JPS632052A - 光電写真要素及び光電写真法 - Google Patents
光電写真要素及び光電写真法Info
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- JPS632052A JPS632052A JP62103401A JP10340187A JPS632052A JP S632052 A JPS632052 A JP S632052A JP 62103401 A JP62103401 A JP 62103401A JP 10340187 A JP10340187 A JP 10340187A JP S632052 A JPS632052 A JP S632052A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規な光電写真画像形成要素
（ｐｈｏｔｏａｌ＠ｃｔｒｏｇｒａｐｈｉｃ ｉｍｍｇ
ｉｎｇ ｅｌａｍｅｎｔ ）及び画偉形成法に関する。
ｉｎｇ ｅｌａｍｅｎｔ ）及び画偉形成法に関する。
酸フォトジェネレーター（ａｃｉｄ ｐｈｏｔｏｇｅｎ
ｅｒａｔｏｒ）はフォトレジスト画像形成法的としての
用途が公知である。そのような画像形成プロセスにおい
ては、酸フォトジェネレーターは支持体上に塗布され、
そして化学線に像様（画像形成法的に）露光される。酸
フォトジェネレーターを担持した層は次いでエポキシ樹
脂及び工Ｉキシ含有樹脂のような光重合性又は硬化性組
成物と接触させられる。
ｅｒａｔｏｒ）はフォトレジスト画像形成法的としての
用途が公知である。そのような画像形成プロセスにおい
ては、酸フォトジェネレーターは支持体上に塗布され、
そして化学線に像様（画像形成法的に）露光される。酸
フォトジェネレーターを担持した層は次いでエポキシ樹
脂及び工Ｉキシ含有樹脂のような光重合性又は硬化性組
成物と接触させられる。
その露光され次領域において、酸フォト・クエネレータ
ーはプロトンを生成し、そのプロトンは光重合性組成物
の重合又は硬化を触媒する。酸フォトジェネレーターは
１例えば、米国特許筒４．０８１，２７２号、第４，０
５８，４０１号、第４，０２６，７０５号。
ーはプロトンを生成し、そのプロトンは光重合性組成物
の重合又は硬化を触媒する。酸フォトジェネレーターは
１例えば、米国特許筒４．０８１，２７２号、第４，０
５８，４０１号、第４，０２６，７０５号。
第２，８０７，６４８号、第４，０６９，０５５号及び
第４．５２９，４９０号の各明細書に開示されている。
第４．５２９，４９０号の各明細書に開示されている。
電子写真組成物及び画像形成プロセスも公知である。こ
れらのプロセスにおいては、光導電体を含有する層を担
持した電子写真要素は静電帯電され１次いで像様露光さ
れて静電潜像を形成する。
れらのプロセスにおいては、光導電体を含有する層を担
持した電子写真要素は静電帯電され１次いで像様露光さ
れて静電潜像を形成する。
その静電潜像は次にトナー組成物で現像される。
電子写真要素及びプロセスは１例えば、米国特許筒３，
１４１．７７ Ｑ号、米国特許筒３，６１５，４１４号
及びそれらに引用されている総ての特許明細書に開示さ
れている。
１４１．７７ Ｑ号、米国特許筒３，６１５，４１４号
及びそれらに引用されている総ての特許明細書に開示さ
れている。
問題点は、Ｖ＃３での電子写真要素について、像様露光
する前にその要素を静電帯電させることが常に必要であ
ることである。
する前にその要素を静電帯電させることが常に必要であ
ることである。
本発明は、酸フォトジェネレーティング（ｐｈｏｔｏｇ
ｅｎａｒａｔｌｎｇ ）層と電気的に接触している導電
層を含む光電写真要素であって、この酸フォトジェネレ
ーティング層が（ａ）光重合性物質を含まず且つ（ｂ）
［気絶縁性結合剤及び酸フォトジェネレーターを含ん
でいる。光電写真要素を提供する。
ｅｎａｒａｔｌｎｇ ）層と電気的に接触している導電
層を含む光電写真要素であって、この酸フォトジェネレ
ーティング層が（ａ）光重合性物質を含まず且つ（ｂ）
［気絶縁性結合剤及び酸フォトジェネレーターを含ん
でいる。光電写真要素を提供する。
本発明の光電写真要素は任意の順序で像様露光すること
及び静電帯電させることができる。
及び静電帯電させることができる。
本発明はまた１画俊形成用の光電写真法であって、
（ａ） 酸フォトジェネレーティング層と電気的に接
触している導電層を含む光電写真要素であって、この酸
フォトジェネレーティング層が（ｉ）光重合性物質を含
まず且つ（ｉｉ）電気絶縁性結合剤及び酸フォトジェネ
レーターを含んでいる。光電写真要素を提供する工程。
触している導電層を含む光電写真要素であって、この酸
フォトジェネレーティング層が（ｉ）光重合性物質を含
まず且つ（ｉｉ）電気絶縁性結合剤及び酸フォトジェネ
レーターを含んでいる。光電写真要素を提供する工程。
（ｂ） 次の工程（ｉ）及び（ｉｉ）を任意の順序で
同時に又は別々に実施して静電潜像を形成させる工程：
（ｉ）その酸フォトジェネレーティング層を化学線（ａ
ｃｔｉｎｌｃ ｒａｄｉａｔｉｏｎ ）に像様に露光す
る工程。
同時に又は別々に実施して静電潜像を形成させる工程：
（ｉ）その酸フォトジェネレーティング層を化学線（ａ
ｃｔｉｎｌｃ ｒａｄｉａｔｉｏｎ ）に像様に露光す
る工程。
（ｉ１）その酸フォトジェネレーティング層を静電帯電
させる工程、及び （ｃ）その静電潜像を帯電トナー粒子で現像する工程。
させる工程、及び （ｃ）その静電潜像を帯電トナー粒子で現像する工程。
を含むことを特徴とする光電写真法を提供する。
本発明の画像形成法及び要素は１画像を形成させるため
に４電層上に塗布されｔ薄層中に酸フォトジェネレータ
ーを用いる。この画像形成技術又は画像形成法は、酸フ
ォトジェネレーターの露光がその層の露光領域中の静電
荷の暗減衰（ｄａｒｋｄｏ ｅａｙ ）を有意に増加さ
