JPS63217627A - 電子線描画装置 - Google Patents
電子線描画装置Info
- Publication number
- JPS63217627A JPS63217627A JP62049985A JP4998587A JPS63217627A JP S63217627 A JPS63217627 A JP S63217627A JP 62049985 A JP62049985 A JP 62049985A JP 4998587 A JP4998587 A JP 4998587A JP S63217627 A JPS63217627 A JP S63217627A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- coil
- current
- compensation
- focus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子線描画装置に係り、特に高速、高精度描画
に好適な電子線描画装置に関するものである。
に好適な電子線描画装置に関するものである。
従来技術を第５図を用いて説明する。電子銃１から放射
された電子４！２は、収束レンズ３により収束され、主
焦点コイル４により試料５上でフォーカスされる。一方
、描画データはＣＰＵ６から偏向信号発生部７に送られ
、描画パターンに応じた偏光信号を静電偏向器８、電磁
偏向器９に与え、電子線２を制御する。電子線２の位置
が決まると、ブランカ１０に信号を与えて電子線２をオ
ン／オフさせて試料５を露光する。決められた領域の描
画を終了すると、ステージ制御回路１１を介して試料５
を載せるステージ１２を次の位置に移動させる。
された電子４！２は、収束レンズ３により収束され、主
焦点コイル４により試料５上でフォーカスされる。一方
、描画データはＣＰＵ６から偏向信号発生部７に送られ
、描画パターンに応じた偏光信号を静電偏向器８、電磁
偏向器９に与え、電子線２を制御する。電子線２の位置
が決まると、ブランカ１０に信号を与えて電子線２をオ
ン／オフさせて試料５を露光する。決められた領域の描
画を終了すると、ステージ制御回路１１を介して試料５
を載せるステージ１２を次の位置に移動させる。
次に、描画方法を第６図によって説明する。ウェハ２１
上のチップ２２は、任意のフィールド２３に分けられる
。第６図の例では、４フイールドで１チツプを構成しで
ある。フィールドとは、電磁偏向で電子線を制御する領
域のことである。
上のチップ２２は、任意のフィールド２３に分けられる
。第６図の例では、４フイールドで１チツプを構成しで
ある。フィールドとは、電磁偏向で電子線を制御する領
域のことである。
フィールド２３は、サブフィールド２４と呼ばれる小さ
い領域に分割される。まず、サブフィールド■内を静電
偏向にて高速に描画し１次に、電磁偏向でサブフィール
ド■の位置決めを行う。このとき、発生する電子線の焦
点ぼけを補償するために、第５図の動的焦点補償率コイ
ル１３に補償電（流を流す。電磁偏向器９に流す電磁偏
向信号と動的焦点補償コイル１３に流す動的焦点補償信
号が十分整定された後、静電偏向器８による静電偏向に
てサブフィールド■を描画する。これをサブフィールド
■以降も繰り返してフィールドａ全面を描画する。次に
、ステージ１２を移動させ、フィールドｂの位置決めを
行った後、同様にしてフィールドｂを描画する。動的焦
点補償コイル１３の働きは、いわば主焦点コイル４の焦
点距離を変えることであり、主焦点コイル４と近接して
設置される。そのため、動的焦点補償コイル１３に補償
電流を流したときに発生する磁束が、主焦点コイル４と
鎖交し、主焦点コイル４に磁気誘導電流を発生させる。
い領域に分割される。まず、サブフィールド■内を静電
偏向にて高速に描画し１次に、電磁偏向でサブフィール
ド■の位置決めを行う。このとき、発生する電子線の焦
点ぼけを補償するために、第５図の動的焦点補償率コイ
ル１３に補償電（流を流す。電磁偏向器９に流す電磁偏
向信号と動的焦点補償コイル１３に流す動的焦点補償信
号が十分整定された後、静電偏向器８による静電偏向に
てサブフィールド■を描画する。これをサブフィールド
■以降も繰り返してフィールドａ全面を描画する。次に
、ステージ１２を移動させ、フィールドｂの位置決めを
行った後、同様にしてフィールドｂを描画する。動的焦
点補償コイル１３の働きは、いわば主焦点コイル４の焦
点距離を変えることであり、主焦点コイル４と近接して
設置される。そのため、動的焦点補償コイル１３に補償
電流を流したときに発生する磁束が、主焦点コイル４と
鎖交し、主焦点コイル４に磁気誘導電流を発生させる。
この主焦点コイル４に発生した磁気誘導電流により電子
線２は偏向及びフォーカスされ、描画精度を顕しく低下
される。また、描画精度を向上させるために、磁気誘導
電流が十分整定された後描画すると、磁気誘導電流が整
定するまでに約５００μｓかかり、スループットが大幅
に低下してしまう。
