JPS63223701A - 高屈折率コ−テイング膜およびその製造方法 - Google Patents
高屈折率コ−テイング膜およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS63223701A JPS63223701A JP62058251A JP5825187A JPS63223701A JP S63223701 A JPS63223701 A JP S63223701A JP 62058251 A JP62058251 A JP 62058251A JP 5825187 A JP5825187 A JP 5825187A JP S63223701 A JPS63223701 A JP S63223701A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- group
- high refractive
- fine particles
- coating film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 53
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 21
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 19
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 16
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 12
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 45
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 10
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- JCGDCINCKDQXDX-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-trimethoxysilylethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC[Si](OC)(OC)OC JCGDCINCKDQXDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- GDDNTTHUKVNJRA-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-3,3-difluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)(Br)C=C GDDNTTHUKVNJRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPCRDALPQLDDFX-UHFFFAOYSA-L Magnesium perchlorate Chemical compound [Mg+2].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O MPCRDALPQLDDFX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- HPGPEWYJWRWDTP-UHFFFAOYSA-N lithium peroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][O-] HPGPEWYJWRWDTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 2
- CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N methanediol Chemical compound OCO CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000005083 alkoxyalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCC=C JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000001891 dimethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000000986 disperse dye Substances 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000019256 formaldehyde Nutrition 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical class OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000000518 rheometry Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プラスチック、金属、セラミック。
ガラス等の基材の摩耗性を向上させる光学簿膜およびそ
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
更に詳しくは、プラスチック、金属、セラミック、ガラ
ス等の基材の表面にもうけることにより、耐擦傷性、耐
摩耗性、耐水性、耐薬品性、汚れ防止性、耐熱性、可染
性、耐候性な向上させ、また、基材との屈折率のmAに
より導かれる光干渉を発生させるのに有効な高屈折率コ
ーティング膜およびその製造方法に関する。
ス等の基材の表面にもうけることにより、耐擦傷性、耐
摩耗性、耐水性、耐薬品性、汚れ防止性、耐熱性、可染
性、耐候性な向上させ、また、基材との屈折率のmAに
より導かれる光干渉を発生させるのに有効な高屈折率コ
ーティング膜およびその製造方法に関する。
従来、シリコン系のコーティング膜は、耐摩耗性、耐熱