せるという我々の発見を利用している。酸フォトジェネ
レーター層の像様照射は露光領域と非露光領域との間に
示差的暗減衰を引き起こす。
に４電層上に塗布されｔ薄層中に酸フォトジェネレータ
ーを用いる。この画像形成技術又は画像形成法は、酸フ
ォトジェネレーターの露光がその層の露光領域中の静電
荷の暗減衰（ｄａｒｋｄｏ ｅａｙ ）を有意に増加さ
せるという我々の発見を利用している。酸フォトジェネ
レーター層の像様照射は露光領域と非露光領域との間に
示差的暗減衰を引き起こす。
有用な酸フォトジェネレーターは、トリアリールセレノ
ニウム塩及びアリールジアゾニウム塩を包含する芳香族
オニウム塩、及び６−置換−２，４−ビス（トリクロロ
メチル）−５−トリアジンから選ぶことができる。特に
有用な酸フォトジェネレーターはアリールハロニウム塩
及びトリアリールスルホニウム塩である。
ニウム塩及びアリールジアゾニウム塩を包含する芳香族
オニウム塩、及び６−置換−２，４−ビス（トリクロロ
メチル）−５−トリアジンから選ぶことができる。特に
有用な酸フォトジェネレーターはアリールハロニウム塩
及びトリアリールスルホニウム塩である。
酸フォトジェネレーティング層の調製においては、酸フ
ォトジェネレーターを電気絶縁性結合剤の存在下で、適
し次溶剤に溶解させる。次いで、所望ならば、増感剤を
その生成溶液に、導電性支持体上に塗布する前に、溶解
させる。
ォトジェネレーターを電気絶縁性結合剤の存在下で、適
し次溶剤に溶解させる。次いで、所望ならば、増感剤を
その生成溶液に、導電性支持体上に塗布する前に、溶解
させる。
酸フォトジェネレーターの塗布組成物を調製するのに選
択される溶剤としては、ベンゼン及びトルエンのような
芳香族炭化水素：アセトン；２−ブタノン；二塩化エチ
レン、トリクロロエタン及びジクロロメタンのような塩
素化炭化水素；テトラヒドロフランのようなエーテル；
又はこれらの溶剤の混合物がある。
択される溶剤としては、ベンゼン及びトルエンのような
芳香族炭化水素：アセトン；２−ブタノン；二塩化エチ
レン、トリクロロエタン及びジクロロメタンのような塩
素化炭化水素；テトラヒドロフランのようなエーテル；
又はこれらの溶剤の混合物がある。
酸フォトジェネレーティング層は、ドクターブレード塗
布、スワーリング（ｓｗｌｒｌｌｎｇ ）または浸漬被
覆等のような周知の任意の方法で導電性支持体上に塗布
される。
布、スワーリング（ｓｗｌｒｌｌｎｇ ）または浸漬被
覆等のような周知の任意の方法で導電性支持体上に塗布
される。
酸フォトジェネレーティング物質は１層中でのある濃度
においてはその層が照射の前には比較的小さい暗減衰を
もつが、しかしその暗減衰レベルは幅対線露光によりて
増大されるように選択すべきである。塗布組成物の調和
においては、酸フォトジェネレーターが塗布層の少なく
とも約１重量％の量で存在する場合に有用な結果が得ら
れた。
においてはその層が照射の前には比較的小さい暗減衰を
もつが、しかしその暗減衰レベルは幅対線露光によりて
増大されるように選択すべきである。塗布組成物の調和
においては、酸フォトジェネレーターが塗布層の少なく
とも約１重量％の量で存在する場合に有用な結果が得ら
れた。
酸フォトジェネレーターの量の上限は、そのフィルムの
初期暗減衰に対する有害々影響に遭遇しない限りは、臨
界的ではない。塗布され、乾燥され几組成物中の酸フォ
トジェネレーターについての好ましい重量範囲は１０〜
約６０Ｍ量％である。
初期暗減衰に対する有害々影響に遭遇しない限りは、臨
界的ではない。塗布され、乾燥され几組成物中の酸フォ
トジェネレーターについての好ましい重量範囲は１０〜
約６０Ｍ量％である。
酸フォトジェネレーターの塗布厚は広範囲に変化するこ
とができる。普通には、約０．１〜約５０μｍの範囲の
湿潤塗布厚が有用である。これらの範囲外の塗布厚も有
用である。
とができる。普通には、約０．１〜約５０μｍの範囲の
湿潤塗布厚が有用である。これらの範囲外の塗布厚も有
用である。
本発明の光電写真要素は前記した光電写真プロセスに用
いられる。このプロセスにおいては、光電写真要素は、
酸フォトジェネレーター層の表面に均一な帯電を与える
のに役立つコロナ放電の条件下に光電写真要素を置くこ
とによってブランケット静電荷を受は取る。その層を次
いで像様露光する。露光及び帯電は任意の順序で又は同
時に実施することができる。その電荷は露光領域の層に
よって散逸される。帯電工程と画像形成法的露光工程と
の組み合わせで、電子写真プロセスで作られるタイプの
静電潜像が生じる。
いられる。このプロセスにおいては、光電写真要素は、
酸フォトジェネレーター層の表面に均一な帯電を与える
のに役立つコロナ放電の条件下に光電写真要素を置くこ
とによってブランケット静電荷を受は取る。その層を次
いで像様露光する。露光及び帯電は任意の順序で又は同
時に実施することができる。その電荷は露光領域の層に
よって散逸される。帯電工程と画像形成法的露光工程と
の組み合わせで、電子写真プロセスで作られるタイプの
静電潜像が生じる。
次いでその静電潜像を、静電吸引性粒子を含む媒体での
処理によって現像するか又は他のシートに転写しそして
現像する。そのような粒子は電子写真画像の現像に広く
用いられている。その粒子は一般的にはトナーと呼ばれ
ている。トナーはダスト、粉末若しくは樹脂質キャリヤ
ー中の顔料の形態、又はトナー粒子が電気絶縁性液体キ
ャリヤー中に担持されている液体現像剤である。このタ
イプの現像法は広く知られておシ１例えば米国特許第２
，２９６，６９１号及びオーストラリア特許第２１２．
３１５号などの特許明細書中の電子写真特許文献に記載
されている。
処理によって現像するか又は他のシートに転写しそして
現像する。そのような粒子は電子写真画像の現像に広く
用いられている。その粒子は一般的にはトナーと呼ばれ