線２は偏向及びフォーカスされ、描画精度を顕しく低下
される。また、描画精度を向上させるために、磁気誘導
電流が十分整定された後描画すると、磁気誘導電流が整
定するまでに約５００μｓかかり、スループットが大幅
に低下してしまう。
上記従来技術によれば、動的焦点補償コイルに補償電流
を流したときに発生する磁束が主焦点コ清。
を流したときに発生する磁束が主焦点コ清。
イルに鎖交し、主部点コイルに磁気誘導電流を発生し、
電子線は偏向、フォーカスされ、描画精度を顕しく低下
させるという問題があった。
電子線は偏向、フォーカスされ、描画精度を顕しく低下
させるという問題があった。
本発明の目的は主焦点コイルに発生する磁気誘導電流を
補償し、スループットを落すことなく描画精度を向上す
ることができる電子線描画装置を提供することにある。
補償し、スループットを落すことなく描画精度を向上す
ることができる電子線描画装置を提供することにある。
上記ｉ的は一１動的焦点補償コイル電流の変化により主
焦点コイルに発生する電磁誘導電流を補償する電流を上
記主焦点コイルに流し込む誘導補償回路を設けた構成と
して達成するようにした。
焦点コイルに発生する電磁誘導電流を補償する電流を上
記主焦点コイルに流し込む誘導補償回路を設けた構成と
して達成するようにした。
本発明では、動的焦点補償コイルの励磁電流の変化によ
り主焦点コイルに発生する磁気誘導電流と同量、逆方向
の電流を主焦点コイルに流し込むようにしたので、主焦
点コイルに発生した磁気誘導電流を補償することができ
、スループットを落すことなく描画精度を向上すること
ができる。
り主焦点コイルに発生する磁気誘導電流と同量、逆方向
の電流を主焦点コイルに流し込むようにしたので、主焦
点コイルに発生した磁気誘導電流を補償することができ
、スループットを落すことなく描画精度を向上すること
ができる。
以下本発明を第１図、第２図、第４図に示した実施例お
よび第３図を用いて詳細に説明する。
よび第３図を用いて詳細に説明する。
第１図は本発明の電子線描画装置の一実施例を示す概略
構成図である。第１図において５第５図と同一部分は同
じ符号で示し、ここでは説明を省略する。第１図におい
ては、従来の主焦点コイル４と動的焦点補償コイル１３
との間に誘導補償回路１４を設け、従来通り電子銃１か
ら放射された電子線２は、描画パターンに応じて試料５
上で偏向され、試料５に露光される。サブフィールド位
置決め信号が電磁偏向信号９に出力されると同時（ｔｌ
）に動的焦点補償コイル１３に焦点補償電流が流れる。
構成図である。第１図において５第５図と同一部分は同
じ符号で示し、ここでは説明を省略する。第１図におい
ては、従来の主焦点コイル４と動的焦点補償コイル１３
との間に誘導補償回路１４を設け、従来通り電子銃１か
ら放射された電子線２は、描画パターンに応じて試料５
上で偏向され、試料５に露光される。サブフィールド位
置決め信号が電磁偏向信号９に出力されると同時（ｔｌ
）に動的焦点補償コイル１３に焦点補償電流が流れる。
第２図は第１図の主焦点コイル部の詳細の一実施例を示
す回路図である。４は主焦点コイル。
す回路図である。４は主焦点コイル。
１３が動的焦点補償コイルで、１４は誘導補償回路であ
る。
る。
第３図は第２図におけるコイル電流の時間的変化を示す
線図で、動的焦点補償コイル１３に時刻Ｌ１において焦
点補償電流５１が流れると、第３図（ａ）に示すように
主焦点コイル４に磁気誘導電流５２が流れる。一方、焦
点補償電流５１により誘導補償回路１４で主焦点コイル
４で発生した磁気誘導電流５２と同量で逆方向の誘電導
流５３が第３図（ｂ）に示すように発生し、これが主焦
点コイル４に流れ込む。つまり、主焦点コイル４で発生
した磁気誘導電流５２は、誘導補償回路１４から流れ込
む誘導電流５３によって相殺され、第３図（ｃ）に示す
ように、主焦点コイル電流５４は変化しなかったことと
同価になる。
線図で、動的焦点補償コイル１３に時刻Ｌ１において焦
点補償電流５１が流れると、第３図（ａ）に示すように
主焦点コイル４に磁気誘導電流５２が流れる。一方、焦
点補償電流５１により誘導補償回路１４で主焦点コイル
４で発生した磁気誘導電流５２と同量で逆方向の誘電導
流５３が第３図（ｂ）に示すように発生し、これが主焦
点コイル４に流れ込む。つまり、主焦点コイル４で発生
した磁気誘導電流５２は、誘導補償回路１４から流れ込
む誘導電流５３によって相殺され、第３図（ｃ）に示す
ように、主焦点コイル電流５４は変化しなかったことと
同価になる。
以上により、動的焦点補償電流が変化しても。
主焦点コイル４には見かけ上電磁誘導電流が発生しない
ことになり、スループットを落すことなく、描画精度を
向上することができる。
ことになり、スループットを落すことなく、描画精度を
向上することができる。
第４図は本発明の他の実施例を示す第２図に相当する回
路図で、第４図においては、第２図の誘導補償回路１４
として微分回路１５を設けてあり、このようにしても同
様の効果を得ることができる。
