JPS63213281A - 熱処理炉の制御方法 - Google Patents
熱処理炉の制御方法Info
- Publication number
- JPS63213281A JPS63213281A JP4699287A JP4699287A JPS63213281A JP S63213281 A JPS63213281 A JP S63213281A JP 4699287 A JP4699287 A JP 4699287A JP 4699287 A JP4699287 A JP 4699287A JP S63213281 A JPS63213281 A JP S63213281A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat
- temperature
- pattern
- heater
- workpiece
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Control Of Heat Treatment Processes (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
- Control Of Temperature (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、炉内のヒータ温度を予め定めたヒートパタ
ーンにしたがって制御することにより、炉内の被処理物
を熱処理する熱処理炉の制御方法に関する。
ーンにしたがって制御することにより、炉内の被処理物
を熱処理する熱処理炉の制御方法に関する。
［従来の技術］
従来、この種の制御方法は、ただ単に、予め定めたヒー
トパターンにしたがってヒータ温度を制御していた。そ
のため、炉内の温度に関しては゛、ヒータ温度のみを検
出してフィードバック信号としていた。
トパターンにしたがってヒータ温度を制御していた。そ
のため、炉内の温度に関しては゛、ヒータ温度のみを検
出してフィードバック信号としていた。
［発明が解決しようとする問題点］
一般に、被処理物の内部は熱伝導が悪く、またその表面
部は熱伝導が良い。そのため、被処理物の各部を均熱処
理する場合には、その内部の低温部と、その表面部の高
温部との間の温度を考慮して、徐々に昇温さ仕る必要が
ある。
部は熱伝導が良い。そのため、被処理物の各部を均熱処
理する場合には、その内部の低温部と、その表面部の高
温部との間の温度を考慮して、徐々に昇温さ仕る必要が
ある。
ところが、上述したように従来の制御方法の場合は、被
処理物自体の温度は無視して、ヒータ温度のみを監視し
つつ、そのヒータ温度を予め定められたヒートパターン
にしたがって単純に制御するため、実際の操業に際して
、被処理物の内部と表面部との間に大きな温度差が生じ
た場合であってもそのまま操業を続行していた。したが
って、このような場合には被処理物が均熱処理されなく
なるという問題があった。
処理物自体の温度は無視して、ヒータ温度のみを監視し
つつ、そのヒータ温度を予め定められたヒートパターン
にしたがって単純に制御するため、実際の操業に際して
、被処理物の内部と表面部との間に大きな温度差が生じ
た場合であってもそのまま操業を続行していた。したが
って、このような場合には被処理物が均熱処理されなく
なるという問題があった。
この発明は、このような問題を解決するものである。
［問題点を解決するための手段］
この発明の熱処理炉の制御方法は、
炉内のヒータ温度を予め定めたヒートパターンにしたが
って発熱制御することにより、炉内の被処理物を熱処理
する熱処理炉の制御方法において、被処理物の熱処理中
に、その被処理物の高温部と低温部の温度を検出して、
それらの温度差を求め、 ヒートパターンにしたがってヒータが発熱しているとき
に、前記温度差が所定値を越えたことを条件としてヒー
トパターンを変更し、被処理物を温度差を小さく抑える
ことを特徴とする。
って発熱制御することにより、炉内の被処理物を熱処理
する熱処理炉の制御方法において、被処理物の熱処理中
に、その被処理物の高温部と低温部の温度を検出して、
それらの温度差を求め、 ヒートパターンにしたがってヒータが発熱しているとき
に、前記温度差が所定値を越えたことを条件としてヒー
トパターンを変更し、被処理物を温度差を小さく抑える