性、耐候性にすぐれ、プラスチック、木材、金属の表面
に施すことにより、基材の特性向上に利用されてきてお
り、金属、プラスチック分骨での産業分野での応用は幅
広いものである。この開示技術としては、例えば、米国
特許第3986997号等に記載されたコロイド状シリ
カとメチルトリメトキシシランから導かれるハードコー
ト或いは、特公昭57−2735号等のコロイダルシリ
カとエポキシ系材料から導かれるハードコート、或いは
、特公昭55−29102号等に記載されたアルキルト
リアルコキシシラン、オルソオルガノシリケートから導
かれるハードコート等がある。
性、耐候性にすぐれ、プラスチック、木材、金属の表面
に施すことにより、基材の特性向上に利用されてきてお
り、金属、プラスチック分骨での産業分野での応用は幅
広いものである。この開示技術としては、例えば、米国
特許第3986997号等に記載されたコロイド状シリ
カとメチルトリメトキシシランから導かれるハードコー
ト或いは、特公昭57−2735号等のコロイダルシリ
カとエポキシ系材料から導かれるハードコート、或いは
、特公昭55−29102号等に記載されたアルキルト
リアルコキシシラン、オルソオルガノシリケートから導
かれるハードコート等がある。
また、これらのハードコートの染色性、可撓性を増す方
法として、特開昭56−161475号同59−1O2
9+54号、同59−1’95969号95B−222
160号には、ビス(アルコ午シシリル)化合物とコロ
イド状シリカおよび必要に応じ、シランカップリング剤
よりなるコーティング組成物が開示されている。
法として、特開昭56−161475号同59−1O2
9+54号、同59−1’95969号95B−222
160号には、ビス(アルコ午シシリル)化合物とコロ
イド状シリカおよび必要に応じ、シランカップリング剤
よりなるコーティング組成物が開示されている。
また、一方では、ゾルゲル法と呼ばれる方法による耐摩
耗性薄膜の形成も注目される。即ち、代表的な例として
は、金属アルコラードを、溶剤存在下、加水゛分解およ
び必要により予備縮重合させ、塗布後、加熱等により、
熱分解と縮重合を完結させ、非晶質膜を形成するもので
ある。これらの技術の開示例としては、例えば、表面、
Tom、 19、随8,430−457(1981)
や、日本レオロジー学会誌、 Tol、 14 、9
(1986)あるいは、I’hysia of Th1
n 711m5 、 Tol、 5 、87−141(
1969)やTh1n 8o11d Films 。
耗性薄膜の形成も注目される。即ち、代表的な例として
は、金属アルコラードを、溶剤存在下、加水゛分解およ
び必要により予備縮重合させ、塗布後、加熱等により、
熱分解と縮重合を完結させ、非晶質膜を形成するもので
ある。これらの技術の開示例としては、例えば、表面、
Tom、 19、随8,430−457(1981)
や、日本レオロジー学会誌、 Tol、 14 、9
(1986)あるいは、I’hysia of Th1
n 711m5 、 Tol、 5 、87−141(
1969)やTh1n 8o11d Films 。
Tol、77.129−139(1981)等がある。
この方法の長所は、種々の熱分解性、あるいは加水分解
性金属材料を任意に混合することが出来ることで、その
結果として、屈折率を選べること、特にガラスにくらぺ
高い屈折率の薄膜を得ることが出来る。
性金属材料を任意に混合することが出来ることで、その
結果として、屈折率を選べること、特にガラスにくらぺ
高い屈折率の薄膜を得ることが出来る。
一方、比較的低温で硬化し、プラスチック材料にも応用
出来る高屈折率薄膜用組成物では、開示技術が数少ない
が、屈折率が比較的高い事が予想されるアンチモンゾル
を用いたコーティング組成物が特開昭57−16892
2号に、また、テトラアルキルジルコニウムを使用する
例が特開昭57−37501号に記載されている。
出来る高屈折率薄膜用組成物では、開示技術が数少ない
が、屈折率が比較的高い事が予想されるアンチモンゾル
を用いたコーティング組成物が特開昭57−16892
2号に、また、テトラアルキルジルコニウムを使用する
例が特開昭57−37501号に記載されている。
しかし、先述の例のうち、米国特許第5986997号
゛、特公昭57−2755号、同55−29102号、
特開昭56−161475号、同59−1029t54
号、同59−193969号。
゛、特公昭57−2755号、同55−29102号、
特開昭56−161475号、同59−1029t54
号、同59−193969号。
同5B−222160号の例では、塗膜の屈折率はすべ
て、約1.5であり、一般的な樹脂基材とほぼ同じ屈折
率であり本発明における光学機能膜として問題がある。
て、約1.5であり、一般的な樹脂基材とほぼ同じ屈折
率であり本発明における光学機能膜として問題がある。
また、特開昭57−168922号、同57−5750
1”号のものは耐水性に劣りまた屈折率が充分高くない
という問題点を有する。
1”号のものは耐水性に劣りまた屈折率が充分高くない
という問題点を有する。
また、表面、Tol、19.Nn8,450−457(
1981)等に開示されたゾル・ゲル法と呼ばれる方法
では、膜形成に高温を要し、プラスチック材料の熱変形
や、金属基材の場合、醸化をひきおこす等の問題がある
。
1981)等に開示されたゾル・ゲル法と呼ばれる方法
では、膜形成に高温を要し、プラスチック材料の熱変形
や、金属基材の場合、醸化をひきおこす等の問題がある
。
そこで、本発明は、これらの問題点を解決するために鋭
意検討し得られたもので、その目的とするところは、プ
ラスチックあるいは金属等にも形成可能なように、低温
硬化可能であり、かつ、耐摩耗性、耐水性、耐薬品性等
にすぐれた罠において、屈折率が1.5から、1.95
1で任意に設定出来る塗膜を得るものである。
意検討し得られたもので、その目的とするところは、プ
ラスチックあるいは金属等にも形成可能なように、低温
硬化可能であり、かつ、耐摩耗性、耐水性、耐薬品性等
にすぐれた罠において、屈折率が1.5から、1.95
1で任意に設定出来る塗膜を得るものである。
さらには、屈折率を任意に設定することにより容易に反