ている。トナーはダスト、粉末若しくは樹脂質キャリヤ
ー中の顔料の形態、又はトナー粒子が電気絶縁性液体キ
ャリヤー中に担持されている液体現像剤である。このタ
イプの現像法は広く知られておシ１例えば米国特許第２
，２９６，６９１号及びオーストラリア特許第２１２．
３１５号などの特許明細書中の電子写真特許文献に記載
されている。
帯電したトナーは電子写真潜像と同じ符号又は逆の符号
をもっていてもよい。前者の場合には、ネガ画像が現像
される。後者の場合には、ポジ画像が現像される。
をもっていてもよい。前者の場合には、ネガ画像が現像
される。後者の場合には、ポジ画像が現像される。
露光で酸を発生する総ての化合物が有用である。
有用な芳香族オニウム塩である酸フォトジェネレーター
は米国特許第４，０８１，２７６号、第４．５２９，４
９０号、第４，２１６，２８８号、第４，０５８，４０
１号、第４，０６９，０５５号、第３，９８１，８９７
号、及び第２，８０７，６４８号に開示されている。そ
のような芳香族オニウム塩はＶａ族、■ａ族及び■ａ族
の諸元素を含む。露光し比時にプロトンを造るトリアリ
ールセレノニウム塩、アリールジアゾニウム［及ヒトＩ
Ｊアリールスルホニウム塩の能力は” ＵＶ Ｃｕｒｉ
ｎｇ、 ５ｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇ
ｙ’＋Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｍａｒｋｅｔｉｎｇ Ｃ
ｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ。
は米国特許第４，０８１，２７６号、第４．５２９，４
９０号、第４，２１６，２８８号、第４，０５８，４０
１号、第４，０６９，０５５号、第３，９８１，８９７
号、及び第２，８０７，６４８号に開示されている。そ
のような芳香族オニウム塩はＶａ族、■ａ族及び■ａ族
の諸元素を含む。露光し比時にプロトンを造るトリアリ
ールセレノニウム塩、アリールジアゾニウム［及ヒトＩ
Ｊアリールスルホニウム塩の能力は” ＵＶ Ｃｕｒｉ
ｎｇ、 ５ｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇ
ｙ’＋Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｍａｒｋｅｔｉｎｇ Ｃ
ｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ。
Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｄｌｖｌｓｌｏｎ＋ １９７８
に詳細に記載されている。
に詳細に記載されている。
有用なアリールヨードニウム塩の代表的なものは次の通
シである： Ｃ（（−′Ｈ３）３ Ｎｏ ２ Ｎｏ ２ 有用なＶａ族オニウム塩の代表的なものは次の通りであ
る： Ｈ 有用なりＩａ族オニウム塩（スルホニウム塩ヲ含ム）の
代表的なものは次の通如である： 酸フォトジェネレーターを選択できるその他の塩は次の
通シである： １、ベルギー特許第８２８，６７０号及び第８３３．４
７２号に開示されているようなドリアリールセレノニウ
ム塩。下記の塩が代表的である： ２、米国特許第３，２０５，１５７号、第３，７１１．
３９ ｆ号、第３，８１６，２８１号、第３，８１７，
８４０号及び＠３，８２９，３６９号に開示されている
ようなアリールジアゾニウム塩。下記の塩が０表的であ
る： Ｎ（ＣＩ（ａ） ２ ３、英国特許第１，３８８，４９２号に記載されている
ような６−置換−２，４−ビス（トリクロロメチル）−
５−）リアジン。下記の化合物が代表的である： その他の特に有用なフォトジェネレーター群としては、
対陽イオンとして芳香族オニウム酸フォトジェネレータ
ーをもつ、側鎖陰イオン基包含ボリマーがある。有用な
ポリマーの例としては下記のものがある。： Ｃ（ＣＨ３）３ これらのポリマーは、水溶液中で商業的に購入された又
はその他の陰イオンポリマー塩と単独非重合オニウム塩
との間で単にイオンを交換することによって作られる。
シである： Ｃ（（−′Ｈ３）３ Ｎｏ ２ Ｎｏ ２ 有用なＶａ族オニウム塩の代表的なものは次の通りであ
る： Ｈ 有用なりＩａ族オニウム塩（スルホニウム塩ヲ含ム）の
代表的なものは次の通如である： 酸フォトジェネレーターを選択できるその他の塩は次の
通シである： １、ベルギー特許第８２８，６７０号及び第８３３．４
７２号に開示されているようなドリアリールセレノニウ
ム塩。下記の塩が代表的である： ２、米国特許第３，２０５，１５７号、第３，７１１．
３９ ｆ号、第３，８１６，２８１号、第３，８１７，
８４０号及び＠３，８２９，３６９号に開示されている
ようなアリールジアゾニウム塩。下記の塩が０表的であ
る： Ｎ（ＣＩ（ａ） ２ ３、英国特許第１，３８８，４９２号に記載されている
ような６−置換−２，４−ビス（トリクロロメチル）−
５−）リアジン。下記の化合物が代表的である： その他の特に有用なフォトジェネレーター群としては、
対陽イオンとして芳香族オニウム酸フォトジェネレータ
ーをもつ、側鎖陰イオン基包含ボリマーがある。有用な
ポリマーの例としては下記のものがある。： Ｃ（ＣＨ３）３ これらのポリマーは、水溶液中で商業的に購入された又
はその他の陰イオンポリマー塩と単独非重合オニウム塩
との間で単にイオンを交換することによって作られる。
例えば、ポリマースルホネート塩は水中で硫酸水素ジア
リールヨードニウムとで容易に隘イオンを交換する。そ
の反応は新しいジアリールヨードニウムポリマースルホ
ネート塩の沈澱によって完了に至る。
リールヨードニウムとで容易に隘イオンを交換する。そ
の反応は新しいジアリールヨードニウムポリマースルホ
ネート塩の沈澱によって完了に至る。
他の方法としては、イオン交換を陰イオンモノマーで行