ことを特徴とする。
［作用 ］
この発明の熱処理炉の制御方法は、ヒートパターンにし
たがってヒータが発熱しているときに、被処理物の高温
部と低温部の温度差が所定値を越えたことを条件として
ヒートパターンを変更し、ヒータの発熱量を小さく抑え
ることにより、被処理物における各部の温度差を自動的
に小さく抑えて、被処理物を均熱処理し、製品の品質向
上と均一化を図る。
たがってヒータが発熱しているときに、被処理物の高温
部と低温部の温度差が所定値を越えたことを条件として
ヒートパターンを変更し、ヒータの発熱量を小さく抑え
ることにより、被処理物における各部の温度差を自動的
に小さく抑えて、被処理物を均熱処理し、製品の品質向
上と均一化を図る。
［実施例］
以下、この発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
まず、この発明を実施するための制御装置の構成例を第
５図に基づいて概説する。
５図に基づいて概説する。
図において、ｌは熱処理炉であり、その内部に備えた複
数のヒータ２によって、被処理物Ｗを加熱して熱処理す
るようになっている。ヒータ２のそれぞれはヒータ温度
制御手段３に接続されており、ヒータ温度制御手段３は
、ヒータ２のそれぞれに取り付けたヒータ用温度センサ
ー４の検出信号をフィードバックしつつそれぞれのヒー
タ２を制御するものである。そのヒータ温度制御手段３
による制御は、ヒートパターン設定手段５によって設定
されたヒートパターンにしたがっての発熱制御である。
数のヒータ２によって、被処理物Ｗを加熱して熱処理す
るようになっている。ヒータ２のそれぞれはヒータ温度
制御手段３に接続されており、ヒータ温度制御手段３は
、ヒータ２のそれぞれに取り付けたヒータ用温度センサ
ー４の検出信号をフィードバックしつつそれぞれのヒー
タ２を制御するものである。そのヒータ温度制御手段３
による制御は、ヒートパターン設定手段５によって設定
されたヒートパターンにしたがっての発熱制御である。
ヒートパターン設定手段５は、初期設定手段６によって
初期設定されることにより、まずは初期のヒートパター
ンを設定し、その後はヒートパターン変更手段７からの
変更指令によってヒートパターンを設定変更するもので
ある。
初期設定されることにより、まずは初期のヒートパター
ンを設定し、その後はヒートパターン変更手段７からの
変更指令によってヒートパターンを設定変更するもので
ある。
ヒートパターン変更手段７は、製品温度検出手段８から
人力した温度検出信号を後述するように演算処理して、
その演算結果に応じＲ変更指令を発するものである。製
品温度検出手段８には、被処理物Ｗの高温部と低温部に
取り付けられた複数の温度センサー９が接続されている
。被処理物Ｗの高温部は例えば熱伝導の良い表面部、ま
た低温部は熱伝導の悪い内部である。
人力した温度検出信号を後述するように演算処理して、
その演算結果に応じＲ変更指令を発するものである。製
品温度検出手段８には、被処理物Ｗの高温部と低温部に
取り付けられた複数の温度センサー９が接続されている
。被処理物Ｗの高温部は例えば熱伝導の良い表面部、ま
た低温部は熱伝導の悪い内部である。
次に、実際の制御方法について説明する。
まず、ヒートパターン設定手段５が初期のヒートパター
ンを設定する。いま、その初期のヒートパターンを第４
図中のパターンＡとする。ヒータ温度制御手段３は、そ
のヒートパターンＡにしたがってヒータ２を発熱制御し
て、被処理物Ｗを熱処理する。
ンを設定する。いま、その初期のヒートパターンを第４
図中のパターンＡとする。ヒータ温度制御手段３は、そ
のヒートパターンＡにしたがってヒータ２を発熱制御し
て、被処理物Ｗを熱処理する。
このようなヒートパターンＡにしたがう熱処理中、製品
温度検出手段８は被処理物Ｗの各部の実際の温度を検出
する。熱処理が初期通りに進行した場合には、被処理物
Ｗの高温部は第４図中の曲線ａのように変化し、また被
処理物Ｗの低温部は同図中の曲線すのように変化する。
温度検出手段８は被処理物Ｗの各部の実際の温度を検出
する。熱処理が初期通りに進行した場合には、被処理物
Ｗの高温部は第４図中の曲線ａのように変化し、また被
処理物Ｗの低温部は同図中の曲線すのように変化する。
ヒートパターン変更手段７は、熱処理中の被処理物Ｗの
温度を監視し、その温度が種々の要因によって許容範囲
