求の範囲第1項、第2項、第3項、第4
    項、第5項、第6項または第7項記載の化合物。 9 一般式〔〕において、イソキノリン環3位
    の不斉炭素原子の絶対配位がL型である特許請求
    の範囲第1項、第2項、第3項、第4項、第5
    項、第6項、第7項または第8項記載の化合物。 10 一般式〔〕において、R1がメチル基、
    エチル基、n・プロピル基、イソプロピル基、シ
    クロプロピル基、アリル基またはプロパルギル基
    であり、R2がメチル基、エチル基、イソプロピ
    ル基、n・ブチル基またはt・ブチル基であり、
    R3がメチル基、エチル基、t・ブチル基または
    ベンジル基である特許請求の範囲第1項、第2
    項、第3項、第4項、第5項、第6項、第7項、
    第8項または第9項記載の化合物。 11 一般式〔〕において、R1がエチル基、
    イソプロピル基またはプロパルギル基であり、
    R2がメチル基、エチル基またはn・ブチル基で
    あり、R3がメチル基またはエチル基である特許
    請求の範囲第10項記載の化合物。 12 2―〔N―エチル―N―(2―メトキシカ
    ルボニルエチル)カルバモイル〕―1,2,3,
    4―テトラヒドロイソキノリン―3―L―カルボ
    ン酸メチルエステルである特許請求の範囲第11
    項記載の化合物。 13 2―〔N―エチル―N―(2―エトキシカ
    ルボニルエチル)カルバモイル〕―1,2,3,
    4―テトラヒドロイソキノリン―3―L―カルボ
    ン酸エチルエステルである特許請求の範囲第11
    項記載の化合物。 14 2―〔N―イソプロピル―N―(2―メト
    キシカルボニルエチル)カルバモイル〕―1,
    2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―3―L
    ―カルボン酸メチルエステルである特許請求の範
    囲第11項記載の化合物。 15 2―〔N―プロパルギル―N―(2―エト
    キシカルボニルエチル)カルバモイル〕―1,
    2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―3―L
    ―カルボン酸エチルエステルである特許請求の範
    囲第11項記載の化合物。 16 2―〔N―イソプロピル―N―(2―n・
    ブトキシカルボニルエチル)カルバモイル〕―
    1,2,3,4―テトラヒドロイソキノリン―3
    ―L―カルボン酸エチルエステルである特許請求
    の範囲第11項記載の化合物。 17 一般式 (但し、R3は抵級アルキル基またはフエニル
    基置換低級アルキル基を表わす。) で示されるテトラヒドロイソキノリン誘導体とホ
    スゲンとを反応させて一般式 (但し、R3は前記と同一意味を有する) で示されるテトラヒドロイソキノリン誘導体を
    得、ついでこの化合物と一般式 R1―NH―CH2CH2COOR2 (但し、R1は低級アルキル基、低級シクロア
    ルキル基、低級アルケニル基または低級アルキニ
    ル基、R2は低級アルキル基を表わす) で示される3―アミノプロピオン酸誘導体とを反
    応させることを特徴とする一般式 (但し、R1,R2およびR3は前記と同一意味を
    有する) で示されるテトラヒドロイソキノリン誘導体の製
    法。 18 一般式 R1―NH―CH2CH2COOR2 (但し、R1は低級アルキル基、低級シクロア
    ルキル基、低級アルケニル基または低級アルキニ
    ル基、R2は低級アルキル基を表わす) で示される3―アミノプロピオン酸誘導体とホス
    ゲンとを反応させて一般式 (但し、R1およびR2は前記と同一意味を有す
    る) で示される3―アミノプロピオン酸誘導体を得、
    ついでこの化合物と一般式 (但し、R3は低級アルキル基またはフエニル
    基置換低級アルキル基を表わす) で示されるテトラヒドロイソキノリン誘導体とを
    反応させることを特徴とする一般式 (但し、R1,R2およびR3は前記と同一意味を
    有する) で示されるテトラヒドロイソキノリン誘導体の製
    法。
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