い、そしてそのモノマーを所望の任意のコモノマーと共
に慣用の重合技術によって重合させることができる。
い、そしてそのモノマーを所望の任意のコモノマーと共
に慣用の重合技術によって重合させることができる。
特定の調製法をポリオニウム１について下記する。
１ノのビーカー中で、３．２７ ｇ（０，００６９０モ
ル）のＩｊｋ酸水素ジー（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨ
ードニウムを約３００Ｒ１の水中に溶解させた。
ル）のＩｊｋ酸水素ジー（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨ
ードニウムを約３００Ｒ１の水中に溶解させた。
ビーカー中のその攪拌溶液に、約２００１１１の水中に
溶解させた前もって生成されていた１、０９ｇ（０，０
０５７５モル）のポリ（ｐ−スチレンスルホン酸ナトリ
ウム）を滴下した。混合することでポリオニウム１の沈
澱が生成し始めた。添加の完了した後、その沈澱物を濾
過し、ジクロロメタン中に再溶解させ、２回水洗し、そ
して多量のへブタン中に再沈澱させた。そのポリマーを
次いで濾過し、そして１００℃で１０分間乾燥させた。
溶解させた前もって生成されていた１、０９ｇ（０，０
０５７５モル）のポリ（ｐ−スチレンスルホン酸ナトリ
ウム）を滴下した。混合することでポリオニウム１の沈
澱が生成し始めた。添加の完了した後、その沈澱物を濾
過し、ジクロロメタン中に再溶解させ、２回水洗し、そ
して多量のへブタン中に再沈澱させた。そのポリマーを
次いで濾過し、そして１００℃で１０分間乾燥させた。
そのようなポリマーは、画像形成目的のための示差暗減
衰を達成するのに十分な陽イオン酸フォトジェネレータ
ー基を含むべきである。−般的には、そのようなポリマ
ーは１〜１００モル俤の酸ジェネレーティング基を含む
。本発明のポリオニウムを作ることのできるイオンポリ
マーは米国特許第３，０４２，２２１号、第３．５０６
．７０７号、第３．５４７，８９９号、第３，４１１，
９１１号、第３．０６２，６７４号及び第３，２２０，
５４４号に開示されている。
衰を達成するのに十分な陽イオン酸フォトジェネレータ
ー基を含むべきである。−般的には、そのようなポリマ
ーは１〜１００モル俤の酸ジェネレーティング基を含む
。本発明のポリオニウムを作ることのできるイオンポリ
マーは米国特許第３，０４２，２２１号、第３．５０６
．７０７号、第３．５４７，８９９号、第３，４１１，
９１１号、第３．０６２，６７４号及び第３，２２０，
５４４号に開示されている。
酸フォトジェネレーティング層のための有用な電気絶縁
性結合剤としては、ポリカーゲネート。
性結合剤としては、ポリカーゲネート。
ポリエステル、？リオレフィン、フェノール樹脂等があ
る。望ましくは、結合剤は膜形成性である。
る。望ましくは、結合剤は膜形成性である。
そのようなポリマーの混合物も利用することができる。
有用であるためには、そのようなポリマーは６ Ｘ １
０５Ｖ／ｃｎ１を越える電界を支持することができ且つ
電荷の低暗減衰を示すべきである。
０５Ｖ／ｃｎ１を越える電界を支持することができ且つ
電荷の低暗減衰を示すべきである。
有用な結合剤としては、スチレンーブタジエンコホリマ
ー、シリコーン４ＵＬスチレン−アルキド樹脂、大豆−
アルキド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
塩化ビニリデン−アクリロニトリルコポリマー、ポリ酢
酸ビニル、酢酸ビニル−塩化ビニルコポリマー、ポリビ
ニルアセタール（例えば、？リピニルブチラール）、ポ
リアクリルエステル及びポリメタクリルエステル（例え
ば、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸ｎ−ブ
チル、ポリメタクリル酸イソブチル・等）・ｙｌｌＪス
チＬｙン、ニトロ化ポリスチレン、ポリビニルフェノー
ル、ポリメチルスチレン、インブチレンポリマー、ポリ
エステル（例えば、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂
）、ケトン樹脂、ポリアミド、ポリカーゴネート等があ
る。このタイプの樹脂の製法は従来技術で記載されてお
り、例えば、スチレン−アルキド樹脂は米国特許第２．
３６１，０１９号及び第２．２５８．４２３号に記載の
方法に従って調製することができる。本発明の光導電層
に用いるように意図されるタイプの適した樹脂はＶｉｔ
ｅｌＰＥ １０ｆ −Ｘ、 Ｃｙｍａｃ、 Ｐｌｅｃｏ
ｐａｌｅ １００ 、及び５ａｒａｎ Ｆ−２２０のよ
うな商品名で販売されている。
ー、シリコーン４ＵＬスチレン−アルキド樹脂、大豆−
アルキド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
塩化ビニリデン−アクリロニトリルコポリマー、ポリ酢
酸ビニル、酢酸ビニル−塩化ビニルコポリマー、ポリビ
ニルアセタール（例えば、？リピニルブチラール）、ポ
リアクリルエステル及びポリメタクリルエステル（例え
ば、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸ｎ−ブ
チル、ポリメタクリル酸イソブチル・等）・ｙｌｌＪス
チＬｙン、ニトロ化ポリスチレン、ポリビニルフェノー
ル、ポリメチルスチレン、インブチレンポリマー、ポリ
エステル（例えば、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂
）、ケトン樹脂、ポリアミド、ポリカーゴネート等があ
る。このタイプの樹脂の製法は従来技術で記載されてお
り、例えば、スチレン−アルキド樹脂は米国特許第２．
３６１，０１９号及び第２．２５８．４２３号に記載の
方法に従って調製することができる。本発明の光導電層