を越えたときに、ヒートパターンの変更指令を出す。す
なわち、ヒートパターン変更手段７には２種の機能があ
り、第１の機能は、被処理物Ｗの温度の最大値（Ｍ Ａ
Ｘ ）と最小値（ＭＩＮ）との差を求めて、その差が
予め定めた設定値以上となったことを条件として、情況
に応じたヒートパターンの変更指令を出す機能であり、
また第２の機能は、被処理物Ｗｃ）温度の最大値（Ｍ
Ａ Ｘ ）を監視して、その最大値が予め定めた被処理
物Ｗの加熱限界温度以上となったことを条件として、情
況に応じたヒートパターンの変更指令を出す機能である
。
温度を監視し、その温度が種々の要因によって許容範囲
を越えたときに、ヒートパターンの変更指令を出す。す
なわち、ヒートパターン変更手段７には２種の機能があ
り、第１の機能は、被処理物Ｗの温度の最大値（Ｍ Ａ
Ｘ ）と最小値（ＭＩＮ）との差を求めて、その差が
予め定めた設定値以上となったことを条件として、情況
に応じたヒートパターンの変更指令を出す機能であり、
また第２の機能は、被処理物Ｗｃ）温度の最大値（Ｍ
Ａ Ｘ ）を監視して、その最大値が予め定めた被処理
物Ｗの加熱限界温度以上となったことを条件として、情
況に応じたヒートパターンの変更指令を出す機能である
。
そこで、ヒートパターン変更手段７の第１の機能を第１
図および第２図により、また第２の機能を第３図により
説明する。
図および第２図により、また第２の機能を第３図により
説明する。
第１図は初期のヒートパターンＡにしたがってヒータ２
が昇温中の時（ｔ、）に、被処理物Ｗの温度差（ＭＡＸ
−ＭＩＮ）が設定値０１以上となった場合、つまり（Ｍ
ＡＸ−ＭＩＮ）≧０１となった場合ツバターンの変更例
である。この場合、ヒートパターン変更手段７は、同図
中のヒートパターンＢに変更する指令を出す。このヒー
トパターンＢは、ヒータ２の温度を所定時間だけ一定に
保つ制御パターンであり、この制御パターンにしたがう
ことにより、被処理物Ｗの高温部と低温部の温度差が縮
まることになる。そして、その温度差が充分に縮まった
時点で元のヒートパターンＡに戻す。
が昇温中の時（ｔ、）に、被処理物Ｗの温度差（ＭＡＸ
−ＭＩＮ）が設定値０１以上となった場合、つまり（Ｍ
ＡＸ−ＭＩＮ）≧０１となった場合ツバターンの変更例
である。この場合、ヒートパターン変更手段７は、同図
中のヒートパターンＢに変更する指令を出す。このヒー
トパターンＢは、ヒータ２の温度を所定時間だけ一定に
保つ制御パターンであり、この制御パターンにしたがう
ことにより、被処理物Ｗの高温部と低温部の温度差が縮
まることになる。そして、その温度差が充分に縮まった
時点で元のヒートパターンＡに戻す。
第２図は初期のヒートパターンＡにしたがってヒータ２
の温度を一定に保っている時（ｔ、）に、被処理物Ｗの
温度差（ＭＡＸ−ＭＩＮ）が設定値Ｃ７以上となった場
合、つまり（ＭＡＸ−ＭＩＮ）≧０２となった場合のパ
ターンの変更例である。この場合、ヒートパターン変更
手段７は、同図中のヒートパターンＣに変更する指令を
出す。このヒートパターンＣは、ヒータ２を所定温度だ
け下げる制御パターンであり、この制御パターンにした
がうことにより、被処理物Ｗの高温部と低温部の温度差
が縮まることになる。その温度差が充分に縮まった時点
で元のヒートパターンＡに戻す。
の温度を一定に保っている時（ｔ、）に、被処理物Ｗの
温度差（ＭＡＸ−ＭＩＮ）が設定値Ｃ７以上となった場
合、つまり（ＭＡＸ−ＭＩＮ）≧０２となった場合のパ
ターンの変更例である。この場合、ヒートパターン変更
手段７は、同図中のヒートパターンＣに変更する指令を
出す。このヒートパターンＣは、ヒータ２を所定温度だ
け下げる制御パターンであり、この制御パターンにした
がうことにより、被処理物Ｗの高温部と低温部の温度差
が縮まることになる。その温度差が充分に縮まった時点
で元のヒートパターンＡに戻す。
第３図は初期のヒートパターンＡにしたがってヒータ２
の温度制御をしている時（ｔ、）に、被処理物Ｗの温度
の最大値（ＭＡＸ）が設定値０３以上となった場合、つ
まり（Ｍ Ａ Ｘ ）≧Ｃ８となった場合のパターンの
変更例である。設定値ｃ３は、被処理物Ｗの加熱限界温
度である。この場合、ヒートパターン変更手段７は、同
図中のヒートパターンＤに変更する指令を出す。このヒ
ートパターンＤは、ヒータ２を所定温度だけ下げる制御