射防止膜や反射増加膜の形成に応用出来る塗膜を得るも
のである。
射防止膜や反射増加膜の形成に応用出来る塗膜を得るも
のである。
さらには、゛これらの機能を発現する高屈折率コーティ
ング膜の製造法を得るものである。
ング膜の製造法を得るものである。
本発明の高屈折率コーティング膜は、下記人およびBを
主成分とし、人が5〜90重量%、Bが95〜10重量
%、Oが0〜60重量%からなることを特徴とする。
主成分とし、人が5〜90重量%、Bが95〜10重量
%、Oが0〜60重量%からなることを特徴とする。
A6粒粒径1〜50ミリクロンの酸化セリウム微粒子。
で表わされる存機シラン化合物(但し、式中Rは、炭素
数1ないし6の炭化水素基、Xは、2ないし40の炭素
原子を含も有機基であり、またαは口ないし2の整数で
ある)。
数1ないし6の炭化水素基、Xは、2ないし40の炭素
原子を含も有機基であり、またαは口ないし2の整数で
ある)。
C1粒径1〜50ミリミクロンのシリカ微粒子また、更
には、前記高屈折率コーティング膜を得るにあたり高屈
折率成分として粒径1〜50ミリミクロンの酸化セリウ
ム微粒子、中屈折率成分として粒径1〜50ミリミク四
ンのシリカ微粒子を用い、バインダとして、一般式 キシル基、アルコ午ジアルコキジル基、アシル基、アル
ケノキシ基、アシルオ、キシ基、ハロゲン基、水素基か
ら選ばれる脱離基であり、Rは炭素数・1ないし6の炭
化水素基、Xは、2ないし40の炭素原子を含む有機基
、αは、0ないし2の整数である)、及び、フローコン
トロール剤、触媒を、少くとも1重量%の水を含も溶剤
に均一に溶解或いは分散させることにより得られたコー
ティング液を、基材に塗布し、80υ〜200℃の温度
で硬化させ実質的に酸化セリウムと、一般式、応じシリ
カ微粒子とからなる膜を形成させる工程−において、酸
化セリウムとケイ素成分の比を変えることによりコーテ
ィング膜の屈折率を中屈折率から高屈折率領域において
任意に設定出来るようにしたことを特徴とする。
には、前記高屈折率コーティング膜を得るにあたり高屈
折率成分として粒径1〜50ミリミクロンの酸化セリウ
ム微粒子、中屈折率成分として粒径1〜50ミリミク四
ンのシリカ微粒子を用い、バインダとして、一般式 キシル基、アルコ午ジアルコキジル基、アシル基、アル
ケノキシ基、アシルオ、キシ基、ハロゲン基、水素基か
ら選ばれる脱離基であり、Rは炭素数・1ないし6の炭
化水素基、Xは、2ないし40の炭素原子を含む有機基
、αは、0ないし2の整数である)、及び、フローコン
トロール剤、触媒を、少くとも1重量%の水を含も溶剤
に均一に溶解或いは分散させることにより得られたコー
ティング液を、基材に塗布し、80υ〜200℃の温度
で硬化させ実質的に酸化セリウムと、一般式、応じシリ
カ微粒子とからなる膜を形成させる工程−において、酸
化セリウムとケイ素成分の比を変えることによりコーテ
ィング膜の屈折率を中屈折率から高屈折率領域において
任意に設定出来るようにしたことを特徴とする。
次に、コーティング組成物の構成を中心に本発明の高屈
折率コーティング膜およびその製造方法につき更に詳し
く述べる。
折率コーティング膜およびその製造方法につき更に詳し
く述べる。
屈折率の調整に関しては、酸化セリウムのバルクの屈折
率が約2.2であり、シリカ微粒子あるいであるビスシ
ラン化合物は概ね1.5である為、酸せることにより、
コーティング膜の屈折率は、1、・50から1.95、
実質的に、1.55から1.85の領域で任意に設定出
来る。屈折率が、1.85以上では、膜の硬さ等、やや
変化をきたし、1.95以上の屈折率を引き出すことは
不可能である。
率が約2.2であり、シリカ微粒子あるいであるビスシ
ラン化合物は概ね1.5である為、酸せることにより、
コーティング膜の屈折率は、1、・50から1.95、
実質的に、1.55から1.85の領域で任意に設定出
来る。屈折率が、1.85以上では、膜の硬さ等、やや
変化をきたし、1.95以上の屈折率を引き出すことは
不可能である。
ここで、人である酸化セリウムは5〜90重量%が可能
な範囲で、5ri1量%以下では、屈折率調整の効果が
なく、また、90重量%以上では、膜が脆くなる1次に
、Bであるビスシラン化合物は95〜10重量が適切で
あるが、特にこの使用量は少なくする方がよい、Bが9
5重量外以上で(1膜の硬さが低下し、10重蓋%以下
となると膜の弾力性が不充分となり剥れおちる0次に、
Cであるシリカ微粒子は、0〜60重量%が適切である
、即ち、Oは無くてもよ)sが1、入の酸化セリウム゛
微粒子が少ない場合、狙いの屈折率をさほど高くしない
場合、屈折率を引き下げる為の勢選剤として添加する。
な範囲で、5ri1量%以下では、屈折率調整の効果が
なく、また、90重量%以上では、膜が脆くなる1次に
、Bであるビスシラン化合物は95〜10重量が適切で
あるが、特にこの使用量は少なくする方がよい、Bが9
5重量外以上で(1膜の硬さが低下し、10重蓋%以下
となると膜の弾力性が不充分となり剥れおちる0次に、
Cであるシリカ微粒子は、0〜60重量%が適切である
、即ち、Oは無くてもよ)sが1、入の酸化セリウム゛
微粒子が少ない場合、狙いの屈折率をさほど高くしない
場合、屈折率を引き下げる為の勢選剤として添加する。
従って、本発明の用途は目的とする屈折率に対し、A、
B、Oの組成比を上記範囲内で変化させるものである。
B、Oの組成比を上記範囲内で変化させるものである。
クロン以上であると膜中で酸化セリウム粒子とシラン系
バインダの界面の反射が可視或に及び、コーティング液
の透明性が損われる。tた、1ミリミクロン以下ではコ
ーティング膜の耐水性が劣る傾向にあり、また、より過
酷な硬化条件が必要となる。
バインダの界面の反射が可視或に及び、コーティング液
の透明性が損われる。tた、1ミリミクロン以下ではコ
ーティング膜の耐水性が劣る傾向にあり、また、より過
酷な硬化条件が必要となる。
酸化セリウムは、一般には、二酸化セリウムの形で、水
あるいは溶剤に分散させたコロイド液が入手し易く、操
作も楽である。しかし、これに限定されず、例えば、昨
今、技術進展の著しい粉砕法あるいは、気相合成法等に
より得られたものを分散媒中に均一に分散し用いること
も可能と思われる。
あるいは溶剤に分散させたコロイド液が入手し易く、操
