JPS6321534A - 光フアイバの評価方法 - Google Patents
光フアイバの評価方法Info
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- JPS6321534A JPS6321534A JP16606586A JP16606586A JPS6321534A JP S6321534 A JPS6321534 A JP S6321534A JP 16606586 A JP16606586 A JP 16606586A JP 16606586 A JP16606586 A JP 16606586A JP S6321534 A JPS6321534 A JP S6321534A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/30—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides
- G01M11/33—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides with a light emitter being disposed at one fibre or waveguide end-face, and a light receiver at the other end-face
- G01M11/335—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides with a light emitter being disposed at one fibre or waveguide end-face, and a light receiver at the other end-face using two or more input wavelengths
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光ファイバの損失スペクトルを測定して、光フ
ァイバの特性、例えば耐放射線性を評価する方法に関す
る。
ァイバの特性、例えば耐放射線性を評価する方法に関す
る。
損失スペクトルは光ファイバの基本特性の１つであり、
例えば放射線雰囲気下における光ファイバの損失スペク
トルの変化を測定することは、放射線に対する光ファイ
バの特性を知る上で極めて重要である。そして放射線雰
囲気を通過する光ファイバの損失スペクトルを測定する
には従来以下の如く行っていた。
例えば放射線雰囲気下における光ファイバの損失スペク
トルの変化を測定することは、放射線に対する光ファイ
バの特性を知る上で極めて重要である。そして放射線雰
囲気を通過する光ファイバの損失スペクトルを測定する
には従来以下の如く行っていた。
その中途部が放射線雰囲気の遮蔽空間を通るように光フ
ァイバを配し、その一端面に光源から光を入射し、光フ
アイバ他端面から出射される光をモノクロメータにて検
知することとし、入射光の波長を変化させて光ファイバ
の損失スペクトルを測定していた。
ァイバを配し、その一端面に光源から光を入射し、光フ
アイバ他端面から出射される光をモノクロメータにて検
知することとし、入射光の波長を変化させて光ファイバ
の損失スペクトルを測定していた。
またこの方法とは別に、光源として白色光源を用い、ス
ペクトル分析器にて伝播光を検知する方法も知られてい
た。
ペクトル分析器にて伝播光を検知する方法も知られてい
た。
ところが上述した第１の方法では光源の波長を変化させ
るのに長時間を要し、また第２の方法でも波長掃引に１
分以上の時間がかかり、γ線照射中の光ファイバにおけ
る損失スペクトルのような変化の速い現象を測定する場
合には、光源波長変化及び波長掃引がその変化に対応し
きれず、正確な測定が行えないという問題点があった。
るのに長時間を要し、また第２の方法でも波長掃引に１
分以上の時間がかかり、γ線照射中の光ファイバにおけ
る損失スペクトルのような変化の速い現象を測定する場
合には、光源波長変化及び波長掃引がその変化に対応し
きれず、正確な測定が行えないという問題点があった。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものでありその目
的とするところは、光ファイバの伝播光を検量する機器
として分光器及びフォトダイオードアレイを具備した光
検器器を用い、光ファイバの損失スペクトルを測定する
ことにより、短時間で光ファイバの損失スペクトルの測
定が行え、Ｔ線照射中の光ファイバにおいてもその損失
スペクトルを正確に測定できる光ファイバの評価方法を
提供することにある。
的とするところは、光ファイバの伝播光を検量する機器
として分光器及びフォトダイオードアレイを具備した光
検器器を用い、光ファイバの損失スペクトルを測定する
ことにより、短時間で光ファイバの損失スペクトルの測
定が行え、Ｔ線照射中の光ファイバにおいてもその損失
スペクトルを正確に測定できる光ファイバの評価方法を
提供することにある。
本発明に係る光ファイバの評価方法は光ファイバの端面
に光を入射し、その伝播光を検量して該光ファイバの損
失スペクトルを測定し、該損失スペクトルの測定結果に
基づき前記光ファイバを評価する方法において、白色光
源から前記光ファイバに光を入射し、その伝播光を分光
器で分光し、分光された光をフォトダイオードアレイに
て受光して前記光ファイバのｔ員失スペクトルを測定し
、該損失スペクトルの測定結果に基づき前記光ファイバ