パターンであり、この制御パターンにしたがうことによ
り、被処理物Ｗの高温部が設定値ｃ３よりも下がること
になる。そして、その高温部の温度が充分に下がった時
点で元のヒートパターンＡに戻す。 −のように、ヒ
ートパターン変更手段７は、被処理物Ｗの熱処理中、そ
の被処理物Ｗの実際の温度を監視し、そしてヒートパタ
ーン変更手段７自身の第１、第２の機能により、情況に
応じたヒートパターンの変更指令を出す。
の温度制御をしている時（ｔ、）に、被処理物Ｗの温度
の最大値（ＭＡＸ）が設定値０３以上となった場合、つ
まり（Ｍ Ａ Ｘ ）≧Ｃ８となった場合のパターンの
変更例である。設定値ｃ３は、被処理物Ｗの加熱限界温
度である。この場合、ヒートパターン変更手段７は、同
図中のヒートパターンＤに変更する指令を出す。このヒ
ートパターンＤは、ヒータ２を所定温度だけ下げる制御
パターンであり、この制御パターンにしたがうことによ
り、被処理物Ｗの高温部が設定値ｃ３よりも下がること
になる。そして、その高温部の温度が充分に下がった時
点で元のヒートパターンＡに戻す。 −のように、ヒ
ートパターン変更手段７は、被処理物Ｗの熱処理中、そ
の被処理物Ｗの実際の温度を監視し、そしてヒートパタ
ーン変更手段７自身の第１、第２の機能により、情況に
応じたヒートパターンの変更指令を出す。
その後、熱処理が充分にすんだと判断した時に、ヒータ
２の発熱を止めて冷却工程に入り、熱処理を終了する。
２の発熱を止めて冷却工程に入り、熱処理を終了する。
以上の動作をまとめて第６図に表す。
［発明の効果コ
以上説明したように、この発明の熱処理炉の制御方法は
、ヒートパターンにしたがってヒータが発熱していると
きに、被処理物の高温部と低温部の温度差が所定値を越
えたことを条件としてヒートパターンを変更し、ヒータ
の発熱量を小さく抑えるから、被処理物における各部の
温度差を自動的に小さく抑えて、被処理物を均熱処理す
ることができる。したがって、製品の品質向上と均一化
を図ることができる。
、ヒートパターンにしたがってヒータが発熱していると
きに、被処理物の高温部と低温部の温度差が所定値を越
えたことを条件としてヒートパターンを変更し、ヒータ
の発熱量を小さく抑えるから、被処理物における各部の
温度差を自動的に小さく抑えて、被処理物を均熱処理す
ることができる。したがって、製品の品質向上と均一化
を図ることができる。
第１図ないし第６図はこの発明の一実施例を説明するた
めの図であり、第１図ないし第３図はヒートパターンの
変更例の説明図、第４図は初期のヒートパターンの説明
図、第５図は制御装置の構成図、第６図は制御動作を説
明するフローチャートである。 １・・・・・熱処理炉、 ２・・・・・・ヒータ、３・
・・・・・ヒータ温度制御手段、 ４・・・・・・ヒータ用温度センサー、５・・・・・・
ヒートパターン設定手段、６・・・・・・初期設定手段
、 ７・・・・・・ヒートパターン変更手段、８・・・・・
・製品温度検出手段、 ９・・・・・・温度センサー、 Ｗ・・・・・・被処理
物。 出願人 石川島播磨重工業株式会社 住友精密工業株式会社 第２図 さ ｉ“２ 第４図 ○ 吟聞第６図
めの図であり、第１図ないし第３図はヒートパターンの
変更例の説明図、第４図は初期のヒートパターンの説明
図、第５図は制御装置の構成図、第６図は制御動作を説
明するフローチャートである。 １・・・・・熱処理炉、 ２・・・・・・ヒータ、３・
・・・・・ヒータ温度制御手段、 ４・・・・・・ヒータ用温度センサー、５・・・・・・
ヒートパターン設定手段、６・・・・・・初期設定手段
、 ７・・・・・・ヒートパターン変更手段、８・・・・・
・製品温度検出手段、 ９・・・・・・温度センサー、 Ｗ・・・・・・被処理
物。 出願人 石川島播磨重工業株式会社 住友精密工業株式会社 第２図 さ ｉ“２ 第４図 ○ 吟聞第６図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 炉内のヒータ温度を予め定めたヒートパターンにしたが
って発熱制御することにより、炉内の被処理物を熱処理
する熱処理炉の制御方法において、被処理物の熱処理中
に、その被処理物の高温部と低温部の温度を検出して、
それらの温度差を求め、 ヒートパターンにしたがってヒータが発熱しているとき
に、前記温度差が所定値を越えたことを条件としてヒー