作も楽である。しかし、これに限定されず、例えば、昨
今、技術進展の著しい粉砕法あるいは、気相合成法等に
より得られたものを分散媒中に均一に分散し用いること
も可能と思われる。
また、シリカ微粒子も酸化セリウム微粒子と同様の理由
で、同様の形態のものを用いることができる。
で、同様の形態のものを用いることができる。
次に、Bで述べるビスシラン化合物は、コーティング液
に用いる際の原料として、 れるが、このXの具体例としては −0H2−。
に用いる際の原料として、 れるが、このXの具体例としては −0H2−。
(its
から選ばれる。ここで6は、1ないし4である。
また、Yは、メトキシ、エト午シ、プロ°ボキシ等のア
ルコ午シル基、メト午ジメトキシ基等のアルキシアルコ
キシ基、クロロ、プロ七等のハロゲン基や水素、インプ
ロペノ午シ基等から選ぐれるがこれらは、コーティング
組成物調合時に加水分解あるいは一部が脱水縮合される
ため本質的に、水あるいは触媒の存在下、脱離すれば条
件を満たすと考えられる。
ルコ午シル基、メト午ジメトキシ基等のアルキシアルコ
キシ基、クロロ、プロ七等のハロゲン基や水素、インプ
ロペノ午シ基等から選ぐれるがこれらは、コーティング
組成物調合時に加水分解あるいは一部が脱水縮合される
ため本質的に、水あるいは触媒の存在下、脱離すれば条
件を満たすと考えられる。
また、ケイ素に直接、Rで示されるメチル、エチル基等
が結合したものも、柔軟性と弾力性を得るために添加可
能である。
が結合したものも、柔軟性と弾力性を得るために添加可
能である。
これらは、溶液タイプのコーティング液を作成し基材に
塗布し、加熱硬化させてコーティング膜とすることが一
般的で有利である。このために、A、Oは、水または、
アルコール、有機溶剤等に分散させたゾルが望ましく、
適度な安定剤1分散剤等の添加も許容される。また、B
の原料も、溶剤中、あるいは無溶剤下、水や酸性水等で
加水分解を行い、予め、脱離基を水酸基に変換しておく
事ができる。これらを混合し、適切な溶剤で希釈して用
いられる。溶剤としては、アルコール類やケ、トン、エ
ステル等が有用である。
塗布し、加熱硬化させてコーティング膜とすることが一
般的で有利である。このために、A、Oは、水または、
アルコール、有機溶剤等に分散させたゾルが望ましく、
適度な安定剤1分散剤等の添加も許容される。また、B
の原料も、溶剤中、あるいは無溶剤下、水や酸性水等で
加水分解を行い、予め、脱離基を水酸基に変換しておく
事ができる。これらを混合し、適切な溶剤で希釈して用
いられる。溶剤としては、アルコール類やケ、トン、エ
ステル等が有用である。
これら以外に、塗布性の向上の為の界面活性剤や、シラ
ノール縮重合を促進する為の触媒を添加することも有用
である。これらの例としては、例えば、特開昭56−9
9265号等に記載されている酸、有機酸塩、配位化合
物や過塩素酸アンモニウム、過塩素酸マグネシウム等の
過塩素酸塩類、チタンアルコラードや、各種の塩類が挙
げられる。
ノール縮重合を促進する為の触媒を添加することも有用
である。これらの例としては、例えば、特開昭56−9
9265号等に記載されている酸、有機酸塩、配位化合
物や過塩素酸アンモニウム、過塩素酸マグネシウム等の
過塩素酸塩類、チタンアルコラードや、各種の塩類が挙
げられる。
本発明の高屈折率コーティング膜の膜厚は、[1,1〜
30ミクロンであることが好ましい、また、反射防止あ
るいは反射増加膜として用いる場合には、多層膜の光学
的な設計膜厚とすることは云う迄もない、その塗布法と
しては、周知の如く、スプレ、−法、ディッピダグ法、
スピンナー法、フローコート法、ロールコート法、へケ
塗り法等により塗布する。
30ミクロンであることが好ましい、また、反射防止あ
るいは反射増加膜として用いる場合には、多層膜の光学
的な設計膜厚とすることは云う迄もない、その塗布法と
しては、周知の如く、スプレ、−法、ディッピダグ法、
スピンナー法、フローコート法、ロールコート法、へケ
塗り法等により塗布する。
また、A、B及びOのみで染色性が得られるが、更に染
色性を向上させる為に、工メキシ化合物ヤ、メリエチレ
ングリコール、多価アルコールや多価脂肪酸等を加える
こともできる。
色性を向上させる為に、工メキシ化合物ヤ、メリエチレ
ングリコール、多価アルコールや多価脂肪酸等を加える
こともできる。
この様にして得られたコーティング組成物は基材に塗布
後、風乾、熱硬化あるいは、活性エネルギー線照射によ
る硬化を行うが゛、好ましい条件は80℃〜200℃の
温風中にて、縮合反応させるとよい、特に耐熱性の劣る
基材の場合には、80℃〜150℃の間が望ましい、あ
るいは活性工、、ネルギー線として遠赤外レーザー等に
て、数秒以内の処理により熱損傷を低くおさえることも
考えられる。
後、風乾、熱硬化あるいは、活性エネルギー線照射によ
る硬化を行うが゛、好ましい条件は80℃〜200℃の
温風中にて、縮合反応させるとよい、特に耐熱性の劣る
基材の場合には、80℃〜150℃の間が望ましい、あ
るいは活性工、、ネルギー線として遠赤外レーザー等に
て、数秒以内の処理により熱損傷を低くおさえることも
考えられる。
以上のようにして調合して得られるコーティング用組成
物は、各種光学用無機ガラスやポリカーボネートをはじ
めとして、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリ塩
化ビニル、ポリスチレンテ■ レフタレ−)、0R−59#その他スチレンと核置換ハ
ロゲン化ビスフェノール系七ツマ−との共重合体、或い
はアリル樹脂等、透明なプラスチック材料に適用する事
により、その効果を発揮する。
物は、各種光学用無機ガラスやポリカーボネートをはじ
めとして、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリ塩
化ビニル、ポリスチレンテ■ レフタレ−)、0R−59#その他スチレンと核置換ハ
ロゲン化ビスフェノール系七ツマ−との共重合体、或い
はアリル樹脂等、透明なプラスチック材料に適用する事
により、その効果を発揮する。
〔5作用〕
本発明は、AおよびCという無機物微粒子と、Bである
ビスシラン化合物系バインダを含むが、A、Bおよび0
