JPS6321648A - 描画用感光基板の感光面位置保持装置 - Google Patents
描画用感光基板の感光面位置保持装置Info
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- JPS6321648A JPS6321648A JP61166158A JP16615886A JPS6321648A JP S6321648 A JPS6321648 A JP S6321648A JP 61166158 A JP61166158 A JP 61166158A JP 16615886 A JP16615886 A JP 16615886A JP S6321648 A JPS6321648 A JP S6321648A
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- photosensitive
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は、光スポットのラスク走査によってパターンを
描画するパターン描画装置、特に、その描画に用いられ
るプリント基板や感光フィルム等の感光基板の感光面位
置保持装置に関する。
描画するパターン描画装置、特に、その描画に用いられ
るプリント基板や感光フィルム等の感光基板の感光面位
置保持装置に関する。
（従来の技術）
従来のプリント基板直接描画装置や感光フィルム描画装
置においては、第３図に示すようにレーザ光′ａ１から
のレーザ光束を、例えば超音波光変調器のような光変調
器２にて変調し、ビームエキスパンダ３にて拡大して等
速回転するポリゴンミラー４で反射、偏向させた後、ｆ
θレンズ５、折曲げミラー６を介してプリント基板や感
光フィルム（以下「感光基板」と称する。）７上に光ス
ポットとして投射してＸ方向にラスク走査し、同時に感
光基板７を載置した移動ステージ９を架台８上でＸ方向
に一次元移動させて、感光基板７の上面（感光面）に所
望のパターンを描画するように構成されている。
置においては、第３図に示すようにレーザ光′ａ１から
のレーザ光束を、例えば超音波光変調器のような光変調
器２にて変調し、ビームエキスパンダ３にて拡大して等
速回転するポリゴンミラー４で反射、偏向させた後、ｆ
θレンズ５、折曲げミラー６を介してプリント基板や感
光フィルム（以下「感光基板」と称する。）７上に光ス
ポットとして投射してＸ方向にラスク走査し、同時に感
光基板７を載置した移動ステージ９を架台８上でＸ方向
に一次元移動させて、感光基板７の上面（感光面）に所
望のパターンを描画するように構成されている。
（発明の解決しようとする問題点）
しかしながら、上記従来の描画装置においては、感光基
板７を載置する移動ステージの上面は上下移動不能に構
成され、厚さの一定した感光基板７の上面にｆθレンズ
５の焦点位置が在るように、ｒθレンズ５および折曲げ
ミラーの位置が設定されている。従って厚さの異なる感
光基板は使用できないことは勿論、楔状に両端で厚さが
相違する感光基板では、一部に焦点ずれが生じてしまい
、パターンの線幅が所定の幅に描画できなかったり、描
画されたパターンが不鮮明なものとなる問題点が有った
。
板７を載置する移動ステージの上面は上下移動不能に構
成され、厚さの一定した感光基板７の上面にｆθレンズ
５の焦点位置が在るように、ｒθレンズ５および折曲げ
ミラーの位置が設定されている。従って厚さの異なる感
光基板は使用できないことは勿論、楔状に両端で厚さが
相違する感光基板では、一部に焦点ずれが生じてしまい
、パターンの線幅が所定の幅に描画できなかったり、描
画されたパターンが不鮮明なものとなる問題点が有った
。
この問題を解決するために、移動ステージ９を上下に移
動調節可能に構成し、あるいは折曲げミラー６をｆθレ
ンズ５の光軸方向に移動して、感光基板７の上面を焦点
面と一敗させるように構成することが考えられる。しか
し、いずれの場合にも感光基板７の厚さをその都度正確
に測定しなければならず、また感光基板７の厚さが楔状
の場合には、依然として部分的に焦点ずれが生ずる問題
は解決されない。しかも折曲げミラー６を移動して焦点