に用いるように意図されるタイプの適した樹脂はＶｉｔ
ｅｌＰＥ １０ｆ −Ｘ、 Ｃｙｍａｃ、 Ｐｌｅｃｏ
ｐａｌｅ １００ 、及び５ａｒａｎ Ｆ−２２０のよ
うな商品名で販売されている。
用いることができるその他のタイプの結合剤としてはパ
ラフィン、鉱蝋等のような物質がある。
ラフィン、鉱蝋等のような物質がある。
最適の増感を与えるために特定の酸ジェネレーティング
組成物に添加することができる分光又は速度増強増感剤
の量は広く変化する。勿論、最適量は用いる酸フォトジ
ェネレーター及び被覆厚並びに特定の増感剤に従りて変
化する。−般的には、適切な増感剤を酸ジェネレーティ
ング組成物の重量に基づいて約３０１ｉ景％までの濃度
で添加する場合に、かなシの速度利得及び波長調整を得
ることができる。
組成物に添加することができる分光又は速度増強増感剤
の量は広く変化する。勿論、最適量は用いる酸フォトジ
ェネレーター及び被覆厚並びに特定の増感剤に従りて変
化する。−般的には、適切な増感剤を酸ジェネレーティ
ング組成物の重量に基づいて約３０１ｉ景％までの濃度
で添加する場合に、かなシの速度利得及び波長調整を得
ることができる。
ヨードニウム塩−酸フオドジェネレーターは、キサント
ン、インダンジオン、インダノン、チオキサントン、ア
セトフェノン、ベンゾフェノンのよりなケトン、又はそ
の他の芳香族化合物例えばアントラセン、ジェトキシア
ントラセン、ペリレン、フェノチアジン等を用いて増感
することができる。
ン、インダンジオン、インダノン、チオキサントン、ア
セトフェノン、ベンゾフェノンのよりなケトン、又はそ
の他の芳香族化合物例えばアントラセン、ジェトキシア
ントラセン、ペリレン、フェノチアジン等を用いて増感
することができる。
トリアリールスルホニウム塩−酸ノエネレータ−は芳香
族炭化水素、アントラセン、Ｒリレン、ピレン及びフェ
ノチアノンによって増感できる。
族炭化水素、アントラセン、Ｒリレン、ピレン及びフェ
ノチアノンによって増感できる。
有用々導電層としては、電子写真に用いられている総て
の導電層及び導電支持体がある。これらのものとしては
、例えは、！＆、（相対湿度約２０チで）、アルミニウ
ム・紙積層体、金属箔（例えば、アルミニウム箔、亜鉛
箔等）、金属板（アルミニウム板、銅板、亜鉛板、黄銅
板、及び亜鉛めっき板）、再生セルロース及びセルロー
スル導体、ｓる種のポリエステル、特に、薄い導電層（
例えば、沃化第一銅）が表面に塗布されているポリエス
テル、等がある。
の導電層及び導電支持体がある。これらのものとしては
、例えは、！＆、（相対湿度約２０チで）、アルミニウ
ム・紙積層体、金属箔（例えば、アルミニウム箔、亜鉛
箔等）、金属板（アルミニウム板、銅板、亜鉛板、黄銅
板、及び亜鉛めっき板）、再生セルロース及びセルロー
スル導体、ｓる種のポリエステル、特に、薄い導電層（
例えば、沃化第一銅）が表面に塗布されているポリエス
テル、等がある。
以下の諸実施例は、本発明をいかに作シそして使用する
かを更に明らかにする。
かを更に明らかにする。
実施例１
１３．５ｇのポリメタクリル酸メチル、１ｇの９．１０
−ジェトキシアントラセン増感剤及び７０９のジクロロ
メタンから成る一般処方物をロールミルで完全に溶解す
るように混合した。この処方物のアリコー）（７１を、
０．１ｇの供試用酸ジェネレーターと一緒にした。これ
らの各々の溶液を、０．０２５４■ナイフで銅ａ覆ポリ
エステル支持体上に塗布し、炉中で９０℃で約３０分間
乾燥した。その被俊されたフィルムを、高圧Ｈｇランプ
に４０秒間露光するための５０Ｘ５０ｍの試料に切断し
た。濃度ステップタプレッ） （ｄａｎｓｌ ｔｙｓｔ
＠ｐ ｔａｂｌｅｔ ）を通して露光した後、そのフィ
ルムを６０秒間負にコロナ帯電させ、続いて正のトナー
で６０秒間調色した。その結果を第１表に示す。
−ジェトキシアントラセン増感剤及び７０９のジクロロ
メタンから成る一般処方物をロールミルで完全に溶解す
るように混合した。この処方物のアリコー）（７１を、
０．１ｇの供試用酸ジェネレーターと一緒にした。これ
らの各々の溶液を、０．０２５４■ナイフで銅ａ覆ポリ
エステル支持体上に塗布し、炉中で９０℃で約３０分間
乾燥した。その被俊されたフィルムを、高圧Ｈｇランプ
に４０秒間露光するための５０Ｘ５０ｍの試料に切断し
た。濃度ステップタプレッ） （ｄａｎｓｌ ｔｙｓｔ
＠ｐ ｔａｂｌｅｔ ）を通して露光した後、そのフィ
ルムを６０秒間負にコロナ帯電させ、続いて正のトナー
で６０秒間調色した。その結果を第１表に示す。
以下余白
実施例２
酸フォトジェネレーティング層中での分光増感剤の使用
９Ｉのポリメタクリル酸メチル、６Ｉｉの及び７０ｇの
ジクロロメタンを含有する原料溶液を調製した。この原
料溶液のアリコート（８，５Ｉｉ）を０．１ｇの下記の
増感剤Ｃ１）、（２）、（３）及び（４）と混合した。
ジクロロメタンを含有する原料溶液を調製した。この原
料溶液のアリコート（８，５Ｉｉ）を０．１ｇの下記の
増感剤Ｃ１）、（２）、（３）及び（４）と混合した。
９．１０−ジメチルアントラセン
２−クロロチオキサントン
２−（４−（４−ジトリルアミノ）ベンジリデン）−１
，３−インダンジオン ２−（４−（４−ジトリルアミノ）ベンジリデンツー１
−インダノン ペリレン これらの溶液を、０．０５１３Ｅブレードを用いて銅被
覆ポリエステル支持体上に手塗シし、そして９０℃で約
１５分間焼き付けた。各々の被覆物の５０Ｘ５０ｓ＋ｍ
試料を、ステップタプレッ） （０，１５１ｏｇＥ）を
通して２００ワツトの高圧Ｈｇラングで４０秒間露光し
た。その露光した試料を６０秒間コロナ帯電させ、そし
て液体トナー中で６０秒間現像した。その結果を第２表
に示す。
，３−インダンジオン ２−（４−（４−ジトリルアミノ）ベンジリデンツー１
−インダノン ペリレン これらの溶液を、０．０５１３Ｅブレードを用いて銅被