は単独では硬さ、耐摩耗性、耐水性、密着性が不充分で
ある。しかし、Aまたは、AおよびOを核として、この
表面あるいは周辺をBの反応基が縮重合し結合形成や埋
めこみの効果により特性が向上したものである。
ビスシラン化合物系バインダを含むが、A、Bおよび0
は単独では硬さ、耐摩耗性、耐水性、密着性が不充分で
ある。しかし、Aまたは、AおよびOを核として、この
表面あるいは周辺をBの反応基が縮重合し結合形成や埋
めこみの効果により特性が向上したものである。
更にまた、縮合反応基をすべて、シリコン系材料による
、191−0−Bi結合としたため、得られる膜の耐光
性、耐久性は向上し、より硬く、より耐薬品性のすぐれ
た膜が得られることとなった更にまた、屈折率Z2の酸
化セリウムと屈折率が約1.5〜1.46のビスシコン
化合物命よびシリカ微粒子を混合することにより、任意
の高屈折率の膜を得ることができた。ここで目的とする
屈折率は例えば次式 で示される。ここでWムは、Aの重量%、(W!I+T
o)は、Bと00合計の重量%、fは空隙率を示す、こ
の式に従い、目的の屈折率を計算して用いる。
、191−0−Bi結合としたため、得られる膜の耐光
性、耐久性は向上し、より硬く、より耐薬品性のすぐれ
た膜が得られることとなった更にまた、屈折率Z2の酸
化セリウムと屈折率が約1.5〜1.46のビスシコン
化合物命よびシリカ微粒子を混合することにより、任意
の高屈折率の膜を得ることができた。ここで目的とする
屈折率は例えば次式 で示される。ここでWムは、Aの重量%、(W!I+T
o)は、Bと00合計の重量%、fは空隙率を示す、こ
の式に従い、目的の屈折率を計算して用いる。
以下、実施例により本発明を更に詳しく説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない、尚、実施例中
の部は重量部を示す。
発明はこれらに限定されるものではない、尚、実施例中
の部は重量部を示す。
実施例1゜
(1)コーティング液の調合
マグネット式攪拌子を備えたガラス製フラスコ中へ、水
分散二酸化上リウムゾル(固型分30%、平均粒径5ミ
リミクロン)150[を加工、訃かに攪拌ヲffいつつ
、イソプロピルアルコール。
分散二酸化上リウムゾル(固型分30%、平均粒径5ミ
リミクロン)150[を加工、訃かに攪拌ヲffいつつ
、イソプロピルアルコール。
200部をゆっくり加えたのち、ビス(トリメト午シシ
リル)エタン60部を徐々に加えた0次に、cL1規定
塩酸水40g1lを、30分かけて滴下した。つづいて
、フローコントロール剤少量および酸化防止剤少量を加
えたのち、濾過を行いコーティング液とした。
リル)エタン60部を徐々に加えた0次に、cL1規定
塩酸水40g1lを、30分かけて滴下した。つづいて
、フローコントロール剤少量および酸化防止剤少量を加
えたのち、濾過を行いコーティング液とした。
(2) &布および硬化
このようにして得られたコーティング液にプラズマ処理
によ、表面を活性化させたポリカーボネート製レンズを
、浸漬し、ディッピ:ジグ法により塗布を行った。この
時の引上げ速度は2004−であった、つぎに、5分間
風乾後、加熱炉にて、100℃で3時間、加熱硬化を行
った。このようにして得られたレンズは干渉縞もなく、
透明感のすぐれたものであった。
によ、表面を活性化させたポリカーボネート製レンズを
、浸漬し、ディッピ:ジグ法により塗布を行った。この
時の引上げ速度は2004−であった、つぎに、5分間
風乾後、加熱炉にて、100℃で3時間、加熱硬化を行
った。このようにして得られたレンズは干渉縞もなく、
透明感のすぐれたものであった。
(3)評価方法と結果
(4)評価試験と結果
得られたレンズは、次に述べる方法で試験を行い評価し
た。その結果を第1表に示す。
た。その結果を第1表に示す。
α)耐擦傷性:”ooooス、チールウール(商品名1
ボンスター”日本ボンスターC株)製品)を用い200
fの荷重で、1α×351平方の試験ピースの表面を1
0往復摩擦し、優のついた程度を目視で次の段階に分け
て評価した。
ボンスター”日本ボンスターC株)製品)を用い200
fの荷重で、1α×351平方の試験ピースの表面を1
0往復摩擦し、優のついた程度を目視で次の段階に分け
て評価した。
ランク人=上記範囲に全く優がつかない。
ラシクB:上記範囲内に1〜10本の傷がつくランク0
:上記範囲内に10〜約50本の優がつく。
:上記範囲内に10〜約50本の優がつく。
ランクD=無数の1がついているが、平滑な表面が残っ
ている。
ている。
ランク82表面についた傷の為、表面の平滑さが損われ
る。
る。
’A) 耐薬品性:水、アルコール、灯痛中に48時
間浸漬し、そ、の表面状態を調べた。tた耐酸。
間浸漬し、そ、の表面状態を調べた。tた耐酸。
耐洗剤性は、11N塩酸および5%午クツチンハイター
花王石鐘(株)製)水溶液に12時間浸漬し、表面状態
を調べた。
花王石鐘(株)製)水溶液に12時間浸漬し、表面状態
を調べた。
+C) 耐a性:中セノンツンプによるフェードメー
ター(スガ試験機C株ン製〕に20,0時間暴露した後
の表面状態を調べた。
ター(スガ試験機C株ン製〕に20,0時間暴露した後
の表面状態を調べた。
d)密着性;膜の密着性は、J工SD、−0202に準
じてクロスカッ′トテープ試験によ′り行りた即ち、ナ
イフを用い、試験片表面に1ml’!I隔に切れ目を入
れ、1mのマス目を100個形成させる0次に、その上
へセロファン粘着テープ(商品名1七四テープ”ニチバ
ン(株)製品)を強くおしつけた後、表面から90°方
向へ一気に引っばり剥離したのち、膜の・残りているマ
ス目を本って密着性指標とした。
じてクロスカッ′トテープ試験によ′り行りた即ち、ナ
イフを用い、試験片表面に1ml’!I隔に切れ目を入
れ、1mのマス目を100個形成させる0次に、その上
へセロファン粘着テープ(商品名1七四テープ”ニチバ
ン(株)製品)を強くおしつけた後、表面から90°方
向へ一気に引っばり剥離したのち、膜の・残りているマ
ス目を本って密着性指標とした。
−)被染色性;分散染料を用い、80t)にて5分間染
色を行い、試験レンズの減光率を測定した、染色液は、
1tの純水に、染色剤(商品名1セイコ一ブラツクスグ