トパターンを変更し、被処理物の温度差を小さく抑える
ことを特徴とする熱処理炉の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4699287A JPS63213281A (ja) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | 熱処理炉の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4699287A JPS63213281A (ja) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | 熱処理炉の制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63213281A true JPS63213281A (ja) | 1988-09-06 |
Family
ID=12762692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4699287A Pending JPS63213281A (ja) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | 熱処理炉の制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63213281A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0895647A (ja) * | 1994-09-28 | 1996-04-12 | Ohkura Electric Co Ltd | プログラム温度調節計 |
| JPH09128061A (ja) * | 1995-10-27 | 1997-05-16 | Ohkura Electric Co Ltd | プログラム温度調節計の温度制御方式 |
| JP2014177690A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Kobe Steel Ltd | 冷間鍛造用鋼の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5118091A (en) * | 1975-02-04 | 1976-02-13 | Daihatsu Diesel Mfg | Hakuyosuishinhoho oyobi sonosochi |
| JPS5553692A (en) * | 1978-10-13 | 1980-04-19 | Chino Works Ltd | Method of controlling temperature |
-
1987
- 1987-03-02 JP JP4699287A patent/JPS63213281A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5118091A (en) * | 1975-02-04 | 1976-02-13 | Daihatsu Diesel Mfg | Hakuyosuishinhoho oyobi sonosochi |
| JPS5553692A (en) * | 1978-10-13 | 1980-04-19 | Chino Works Ltd | Method of controlling temperature |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0895647A (ja) * | 1994-09-28 | 1996-04-12 | Ohkura Electric Co Ltd | プログラム温度調節計 |
| JPH09128061A (ja) * | 1995-10-27 | 1997-05-16 | Ohkura Electric Co Ltd | プログラム温度調節計の温度制御方式 |
| JP2014177690A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Kobe Steel Ltd | 冷間鍛造用鋼の製造方法 |
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