覆ポリエステル支持体上に手塗シし、そして９０℃で約
１５分間焼き付けた。各々の被覆物の５０Ｘ５０ｓ＋ｍ
試料を、ステップタプレッ） （０，１５１ｏｇＥ）を
通して２００ワツトの高圧Ｈｇラングで４０秒間露光し
た。その露光した試料を６０秒間コロナ帯電させ、そし
て液体トナー中で６０秒間現像した。その結果を第２表
に示す。
対照 ０
増感剤（ｉ）６ソリツドステツプ
増感剤（４）５〜６ステツプ
増感剤（３）３〜４ステツプ
増感剤（２）３ステツプ
この実施例は、増感剤の使用が本発明の要素のスペクト
ル性能をいかに改善できるかる示している。
ル性能をいかに改善できるかる示している。
実施例３
濃度の影響
増感剤としての９，１０−ジェトキシアンドラセン（０
，１，９）と共に種々の濃度でジ（４−ｔ−ブチルフェ
ニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート及びポ
リメタクリル酸メチルを用いた一連の処方物を実施例２
と同様にして塗布し、試験し念。その結果を第３表に示
す。
，１，９）と共に種々の濃度でジ（４−ｔ−ブチルフェ
ニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート及びポ
リメタクリル酸メチルを用いた一連の処方物を実施例２
と同様にして塗布し、試験し念。その結果を第３表に示
す。
第３表
ヨードニウム濃度（係） 画像形成結果１
非常に弱々しい画像 ５ ５ステツプ、きれいな画像１０
良好な画像、６ソリツトステツプ２０
良好な画像、６ソリツドステツプ３０
良好な画像、６ソリツトステツプ４０
良好な画像、６ソリツｉテツプ５０
良好な画像、６ソリツＹｘテツプ６０
良好な画像、６ソリッドステップ実施例４ の使用 ７１１のジクロロメタン中に溶解し九〇、６８．９の供
試ポリマー塩及びｏ、ｏｓｙの９，１０−ジェトキシア
ントラセンを含む一般処方物から被膜を作った。各々の
処方物を、０．０２５４ｍコーティングナイフを用いて
鋼被覆／ ＩＪエステル支持体上に塗布し、炉中で９０
℃で３０分間乾燥した。その被覆され次フィルムを実施
例１で記載したようにして２×２の試料に切断して試験
した。その結果を第４表に示す。
非常に弱々しい画像 ５ ５ステツプ、きれいな画像１０
良好な画像、６ソリツトステツプ２０
良好な画像、６ソリツドステツプ３０
良好な画像、６ソリツトステツプ４０
良好な画像、６ソリツｉテツプ５０
良好な画像、６ソリツＹｘテツプ６０
良好な画像、６ソリッドステップ実施例４ の使用 ７１１のジクロロメタン中に溶解し九〇、６８．９の供
試ポリマー塩及びｏ、ｏｓｙの９，１０−ジェトキシア
ントラセンを含む一般処方物から被膜を作った。各々の
処方物を、０．０２５４ｍコーティングナイフを用いて
鋼被覆／ ＩＪエステル支持体上に塗布し、炉中で９０
℃で３０分間乾燥した。その被覆され次フィルムを実施
例１で記載したようにして２×２の試料に切断して試験
した。その結果を第４表に示す。
以下余白
第４表
Ｔ１４スピード コントラスト
ソリッドステップ
Ｃ（ＣＨ３）３
実施例５
テトラヒドロフラン中のヨードニウム塩ポリビニルフェ
ノール（ｉ，３５Ｆ）及び０．１．９の９．１０−ジェ
トキシアントラセンを銅被覆支持体上に塗布し、１００
℃で約１５分間焼き付けた。
ノール（ｉ，３５Ｆ）及び０．１．９の９．１０−ジェ
トキシアントラセンを銅被覆支持体上に塗布し、１００
℃で約１５分間焼き付けた。
試料をＨｇラン７６に４０秒間露光し、６０秒間負に帯
電させ、そして正の液体トナー中で６０秒間現像した。
電させ、そして正の液体トナー中で６０秒間現像した。
この層のスピードは優秀であった。６ソリツドステツプ
が現像された。
が現像された。
本発明の光電写真要素は、静電荷の像様示差的暗減衰が
熱で消すことができる点で有益である。
熱で消すことができる点で有益である。
更に、露光によって作られた像様導電性差は、その要素
が熱ｒ１．会わない限りは、永久的である。従って、書
類の多数のコピーを単−露光で作ることができる。
が熱ｒ１．会わない限りは、永久的である。従って、書
類の多数のコピーを単−露光で作ることができる。
本発明の方法においては、要素の露光は帯電工程の前、
後又は同時に行うことができる。
後又は同時に行うことができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、酸フォトジェネレーティング層と電気的に接触して
いる導電層を含む光電写真要素であって、この酸フォト
ジェネレーティング層が（ａ）光重合性物質を含まず且
つ（ｂ）電気絶縁性結合剤及び酸フォトジェネレーター
を含んでいる、光電写真要素。 ２、画像形成用の光電写真法であって、 （ａ）酸フォトジェネレーティング層と電気的に接触し
ている導電層を含む光電写真要素であって、この酸フォ
トジェネレーティング層が（ｉ）光重合性物質を含まず
且つ（ｉｉ）電気絶縁性結合剤及び酸フォトジエネレー
ターを含んでいる、光電写真要素を提供する工程、 （ｂ）次の工程（ｉ）及び（ｉｉ）を任意の順序で別々
に又は同時に実施して静電潜像を形成させる工程：（ｉ
）その酸フォトジェネレーティング層を化学線に像様露
光する工程、 （ｉｉ）その酸フォトジェネレーティング層を静電帯電
させる工程、及び （ｃ）その静電潜像を帯電トナー粒子で現像する工程、 を含むことを特徴とする光電写真法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/856,543 US4661429A (en) | 1986-04-28 | 1986-04-28 | Photoelectrographic elements and imaging method |