レーD′セイコーエプソン株製)およびi色助剤(商品
名1セイコ一ブラツクス染色助剤″セイコーエプソン■
製)を各2fづつ分散溶解させたものを用い、また、減
光率は、BPエフオドメータ−(BP工 Oo、Ltl
、製)を用い20%以上の減光率を示した場合を良とし
た。
色を行い、試験レンズの減光率を測定した、染色液は、
1tの純水に、染色剤(商品名1セイコ一ブラツクスグ
レーD′セイコーエプソン株製)およびi色助剤(商品
名1セイコ一ブラツクス染色助剤″セイコーエプソン■
製)を各2fづつ分散溶解させたものを用い、また、減
光率は、BPエフオドメータ−(BP工 Oo、Ltl
、製)を用い20%以上の減光率を示した場合を良とし
た。
り屈折率;コーティング液を、シリコンウェハーに塗布
し、硬化後、エリプソメーターにて、塗膜の屈折率およ
び膜厚を測定した。
し、硬化後、エリプソメーターにて、塗膜の屈折率およ
び膜厚を測定した。
実施例2〜4.比較例1
実施例1において、水分散二酸化セリウムゾル150部
のかわりに二酸化上リウムゾル(固を分30%、平均粒
径5ミ!P喝クロン、水性ゾル)および、シリカゾル(
固型分30%、平均粒径10ミリミクロン、水性ゾル)
を第2表の割合に混合すること以外は実施例1と同様に
行い、種々の屈折率の高屈折率コーティング液を作成し
た。
のかわりに二酸化上リウムゾル(固を分30%、平均粒
径5ミ!P喝クロン、水性ゾル)および、シリカゾル(
固型分30%、平均粒径10ミリミクロン、水性ゾル)
を第2表の割合に混合すること以外は実施例1と同様に
行い、種々の屈折率の高屈折率コーティング液を作成し
た。
特性評価をとりまとめて第1表に示す。
表中 Oは、異常が認められず良好なことを示す。
第2表
実施例5
実施例1において、ビス(トリメトキシシリル)エタン
60部のかわりにビス(メチルジメトキシリル)エタン
60部とエチレングリコールジグリシジルエーテル10
部、過塩素酸マグネシウム105部を加えること以外は
、実施例1と同様にしてコーティング液の調合を行った
。
60部のかわりにビス(メチルジメトキシリル)エタン
60部とエチレングリコールジグリシジルエーテル10
部、過塩素酸マグネシウム105部を加えること以外は
、実施例1と同様にしてコーティング液の調合を行った
。
このコーティング液を、プラズマ処理を行ったポリスチ
レン製パネルに塗布し、90℃で5時間硬化した。この
パネルは干渉縞の発生もなく良好な外観を呈した。
レン製パネルに塗布し、90℃で5時間硬化した。この
パネルは干渉縞の発生もなく良好な外観を呈した。
実施例6 反射防止膜の形成
(1)高屈折率コーティング液の調合
実施例1で得られた塗液25部に、メチルセロノル1フ
5部を加え、高屈折率コーティング液とした。
5部を加え、高屈折率コーティング液とした。
(2)低屈折率コーティング液の調合
比較例1で得られた塗液25部、ポリエチレングリコー
ルジグリシジルエーテル 2M5.メチル七ロソルプ7
5部、過塩素酸アンモニウム(L1部を加え、低屈折率
コーティング液とした。
ルジグリシジルエーテル 2M5.メチル七ロソルプ7
5部、過塩素酸アンモニウム(L1部を加え、低屈折率
コーティング液とした。
(s)反射防止レンズの形成
アルカリ処理により表面を活性化したポリジエチレング
リコールジアリルカーボネート製レンズに、まず、高屈
折率コーティング液をスピンナー決にて塗布した。コー
ティング条件は以下の通りである。
リコールジアリルカーボネート製レンズに、まず、高屈
折率コーティング液をスピンナー決にて塗布した。コー
ティング条件は以下の通りである。
回転数 50 Orpm で15秒
回転数 300 Orpmで40秒
つづいて、100℃で30分間加熱を行い硬化したのち
、次に低屈折率コーティング液を、先の高屈折率コーテ
ィング液と同様の手順により塗布した。
、次に低屈折率コーティング液を、先の高屈折率コーテ
ィング液と同様の手順により塗布した。
こののち、100℃で30分、更に150tlで2時間
加熱を行い、二層よりなる硬化膜を得た。
加熱を行い、二層よりなる硬化膜を得た。
このレンズは強い緑の反射を示し、分光測定の結果、可
視域での平均反射率は、4%であり反射防止性を示した
。尚、生地の反射率は8%であった。
視域での平均反射率は、4%であり反射防止性を示した
。尚、生地の反射率は8%であった。
実施例7〜8
実施例1において、ビス(トリメトキシシリル)エタン
60部のかわりに第3表に示すバインダ成分を用いるこ
と以外は実施例と同様に行い、高屈折率コーティング展
を有するポリカーボネート製レンズを得た。これらの評
価を行ったところ、何れも良好な結果が得られた。
60部のかわりに第3表に示すバインダ成分を用いるこ
と以外は実施例と同様に行い、高屈折率コーティング展
を有するポリカーボネート製レンズを得た。これらの評
価を行ったところ、何れも良好な結果が得られた。
第 3 表
〔発明の効果〕
以上、詳述したように、本発明は、高屈折率を有し、且
つ、耐薬品性にすぐれた酸化セリウム微粒子と必要に応
じ加えたシリカ微粒子を、架橋性にすぐれ、また物理的
に化学的に安定なビスシラン化合物と組み合わせたもの
である。そして屈折率を、通常のプラスチック材料に適
した範囲に設定し、また或いは、反射防止膜用の高い屈
折率を得ることを可能とし、た、すなわち、高屈折率材
料として酸化セリウムを、また低屈折率材料としてシリ
カあるいはビスシラン化合物を本発明で述べた計算式に
よる分量となるよう混合することにより目的とする屈折
率を得るものである。
つ、耐薬品性にすぐれた酸化セリウム微粒子と必要に応
じ加えたシリカ微粒子を、架橋性にすぐれ、また物理的
に化学的に安定なビスシラン化合物と組み合わせたもの
である。そして屈折率を、通常のプラスチック材料に適
した範囲に設定し、また或いは、反射防止膜用の高い屈
折率を得ることを可能とし、た、すなわち、高屈折率材
料として酸化セリウムを、また低屈折率材料としてシリ
カあるいはビスシラン化合物を本発明で述べた計算式に
よる分量となるよう混合することにより目的とする屈折
率を得るものである。
特に、蒸着法では材料により屈折率が限定されてしまう
のに対し、本発明では計算した狙いの屈折率を得ること
ができるため、光学的多層膜用途に効果を発揮する。