調節を行う場合には、光スボ−／ トｙ方向の走査位置
がずれる欠点があり、さらに完全に折曲げミラー６が平
行移動しないときは光スポットの走査方向が変化してし
まう恐れがある。
動調節可能に構成し、あるいは折曲げミラー６をｆθレ
ンズ５の光軸方向に移動して、感光基板７の上面を焦点
面と一敗させるように構成することが考えられる。しか
し、いずれの場合にも感光基板７の厚さをその都度正確
に測定しなければならず、また感光基板７の厚さが楔状
の場合には、依然として部分的に焦点ずれが生ずる問題
は解決されない。しかも折曲げミラー６を移動して焦点
調節を行う場合には、光スボ−／ トｙ方向の走査位置
がずれる欠点があり、さらに完全に折曲げミラー６が平
行移動しないときは光スポットの走査方向が変化してし
まう恐れがある。
さらに、感光基板７の厚さが均一であってもそれを載置
する移動ステージの上面が移動方向（ｙもシ 方向）に傾斜している場合には、上記のいずれ手段によ
っても焦点ずれを回避し得ない。従って、前記従来装置
においては、移動ステージ７の上面を、ステージ移動方
向（Ｘ方向）に対して厳密な平面度と平行度とが維持さ
れるように構成しなければならないという問題点が有る
。
する移動ステージの上面が移動方向（ｙもシ 方向）に傾斜している場合には、上記のいずれ手段によ
っても焦点ずれを回避し得ない。従って、前記従来装置
においては、移動ステージ７の上面を、ステージ移動方
向（Ｘ方向）に対して厳密な平面度と平行度とが維持さ
れるように構成しなければならないという問題点が有る
。
本発明は、上記従来のパターン描画装置の上記の如き問
題点を解決し、感光基板の厚さが変っても、また、移動
ステージの感光基板載置面が移動ステージの移動方向に
対して多少傾斜していても所望の鮮明なパターンを描画
することができる感光基板の感光面位置保持装置を提供
することを目的とするものである。
題点を解決し、感光基板の厚さが変っても、また、移動
ステージの感光基板載置面が移動ステージの移動方向に
対して多少傾斜していても所望の鮮明なパターンを描画
することができる感光基板の感光面位置保持装置を提供
することを目的とするものである。
（問題点を解決する為の手段）
上記の目的を達成するために本発明においては、光スポ
ットの走査方向と交差して一次元移動可能なステージ本
体と、描画用の感光基板を保持してステージ本体上に上
下移動可能な感光基板保持台と、その感光基板保持台を
上方へ弾性的に押圧する押圧手段と、光スポットの走査
方向に沿う所定位置に固設され且つ一定圧の空気を感光
基板上に噴射するエアパッドを含む感光面位置規正手段
とを備えることを技術的要点とするものである。
ットの走査方向と交差して一次元移動可能なステージ本
体と、描画用の感光基板を保持してステージ本体上に上
下移動可能な感光基板保持台と、その感光基板保持台を
上方へ弾性的に押圧する押圧手段と、光スポットの走査
方向に沿う所定位置に固設され且つ一定圧の空気を感光
基板上に噴射するエアパッドを含む感光面位置規正手段
とを備えることを技術的要点とするものである。
（作用）
ステージ本体（１３）は、光スポットの走査方向と交差
する方向に一次元移動し描画用の感光基板（７）が光ス
ポットの走査位置直下に達すると押圧手段（１７）が作
動して感光基板保持台（１２）を上昇させる。感光基板
保持台（１２）が上昇して感光基板（７）の上面が所定
位置に達すると、エアパッド（２２）から噴射される空
気によって感光基板（７）の一部が下方へ押圧され、そ
の空気圧と押圧手段（７）の上方への押圧力とがバラン
スし、その位置で感光基板（７）は保持される。さらに
、ステージ本体（１３）と共に感光基板（７）が−次元
移動している間中、感光基板（７）の上面は、エアパッ
ド（２２）から所定の距離に在るように、その噴出空気
圧によって自動調節され、非接触でその位置が保持され
る。
する方向に一次元移動し描画用の感光基板（７）が光ス
ポットの走査位置直下に達すると押圧手段（１７）が作
動して感光基板保持台（１２）を上昇させる。感光基板
保持台（１２）が上昇して感光基板（７）の上面が所定
位置に達すると、エアパッド（２２）から噴射される空
気によって感光基板（７）の一部が下方へ押圧され、そ