| US856543 | 1986-04-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS632052A true JPS632052A (ja) | 1988-01-07 |
Family
ID=25323898
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62103401A Pending JPS632052A (ja) | 1986-04-28 | 1987-04-28 | 光電写真要素及び光電写真法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4661429A (ja) |
| EP (1) | EP0244704A3 (ja) |
| JP (1) | JPS632052A (ja) |
| CA (1) | CA1321313C (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US5016062A (en) * | 1990-01-02 | 1991-05-14 | Eastman Kodak Company | Multicolor image forming apparatus having improved registration |
| US4990969A (en) * | 1990-01-02 | 1991-02-05 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for forming multicolor images |
| US5120629A (en) * | 1990-04-10 | 1992-06-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Positive-working photosensitive electrostatic master |
| US5108859A (en) * | 1990-04-16 | 1992-04-28 | Eastman Kodak Company | Photoelectrographic elements and imaging method |
| EP0516794A1 (en) * | 1990-12-21 | 1992-12-09 | Eastman Kodak Company | Photoelectrographic imaging with near-infrared sensitizing dyes |
| US5166024A (en) * | 1990-12-21 | 1992-11-24 | Eastman Kodak Company | Photoelectrographic imaging with near-infrared sensitizing pigments |
| US5256510A (en) * | 1990-12-21 | 1993-10-26 | Eastman Kodak Company | Photoelectrographic imaging with near-infrared sensitizing dyes |
| US5221590A (en) * | 1991-04-15 | 1993-06-22 | Eastman Kodak Company | Photoelectrographic imaging with dyes or pigments to effect a color density or hue shift |
| US5288582A (en) * | 1991-07-29 | 1994-02-22 | Eastman Kodak Company | Photoelectrographic method for printing |
| US5240800A (en) * | 1991-07-29 | 1993-08-31 | Eastman Kodak Company | Near-infrared radiation sensitive photoelectrographic master and imaging method |
| WO1993006597A1 (en) * | 1991-09-16 | 1993-04-01 | Eastman Kodak Company | Optical recording with near-infrared dyes to effect bleaching |
| US5177542A (en) * | 1991-10-07 | 1993-01-05 | Eastman Kodak Company | Method of xeroprinting |
| US5204198A (en) * | 1991-10-28 | 1993-04-20 | Eastman Kodak Company | Photoelectrographic elements utilizing nonionic sulfonic acid photogenerators |
| US5248734A (en) * | 1992-06-16 | 1993-09-28 | Cornell Research Foundation, Inc. | Process for preparing a polyphenylene polymer |
| US5302757A (en) * | 1992-09-14 | 1994-04-12 | Eastman Kodak Company | Ultraviolet light sensitive onium salts |
| EP0846681B1 (en) * | 1995-08-22 | 2003-12-03 | Nippon Soda Co., Ltd. | Novel sulfonium salt compounds, polymerization initiator, curable composition, and curing method |