のに対し、本発明では計算した狙いの屈折率を得ること
ができるため、光学的多層膜用途に効果を発揮する。
更には、本発明のコーティング膜はプラスチックや金属
に密着性が優れるため、プラスチックレンズ、フィルム
、パネル等の光学材料の反射防止膜1反射増加膜、保護
コートとして有用である。
に密着性が優れるため、プラスチックレンズ、フィルム
、パネル等の光学材料の反射防止膜1反射増加膜、保護
コートとして有用である。
以 上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)下記AおよびBを主成分とし、Aが5〜90重量%
、Bが95〜10重量%、Cが0〜60重量%からなる
ことを特徴とする高屈折率コーティング膜。 A、粒径1〜50ミリミクロンの酸化セリウム微粒子。 B、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼、 で表わされる有機シラン化合物(但し、式 中Rは、炭素数1ないし6の炭化水素基、 Xは、2ないし40の炭素原子を含む有機 基であり、またaは0ないし2の整数であ る)。 C、粒径1〜50ミリミクロンのシリカ微粒子。 2)高屈折率コーティング膜を得るにあたり、高屈折率
成分として粒径1〜50ミリミクロンの酸化セリウム微
粒子、中屈折率成分として粒径1〜50ミリミクロンの
シリカ微粒子を用い、バインダとして一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、Yはアルコキシル基、アルコキシアルコキシル
基、アシル基、アルケノキシ基、アシルオキシ基、ハロ
ゲン基、水素基から選ばれる脱離基であり、Rは炭素数
1ないし6の炭化水素基、Xは、2ないし40の炭素原
子を含む有機基、aは、0ないし2の整数である)、及
び、フローコントロール剤、触媒を、少くとも1重量%
の水を含む溶剤に均一に溶解或いは分散させることによ
り得られたコーティング液を、基材に塗布し、80℃〜
200℃の温度で硬化させ実質的に酸化セリウムと、一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼および必 要に応じシリカ微粒子とからなる膜を形成させる工程に
おいて、酸化セリウムとケイ素成分の比を変えることに
よりコーティング膜の屈折率を任意に設定出来るように
したことを特徴とする高屈折率コーティング膜の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62058251A JP2696829B2 (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | 高屈折率コーテイング膜およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62058251A JP2696829B2 (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | 高屈折率コーテイング膜およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63223701A true JPS63223701A (ja) | 1988-09-19 |
| JP2696829B2 JP2696829B2 (ja) | 1998-01-14 |
Family
ID=13078914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62058251A Expired - Lifetime JP2696829B2 (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | 高屈折率コーテイング膜およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2696829B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02115801A (ja) * | 1988-10-26 | 1990-04-27 | Asahi Optical Co Ltd | 染色可能な反射防止膜組成物 |
| WO1990005315A1 (fr) * | 1988-10-31 | 1990-05-17 | Sumitomo Cement Co., Ltd. | Articles antireflet, procede de production et preparation servant de revetement |
| JPH04226546A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-08-17 | Ppg Ind Inc | セリア含有耐摩耗性シロキサン被覆及びその製法 |
| US6010778A (en) * | 1992-06-04 | 2000-01-04 | Nikon Corporation | Coating composition utilizing modified sol having tin oxide-tungsten oxide complex colloid particles and lens coated therewith |
| JP2002521522A (ja) * | 1998-07-24 | 2002-07-16 | サン−ゴバン グラス フランス | 疎水性処理組成物、この組成物からのコーティングの形成方法及びこのコーティングを付与した製品 |
| US10068683B1 (en) | 2014-06-06 | 2018-09-04 | Southwire Company, Llc | Rare earth materials as coating compositions for conductors |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60262833A (ja) * | 1984-06-11 | 1985-12-26 | Tokuyama Soda Co Ltd | 被覆合成樹脂材 |