の空気圧と押圧手段（７）の上方への押圧力とがバラン
スし、その位置で感光基板（７）は保持される。さらに
、ステージ本体（１３）と共に感光基板（７）が−次元
移動している間中、感光基板（７）の上面は、エアパッ
ド（２２）から所定の距離に在るように、その噴出空気
圧によって自動調節され、非接触でその位置が保持され
る。
（実施例）
次に、本発明の実施例を添付の図面に基づいて詳しく説
明する。
明する。
第１図はパターン描画装置に組み込まれた本発明の実施
例装置を示す一部破断側面図で、第２図は第１図の■−
■断面図である。なお、第３図に示す従来装置と同一の
機能を有する部材には第３図と同一の符号を付し、その
構成についての詳しい説明は省略する。
例装置を示す一部破断側面図で、第２図は第１図の■−
■断面図である。なお、第３図に示す従来装置と同一の
機能を有する部材には第３図と同一の符号を付し、その
構成についての詳しい説明は省略する。
第１図において、従来公知の第３図に示すようなパター
ン描画装置の光スポツト投射光学系と同げミラー６を介
して感光基板７の上面（感光面）に光スポットとして投
射される。この場合、その感光面がｆθレンズ５の焦点
面と一致したときに、レーザ光束は最も明るく明瞭な光
スポットとして結像される。
ン描画装置の光スポツト投射光学系と同げミラー６を介
して感光基板７の上面（感光面）に光スポットとして投
射される。この場合、その感光面がｆθレンズ５の焦点
面と一致したときに、レーザ光束は最も明るく明瞭な光
スポットとして結像される。
感光基板７を載置してステージ基台１０上を一次元移動
可能な移動ステージ１１は、大別して、感光基板７を真
空吸着によって保持する感光基板台１２と、この感光基
板台１２を昇降可能に支持してステージ基台１０上をＸ
方向に移動可能なスζ嘘 テージ本体１３後述のアクチュエタＩ７とから構成され
ている。ステージ基台１０の上面には、移動ステージ１
１の移動方向に長いステージ用ガイド１４が固設されて
いる。また、ステージ本体Ｉ３の下面には、Ｘ方向に長
い３本の角柱状のブロック１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃが第
２図に示すように設けられ、そのうちの両側のブロック
１３Ａ、１３Ｃの下面のそれぞれの両端部分には、ステ
ージ基台１０の上面に対向してステージ支持用エアパッ
ド１５が設けられている。さらに、両側のブロック１３
Ａ、１３Ｃの中間位置に固設されたブロック１３Ｂと一
方のブロック１３Ａとのそれぞれの側面には、ステージ
用ガイド１４の両側面に対向して、ガイド用エアバンド
１６が設けられている。
可能な移動ステージ１１は、大別して、感光基板７を真
空吸着によって保持する感光基板台１２と、この感光基
板台１２を昇降可能に支持してステージ基台１０上をＸ
方向に移動可能なスζ嘘 テージ本体１３後述のアクチュエタＩ７とから構成され
ている。ステージ基台１０の上面には、移動ステージ１
１の移動方向に長いステージ用ガイド１４が固設されて
いる。また、ステージ本体Ｉ３の下面には、Ｘ方向に長
い３本の角柱状のブロック１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃが第
２図に示すように設けられ、そのうちの両側のブロック
１３Ａ、１３Ｃの下面のそれぞれの両端部分には、ステ
ージ基台１０の上面に対向してステージ支持用エアパッ
ド１５が設けられている。さらに、両側のブロック１３
Ａ、１３Ｃの中間位置に固設されたブロック１３Ｂと一
方のブロック１３Ａとのそれぞれの側面には、ステージ
用ガイド１４の両側面に対向して、ガイド用エアバンド
１６が設けられている。
また、ステージ本体１３と感光基板台１２との間には、
感光基板台１２を上方移動させる押圧手段として、例え
ばピストンとエアシリンダのようにスラスト方向にある
程度弾性を有する４個のアクチュエータ１７が設けられ
、さらに感光基板台１２の上下移動を案内する昇降用ガ
イド１８が設けられている。その感光基板台１２を上下
移動可能に支持するステージ本体１３は、ステージ基台
１０上に設けられたリニアモータ１９によってＸ方向に