を評価することを特徴とする。
に光を入射し、その伝播光を検量して該光ファイバの損
失スペクトルを測定し、該損失スペクトルの測定結果に
基づき前記光ファイバを評価する方法において、白色光
源から前記光ファイバに光を入射し、その伝播光を分光
器で分光し、分光された光をフォトダイオードアレイに
て受光して前記光ファイバのｔ員失スペクトルを測定し
、該損失スペクトルの測定結果に基づき前記光ファイバ
を評価することを特徴とする。
本発明方法にあっては光ファイバの伝播光を分光し、フ
ォトダイオードアレイで受光して光ファイバの損失スペ
クトルを測定する。
ォトダイオードアレイで受光して光ファイバの損失スペ
クトルを測定する。
（実施例〕
以下本発明をその実施例を示す図面に基づいて説明する
。第１図は本発明方法を実施するための装置の模式図で
あり、図中１はハロゲンランプよりなる白色光源、２は
該ハロゲンランプ１の光を光ファイバ３端面に集光する
ためのレンズである。
。第１図は本発明方法を実施するための装置の模式図で
あり、図中１はハロゲンランプよりなる白色光源、２は
該ハロゲンランプ１の光を光ファイバ３端面に集光する
ためのレンズである。
γ線を放射する放射線源４を備え、外界から遮蔽された
遮蔽空間５内に光ファイバ３の中間部が設けられており
、光ファイバ３は該遮蔽空間５内にて前記放射線源４か
らγ線を照射されるようになっている。
遮蔽空間５内に光ファイバ３の中間部が設けられており
、光ファイバ３は該遮蔽空間５内にて前記放射線源４か
らγ線を照射されるようになっている。
光ファイバ３の他端面は後述する光学部材を備えた光検
器器６に形成されるスリ７Ｈａに臨ませてあり、光ファ
イバ３を伝播した光は光フアイバ他端面から出射し、ス
リ７）６ａを通過して元栓量器６内に入射する。光検器
器６は、スリット６ａから入射した光ファイバ３の伝播
光を反射する平面Ｍｔ ７、平面鏡７にて反射された光
を分光する分光器８及び分光器８にて分光された光を受
光するフォトダイオードアレイ９を具備する。フォトダ
イオードアレイ９は多数の素子を一列に並設してなり、
分光器８にて赤外線域から紫外線域まで分光された光の
長波長側から短波長側への方向が素子並設方向となって
この光を受光するように位置決めされている。従って光
ファイバ３他端面を出射した光は、スリット６ａを通り
、平面鏡７にて反射され、分光器８にて分光され、フォ
トダイオードアレイ９に受光される。
器器６に形成されるスリ７Ｈａに臨ませてあり、光ファ
イバ３を伝播した光は光フアイバ他端面から出射し、ス
リ７）６ａを通過して元栓量器６内に入射する。光検器
器６は、スリット６ａから入射した光ファイバ３の伝播
光を反射する平面Ｍｔ ７、平面鏡７にて反射された光
を分光する分光器８及び分光器８にて分光された光を受
光するフォトダイオードアレイ９を具備する。フォトダ
イオードアレイ９は多数の素子を一列に並設してなり、
分光器８にて赤外線域から紫外線域まで分光された光の
長波長側から短波長側への方向が素子並設方向となって
この光を受光するように位置決めされている。従って光
ファイバ３他端面を出射した光は、スリット６ａを通り
、平面鏡７にて反射され、分光器８にて分光され、フォ
トダイオードアレイ９に受光される。
またフォトダイオードアレイ９にはフォトダイオードア
レイ９の出力を解析するマイクロプロセッサ１０が接続
されている。
レイ９の出力を解析するマイクロプロセッサ１０が接続
されている。
かかる構成により、光ファイバの損失スペクトルの測定
は以下の如く行われる。ハロゲンランプｌからの光はレ
ンズ２にて集光されて光ファイバ３端面に入射し、光フ
ァイバ３を伝播する。光ファイバ３を伝播した光は光検
器器６のスリ７）６ａを通過して元栓量器６内に入射す
る。元栓量器６内に入射した光は平面鏡７にて反射され
、分光器８にて分光され、更にその分光された光はフォ
トダイオードアレイ９に入射する。フォトダイオードア
レイ９で受光された光の量が電気出力に変換され、各素
子を走査してその出力が検出されてマイクロプロセッサ
１０に入力される。マイクロプロセッサ１０は各素子の
出力を読取り、各素子に対応する波長を有する光の損失
光量を求め、これを図示しない記録計へグラフ化した損
失スペクトルを描かせるためのデータを出力する。ここ
で光ファイバ３の中間部はＴ綿雪囲気内を通過するので
、光ファイバ３を伝播する光はγ線の影響を受け、マイ
クロプロセッサ１０ではγ線影容下の損失スペクトルが
測定されることになる。尚、この測定の際に電気出力を
得るためのフォトダイオードアレイ９の走査速度は１２
＋１ｓｅｃであり、従来方法に比べると掻めて短時間で
光ファイバ３の損失スペクトルの測定が可能である。
は以下の如く行われる。ハロゲンランプｌからの光はレ
ンズ２にて集光されて光ファイバ３端面に入射し、光フ
ァイバ３を伝播する。光ファイバ３を伝播した光は光検
器器６のスリ７）６ａを通過して元栓量器６内に入射す
る。元栓量器６内に入射した光は平面鏡７にて反射され
、分光器８にて分光され、更にその分光された光はフォ
トダイオードアレイ９に入射する。フォトダイオードア
レイ９で受光された光の量が電気出力に変換され、各素
子を走査してその出力が検出されてマイクロプロセッサ
１０に入力される。マイクロプロセッサ１０は各素子の
出力を読取り、各素子に対応する波長を有する光の損失
光量を求め、これを図示しない記録計へグラフ化した損
失スペクトルを描かせるためのデータを出力する。ここ
で光ファイバ３の中間部はＴ綿雪囲気内を通過するので
、光ファイバ３を伝播する光はγ線の影響を受け、マイ