| US6031014A (en) * | 1998-12-08 | 2000-02-29 | Crivello; James V. | Initiator compositions and methods for their synthesis and use |
| TW576859B (en) * | 2001-05-11 | 2004-02-21 | Shipley Co Llc | Antireflective coating compositions |
| US6977131B2 (en) * | 2002-05-30 | 2005-12-20 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Selected polymeric sulfonate acid generators and their use in processes for imaging radiation-sensitive elements |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2807648A (en) * | 1955-09-16 | 1957-09-24 | Stauffer Chemical Co | Process for making sulfonium compounds |
| GB857194A (en) * | 1957-07-05 | 1960-12-29 | Clinical Products Ltd | Therapeutic agents comprising ion-exchange resins |
| DE1252060B (ja) * | 1961-10-23 | |||
| US3615414A (en) * | 1969-03-04 | 1971-10-26 | Eastman Kodak Co | Photoconductive compositions and elements and method of preparation |
| US4033769A (en) * | 1972-12-18 | 1977-07-05 | Xerox Corporation | Persistent photoconductive compositions |
| US4058401A (en) * | 1974-05-02 | 1977-11-15 | General Electric Company | Photocurable compositions containing group via aromatic onium salts |
| GB1512982A (en) * | 1974-05-02 | 1978-06-01 | Gen Electric | Salts |
| US4026705A (en) * | 1975-05-02 | 1977-05-31 | General Electric Company | Photocurable compositions and methods |
| US4081276A (en) * | 1976-10-18 | 1978-03-28 | General Electric Company | Photographic method |
| JPS5729050A (en) * | 1980-07-29 | 1982-02-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photoconductive composition and electrophotographic sensitive material using it |
| US4365016A (en) * | 1981-07-01 | 1982-12-21 | Eastman Kodak Company | Benzotelluropyrylium diketonate electron accepting dye sensitizers for electron donating photoconductive compositions |
| US4529490A (en) * | 1983-05-23 | 1985-07-16 | General Electric Company | Photopolymerizable organic compositions and diaryliodonium ketone salts used therein |
-
1986
- 1986-04-28 US US06/856,543 patent/US4661429A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-08-28 CA CA000517069A patent/CA1321313C/en not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-04-23 EP EP87105979A patent/EP0244704A3/en not_active Withdrawn
- 1987-04-28 JP JP62103401A patent/JPS632052A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0244704A3 (en) | 1989-08-30 |
| US4661429A (en) | 1987-04-28 |
| CA1321313C (en) | 1993-08-17 |
| EP0244704A2 (en) | 1987-11-11 |
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