駆動される。
感光基板台１２を上方移動させる押圧手段として、例え
ばピストンとエアシリンダのようにスラスト方向にある
程度弾性を有する４個のアクチュエータ１７が設けられ
、さらに感光基板台１２の上下移動を案内する昇降用ガ
イド１８が設けられている。その感光基板台１２を上下
移動可能に支持するステージ本体１３は、ステージ基台
１０上に設けられたリニアモータ１９によってＸ方向に
駆動される。
一方、ステージ基台１０上には、感光面位置規正手段と
して、移動ステージ１１の移動通路の上部を第２図に示
す如く横切って、焦点面位置決めへフド２０が固設され
ている。この焦点面位置決めヘッド２０は、移動ステー
ジ１１の通路を挟む脚部２１と、その通路の上方を横切
って設けられた２本のＸ方向に長いエアスラストバンド
２２とから成り、ｆθレンズ５からミラー６を介して投
射される光スポットが、その２本のエアスラストパッド
２２の間のすき間２３を介して、感光基板７の上面を走
査するように構成されている。また、そのエフスラスト
パッド２２の下面には、複数の空気噴射孔が光スポット
の走査方向に沿って設けられ、その下面に極めて近接し
た距離Ｓの位置にｆθレンズ５の焦点面が在るように、
ｆθレンズ５、ミラー６およびエアスラストパッド２２
の相対位置が調整されている。さらに、アクチュエータ
１７によって感光基板台１２が押し上げられ、その感光
基板台１２上の感光基板７の上面がエアスラストパッド
２２の下面に近接したとき、その感光基板７の上面はエ
アスラストパッド２２から噴射される空気圧によってｆ
θレンズ５の焦点深度内の位置に保持されるように構成
されている。
して、移動ステージ１１の移動通路の上部を第２図に示
す如く横切って、焦点面位置決めへフド２０が固設され
ている。この焦点面位置決めヘッド２０は、移動ステー
ジ１１の通路を挟む脚部２１と、その通路の上方を横切
って設けられた２本のＸ方向に長いエアスラストバンド
２２とから成り、ｆθレンズ５からミラー６を介して投
射される光スポットが、その２本のエアスラストパッド
２２の間のすき間２３を介して、感光基板７の上面を走
査するように構成されている。また、そのエフスラスト
パッド２２の下面には、複数の空気噴射孔が光スポット
の走査方向に沿って設けられ、その下面に極めて近接し
た距離Ｓの位置にｆθレンズ５の焦点面が在るように、
ｆθレンズ５、ミラー６およびエアスラストパッド２２
の相対位置が調整されている。さらに、アクチュエータ
１７によって感光基板台１２が押し上げられ、その感光
基板台１２上の感光基板７の上面がエアスラストパッド
２２の下面に近接したとき、その感光基板７の上面はエ
アスラストパッド２２から噴射される空気圧によってｆ
θレンズ５の焦点深度内の位置に保持されるように構成
されている。
この場合、エアスラストパッド２２から噴出される空気
が感光基板７を下方へ押圧する空気圧と、感光基板７と
共に感光基板台１２を上方へ押し上げるに必要なアクチ
ュエータ１７のエアシリンダ内の空気圧とがバランスし
て感光基板台１２の上昇が停止するように、エアスラス
トパッド側の空気圧は一定に調整され、アクチュエータ
１７例のエアシリンダ内の空気圧が多少変化しても、感
光基板７の上面はｆθレンズの焦点深度内にあり、エア
スラストパッド２２の下面との間隔Ｓが実質的に変らな
いように構成されている。
が感光基板７を下方へ押圧する空気圧と、感光基板７と
共に感光基板台１２を上方へ押し上げるに必要なアクチ
ュエータ１７のエアシリンダ内の空気圧とがバランスし
て感光基板台１２の上昇が停止するように、エアスラス
トパッド側の空気圧は一定に調整され、アクチュエータ
１７例のエアシリンダ内の空気圧が多少変化しても、感
光基板７の上面はｆθレンズの焦点深度内にあり、エア
スラストパッド２２の下面との間隔Ｓが実質的に変らな
いように構成されている。
次に、上記実施例の作用について詳しく説明する。
先ず、焦点面位置決めヘッド２０の位置から第１図中で
左方へステージ１１を引き出した後、感光基板台１２を
最下位置まで下降させて、感光基板７を感光基板台１２
上に載置して、真双吸着によって感光基板台１２上に固
定する。次に、リニアモータ１９を駆動させて、ステー