クロプロセッサ１０ではγ線影容下の損失スペクトルが
測定されることになる。尚、この測定の際に電気出力を
得るためのフォトダイオードアレイ９の走査速度は１２
＋１ｓｅｃであり、従来方法に比べると掻めて短時間で
光ファイバ３の損失スペクトルの測定が可能である。
第２図は、本発明方法を用い、マイクロプロセッサ１０
にて得られた損失スペクトルの測定結果を示したグラフ
である。測定条件は室温１８．９度、光ファイバ長Ｌｏ
ｏｍ、放射ＮＩＡ線量１００００ Ｒ／Ｈとし、測定波
長領域を０．４μ＋ｓ〜１．１μｍとしている。
にて得られた損失スペクトルの測定結果を示したグラフ
である。測定条件は室温１８．９度、光ファイバ長Ｌｏ
ｏｍ、放射ＮＩＡ線量１００００ Ｒ／Ｈとし、測定波
長領域を０．４μ＋ｓ〜１．１μｍとしている。
また図中実線は放射線照射開始６０分後、破線は放射線
照射停止３０分後における損失スペクトルの測定結果を
夫々表している。第２図においては０．６３μｍ前後で
ピークが著明に観察できる。
照射停止３０分後における損失スペクトルの測定結果を
夫々表している。第２図においては０．６３μｍ前後で
ピークが著明に観察できる。
以上詳述した如（本発明方法では光ファイバを伝播した
光をフォトダイオードアレイにて受光するので、Ｔ線照
射中における光ファイバの損失スペクトルのような変化
の速い現象においても、その損失スペクトルを短時間に
測定出来るので、その測定結果は正確であり、放射線に
対する光ファイバの正確な評価を得ることが可能である
。
光をフォトダイオードアレイにて受光するので、Ｔ線照
射中における光ファイバの損失スペクトルのような変化
の速い現象においても、その損失スペクトルを短時間に
測定出来るので、その測定結果は正確であり、放射線に
対する光ファイバの正確な評価を得ることが可能である
。
尚、本実施例では放射線雰囲気下における光ファイバの
耐放射線性を評価する場合につき説明したが、これに限
らず光ファイバの損失スペクトルを測定し、その測定結
果に基づき光ファイバを評価するすべての場合において
本発明方法を行い得ることは勿論である。
耐放射線性を評価する場合につき説明したが、これに限
らず光ファイバの損失スペクトルを測定し、その測定結
果に基づき光ファイバを評価するすべての場合において
本発明方法を行い得ることは勿論である。
第１図は本発明方法を実施するための装置の模式図、第
２図は本発明方法にて測定した損失スペクトルのグラフ
である。
２図は本発明方法にて測定した損失スペクトルのグラフ
である。
Claims (1)
- １、光ファイバの端面に光を入射し、その伝播光を検量
して該光ファイバの損失スペクトルを測定し、該損失ス
ペクトルの測定結果に基づき前記光ファイバを評価する
方法において、白色光源から前記光ファイバに光を入射
し、その伝播光を分光器で分光し、分光された光をフォ
トダイオードアレイにて受光して前記光ファイバの損失
スペクトルを測定し、該損失スペクトルの測定結果に基
づき前記光ファイバを評価することを特徴とする光ファ
イバの評価方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16606586A JPS6321534A (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | 光フアイバの評価方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16606586A JPS6321534A (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | 光フアイバの評価方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6321534A true JPS6321534A (ja) | 1988-01-29 |
Family
ID=15824324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16606586A Pending JPS6321534A (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | 光フアイバの評価方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6321534A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5060839A (en) * | 1989-02-03 | 1991-10-29 | Yoshida Kogyo K. K. | Stroke adjustment apparatus for light projector of button setting machine |
-
1986
- 1986-07-14 JP JP16606586A patent/JPS6321534A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5060839A (en) * | 1989-02-03 | 1991-10-29 | Yoshida Kogyo K. K. | Stroke adjustment apparatus for light projector of button setting machine |
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