路図で、第４図においては、第２図の誘導補償回路１４
として微分回路１５を設けてあり、このようにしても同
様の効果を得ることができる。
以上説明したように、本発明によれば、動的焦点補償電
流の変化にともなう主焦点コイルへの電磁誘導電流を補
償することができるため、誘導電流の整定を持つ必要が
ないので、スループットを低下することなく高精度の描
画が可能になるという効果がある。
流の変化にともなう主焦点コイルへの電磁誘導電流を補
償することができるため、誘導電流の整定を持つ必要が
ないので、スループットを低下することなく高精度の描
画が可能になるという効果がある。
第１図は本発明の電子線描画装置の一実施例を示す構成
図、第２図の主焦点コイル部の一実施例を示す配線図、
第３図は第２図におけるコイル電流の時間的変化を示す
線図、第４図は本発明の他の実施例を示す第２図に相当
する回路図、第５図は従来の電子線描画装置の構成図、
第６図は描画方法の説明図である。 １・・・電子銃、２・・・電子線、３・・・収束レンズ
、４・・・主焦点コイル、５・・・試料、６・・・ＣＰ
Ｕ、７・・・偏向信号発生部、８・・・静電偏向器、９
・・・電磁偏向器、１０・・・ブランカ、１１・・・ス
テージ制御回路、１２・・・ステージ、１３・・・動的
焦点補償コイル、１４・・・誘導補償回路、１５・・・
微分回路、５１・・・焦点補償電流、５２・・・磁気誘
導電流、５３・・・誘導電流、５４・・・主焦点コイル
電流。 皐２図 （Ｃ）
図、第２図の主焦点コイル部の一実施例を示す配線図、
第３図は第２図におけるコイル電流の時間的変化を示す
線図、第４図は本発明の他の実施例を示す第２図に相当
する回路図、第５図は従来の電子線描画装置の構成図、
第６図は描画方法の説明図である。 １・・・電子銃、２・・・電子線、３・・・収束レンズ
、４・・・主焦点コイル、５・・・試料、６・・・ＣＰ
Ｕ、７・・・偏向信号発生部、８・・・静電偏向器、９
・・・電磁偏向器、１０・・・ブランカ、１１・・・ス
テージ制御回路、１２・・・ステージ、１３・・・動的
焦点補償コイル、１４・・・誘導補償回路、１５・・・
微分回路、５１・・・焦点補償電流、５２・・・磁気誘
導電流、５３・・・誘導電流、５４・・・主焦点コイル
電流。 皐２図 （Ｃ）
Claims (1)
- １、電子線を発生する手段と、前記電子線を収束する手
段と、該手段によつて収束された電子線を試料上にフォ
ーカスする主焦点コイルと、前記試料上で前記収束され
た電子線を走査する偏向手段と、前記電子線の偏向量に
応じて該電子線を前記試料上でフォーカスさせる動的焦
点補償コイルと、前記電子線を前記試料上にオン／オフ
させるブランキング手段とを備えた電子線描画装置にお
いて、動的焦点補償コイル電流の変化によつて前記主焦
点コイルに発生する電磁誘導電流を補償する電流を前記
主焦点コイルに流し込む誘導補償回路を設けたことを特
徴とする電子線描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62049985A JPS63217627A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | 電子線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62049985A JPS63217627A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | 電子線描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63217627A true JPS63217627A (ja) | 1988-09-09 |
Family
ID=12846310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62049985A Pending JPS63217627A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | 電子線描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63217627A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6244943A (ja) * | 1985-08-22 | 1987-02-26 | Hitachi Ltd | 電子線露光装置 |
-
1987
- 1987-03-06 JP JP62049985A patent/JPS63217627A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6244943A (ja) * | 1985-08-22 | 1987-02-26 | Hitachi Ltd | 電子線露光装置 |
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