ジ１１と共に感光基板７をｙ方向（第１図中で右方）へ
移動する。その際、ステージ本体１３は、エアバッド１
５とステージ基台１０の上面との間およびエアパッド１
６とステージ用ガイド１４の側面との間の空気ベヤリン
グによって支持され、円滑に移動する。また、焦点面位
置決めヘッド２０のエアスラストパッド２２から下方へ
向って間隙測定のための空気が噴射される。
左方へステージ１１を引き出した後、感光基板台１２を
最下位置まで下降させて、感光基板７を感光基板台１２
上に載置して、真双吸着によって感光基板台１２上に固
定する。次に、リニアモータ１９を駆動させて、ステー
ジ１１と共に感光基板７をｙ方向（第１図中で右方）へ
移動する。その際、ステージ本体１３は、エアバッド１
５とステージ基台１０の上面との間およびエアパッド１
６とステージ用ガイド１４の側面との間の空気ベヤリン
グによって支持され、円滑に移動する。また、焦点面位
置決めヘッド２０のエアスラストパッド２２から下方へ
向って間隙測定のための空気が噴射される。
ステージ１１がｙ方向に移動し、感光基板台１２の右端
がエアスラストバンド２２の直下に達すると、図示され
ないステージ位置検出装置によってその位置が検出され
、その検出信号によってアクチュエータ１７が作動し、
感光基板台１２を上昇させる。感光基板７の上面とエア
スラストバンド２２との間の距離が所定間隙Ｓに達しな
い間は、その感光基Ｆｉ７とエアスラストパッド２２と
の間の空気圧が、アクチュエータ１７のエアシリンダー
による押上げ圧より低いので、感光基板台１２は上昇を
続け、所定間隙Ｓに達すると両者の圧力がバランスして
、感光基板台１２はその位置に停止する。その所定間隙
Ｓの位置に、ｆθレンズ５の焦点面が在るので、感光基
板７の上面（感光面）は、ｆθレンズ５の焦点面と合致
して保持される。この場合、エアスラストパッド２２に
よって焦点面に位置決めされる感光基板７は全感光面の
中、光スポットによって走査される付近のみであり、移
動ステージ１１がｙ方向に移動するに従って順次、エア
スラストパッド２２の直下部分が所定間隙Ｓに維持され
るように自動焦点調節される。
がエアスラストバンド２２の直下に達すると、図示され
ないステージ位置検出装置によってその位置が検出され
、その検出信号によってアクチュエータ１７が作動し、
感光基板台１２を上昇させる。感光基板７の上面とエア
スラストバンド２２との間の距離が所定間隙Ｓに達しな
い間は、その感光基Ｆｉ７とエアスラストパッド２２と
の間の空気圧が、アクチュエータ１７のエアシリンダー
による押上げ圧より低いので、感光基板台１２は上昇を
続け、所定間隙Ｓに達すると両者の圧力がバランスして
、感光基板台１２はその位置に停止する。その所定間隙
Ｓの位置に、ｆθレンズ５の焦点面が在るので、感光基
板７の上面（感光面）は、ｆθレンズ５の焦点面と合致
して保持される。この場合、エアスラストパッド２２に
よって焦点面に位置決めされる感光基板７は全感光面の
中、光スポットによって走査される付近のみであり、移
動ステージ１１がｙ方向に移動するに従って順次、エア
スラストパッド２２の直下部分が所定間隙Ｓに維持され
るように自動焦点調節される。
移動ステージ１１がｙ方向に移動し、感光基板７の描画
始点が、２個のエアスラストバンド２２の間のすき間２
１内を通る光スポツト投射光軸として光スポットとして
投射され、感光基板７の上面をラスク走査する。その際
、エアスラストパッド２２の直下の感光基Ｆｉ７の上面
は、エアスラストパッド２２から噴射される空気圧によ
って、工辣 アスラストパフド２２との間に所定の間帰Ｓの位置に常
時保たれる。従って、感光基板７の上面（感光面）は、
移動ステージ１１がｙ方向に移動しても常にｆθレンズ
５の焦点位置に非接触且つ高精度で保持される。
始点が、２個のエアスラストバンド２２の間のすき間２
１内を通る光スポツト投射光軸として光スポットとして
投射され、感光基板７の上面をラスク走査する。その際
、エアスラストパッド２２の直下の感光基Ｆｉ７の上面
は、エアスラストパッド２２から噴射される空気圧によ
って、工辣 アスラストパフド２２との間に所定の間帰Ｓの位置に常
時保たれる。従って、感光基板７の上面（感光面）は、
移動ステージ１１がｙ方向に移動しても常にｆθレンズ
５の焦点位置に非接触且つ高精度で保持される。
その移動ステージ１１の移動中、光スポットにてラスク
走査される描画点付近の感光基板７の上面のみが、部分
的にｆθレンズ５の焦点位置に保持されるため、移動ス
テージ１１のｙ方向のピッチングに対しても、焦点位置
からずれること無く高い焦点合致精度が保持される。ま
た、その焦点合致は非接触で維持されるので、感光面を
傷付けることが無く、また移動ステージのｙ方向の等速
移動に悪影響を与えるようなことは全く無い。さらに、
固定されたエアスラストパッド２２の下面を基準として
感光基ｖｉ７の上面位置が定められるので、感光基板７
の厚さが変化しても、また、感光基板台１２の上面がｙ
方向にわずかに（頃斜あるいは湾曲していても、これに
影響されること無く常に、感光基板７を焦点面に保持さ
せることが可能である。
走査される描画点付近の感光基板７の上面のみが、部分
的にｆθレンズ５の焦点位置に保持されるため、移動ス
テージ１１のｙ方向のピッチングに対しても、焦点位置
からずれること無く高い焦点合致精度が保持される。ま
た、その焦点合致は非接触で維持されるので、感光面を
傷付けることが無く、また移動ステージのｙ方向の等速
移動に悪影響を与えるようなことは全く無い。さらに、
固定されたエアスラストパッド２２の下面を基準として
感光基ｖｉ７の上面位置が定められるので、感光基板７
の厚さが変化しても、また、感光基板台１２の上面がｙ
方向にわずかに（頃斜あるいは湾曲していても、これに
影響されること無く常に、感光基板７を焦点面に保持さ
せることが可能である。
なお、上記の実施例においては、移動ステージ７をエア
バッド１５．１６を介して、リニアモータ１９で移動さ
せるように構成されているが、通常のガイド面を、送り
ねじによって摺動させるように構成してもよい。また感
光基板台１２を上昇させる押圧手段として、ある程度弾
性を有するエアシリンダのようなアクチュエータ１７を
設けたが、ばねの如き弾性部材を介して感光基板台を上
昇させる昇降機構を設けてもよい。
バッド１５．１６を介して、リニアモータ１９で移動さ
せるように構成されているが、通常のガイド面を、送り
ねじによって摺動させるように構成してもよい。また感
光基板台１２を上昇させる押圧手段として、ある程度弾
性を有するエアシリンダのようなアクチュエータ１７を
設けたが、ばねの如き弾性部材を介して感光基板台を上
昇させる昇降機構を設けてもよい。
以上の如く本発明によれば、描画用の感光基板の上面の
位置を規正するエアパッドを含む感光面位置規正手段を
設けたので、感光基板の大きさくステージ移動方向の長
さ）や厚さが異なっても、またステージの移動中でも、
非接触で感光面を所定の位置に常に保持できる。従って
、描画パターンの精度を狂わすことなく、ステージのピ
ッチングやローリングに対する加工精度を粗くすること
ができ、ステージ駆動の制御にも悪影響を与えない利点
がある。また、第１図の実施例の如（描画位置を挾んで
エアパッドを設けるか、描画位置に近接して少なくとも
ステージの移動方向と反対側にエアパッドを設ければ、
エアカーテン効果があり、描画点のゴミを空気噴射によ
って事前に除去できる効果が有る。
位置を規正するエアパッドを含む感光面位置規正手段を
設けたので、感光基板の大きさくステージ移動方向の長
さ）や厚さが異なっても、またステージの移動中でも、
非接触で感光面を所定の位置に常に保持できる。従って
、描画パターンの精度を狂わすことなく、ステージのピ
ッチングやローリングに対する加工精度を粗くすること
ができ、ステージ駆動の制御にも悪影響を与えない利点
がある。また、第１図の実施例の如（描画位置を挾んで
エアパッドを設けるか、描画位置に近接して少なくとも
ステージの移動方向と反対側にエアパッドを設ければ、
エアカーテン効果があり、描画点のゴミを空気噴射によ
って事前に除去できる効果が有る。
第１図はパターン描画装置に組み込まれた本発明の実施
例を示す一部破断側面図で、第２図は第１図のｎ−ｔｔ
断面図、第３図は従来のパターン描画装置の概略構成を
示す斜視図である。 （主要部分の符号の説明〉 ５・・・ｒθレンズ令、 ７・・・感光基板１１・・
・移動ステージ １２・・・感光基板台（感光基板保持台）１３・・・ス
テージ本体 １７・・・アクチュエータ（押圧手段）２０・・・焦点
面位置決めヘッド（感光面位置規正手段）
例を示す一部破断側面図で、第２図は第１図のｎ−ｔｔ
断面図、第３図は従来のパターン描画装置の概略構成を
示す斜視図である。 （主要部分の符号の説明〉 ５・・・ｒθレンズ令、 ７・・・感光基板１１・・
・移動ステージ １２・・・感光基板台（感光基板保持台）１３・・・ス
テージ本体 １７・・・アクチュエータ（押圧手段）２０・・・焦点
面位置決めヘッド（感光面位置規正手段）
Claims (3)
- （１）光スポットの走査により描画用の感光基板上に所
望のパターンを描画可能なパターン描画装置において、
前記光スポットの走査方向と交差して一次元移動可能な
ステージ本体と、前記感光基板を保持し且つ前記ステー
ジ本体上に上下移動可能に設けられた感光基板保持台と
、該感光基板保持台を上方へ弾性的に押圧する押圧手段
と、前記光スポットの走査方向に沿う所定位置に固設さ
れ且つ一定圧の空気を前記感光基板上に噴射するエアパ
ッドとを含む感光面位置規正手段とを備えたことを特徴
とする描画用感光基板の感光面位置保持装置。 - （２）前記感光面位置規正手段は、前記ステージ本体（
１３）の移動通路の上部を横切って設けられた前記エア
パッド（２２）の両端部を支持し且つ前記移動通路を挟
んで両側に固設された一対の腕部（２１）を含むことを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の描画用感光基板
の感光面位置保持装置。 - （３）前記押圧手段は、スラスト方向に弾性を有するエ
アシリンダまたはばねを含むアクチュエータ（１７）で
あって、前記エアパッド（２２）と前記感光基板（７）
の上面との間隙が所定の値に達したときに、前記エアパ
ッド（２２）の噴射空気圧と前記感光基板保持台（１２
）の上昇圧力がバランスするように構成されていること
を特徴とする特許請求の範囲第１項または第２項記載の
描画用感光基板の感光面位置保持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61166158A JPS6321648A (ja) | 1986-07-15 | 1986-07-15 | 描画用感光基板の感光面位置保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61166158A JPS6321648A (ja) | 1986-07-15 | 1986-07-15 | 描画用感光基板の感光面位置保持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6321648A true JPS6321648A (ja) | 1988-01-29 |
Family
ID=15826141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61166158A Pending JPS6321648A (ja) | 1986-07-15 | 1986-07-15 | 描画用感光基板の感光面位置保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6321648A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108909289A (zh) * | 2018-07-26 | 2018-11-30 | 夏逸帆 | 一种激光书法分格尺及其控制系统 |
-
1986
- 1986-07-15 JP JP61166158A patent/JPS6321648A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108909289A (zh) * | 2018-07-26 | 2018-11-30 | 夏逸帆 | 一种激光书法分格尺及其控制系统 |
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