| JPS60262834A (ja) * | 1984-06-11 | 1985-12-26 | Seiko Epson Corp | プラスチツク材料の表面改質法 |
| JPS6231802A (ja) * | 1985-08-01 | 1987-02-10 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 被覆されたフオトクロミツクプラスチツク光学部品 |
-
1987
- 1987-03-13 JP JP62058251A patent/JP2696829B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60262833A (ja) * | 1984-06-11 | 1985-12-26 | Tokuyama Soda Co Ltd | 被覆合成樹脂材 |
| JPS60262834A (ja) * | 1984-06-11 | 1985-12-26 | Seiko Epson Corp | プラスチツク材料の表面改質法 |
| JPS6231802A (ja) * | 1985-08-01 | 1987-02-10 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 被覆されたフオトクロミツクプラスチツク光学部品 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02115801A (ja) * | 1988-10-26 | 1990-04-27 | Asahi Optical Co Ltd | 染色可能な反射防止膜組成物 |
| WO1990005315A1 (fr) * | 1988-10-31 | 1990-05-17 | Sumitomo Cement Co., Ltd. | Articles antireflet, procede de production et preparation servant de revetement |
| JPH04226546A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-08-17 | Ppg Ind Inc | セリア含有耐摩耗性シロキサン被覆及びその製法 |
| US6010778A (en) * | 1992-06-04 | 2000-01-04 | Nikon Corporation | Coating composition utilizing modified sol having tin oxide-tungsten oxide complex colloid particles and lens coated therewith |
| JP2002521522A (ja) * | 1998-07-24 | 2002-07-16 | サン−ゴバン グラス フランス | 疎水性処理組成物、この組成物からのコーティングの形成方法及びこのコーティングを付与した製品 |
| US10068683B1 (en) | 2014-06-06 | 2018-09-04 | Southwire Company, Llc | Rare earth materials as coating compositions for conductors |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2696829B2 (ja) | 1998-01-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5173368A (en) | Solution-applied antireflective coatings | |
| JP3351666B2 (ja) | 防曇性反射防止膜、光学部品、及び防曇性反射防止膜の製造方法 | |
| TWI364367B (en) | Siloxane-based coating, optical article and process for producing the siloxane-based coating | |
| AU679728B2 (en) | Thermosetting polysiloxane compositions for anti-abrasion coating, process for their production and corresponding coated articles, especially ophthalmic glasses and lenses | |
| US20090004462A1 (en) | Inorganic-Organic Hybrid Nanocomposite Antiglare and Antireflection Coatings | |
| JPH0642002B2 (ja) | プラスチックレンズ | |
| AU736533B2 (en) | Coating liquid for forming hard coat film and substrate coated with such a film | |
| JP2534260B2 (ja) | 反射防止膜を有する光学部材の製造方法 | |
| JPWO1997041185A1 (ja) | コーティング用組成物 | |
| JPH0455615B2 (ja) | ||
| JPH08113760A (ja) | コーティング用組成物 | |
| JPS6375074A (ja) | コ−テイング組成物 | |
| JPS5846301A (ja) | 反射防止膜を有する透明材料 | |
| KR20090080644A (ko) | 플라스틱 렌즈용 하드코팅용액 및 그 제조방법 | |
| JP2696829B2 (ja) | 高屈折率コーテイング膜およびその製造方法 | |
| JP2594042B2 (ja) | 反射防止膜 | |
| KR101445437B1 (ko) | 반사방지필름 및 그의 제조방법 | |
| JP2684364B2 (ja) | 高屈折率コーティング膜 | |
| JPH07168002A (ja) | コーティング組成物及びプラスチック基材 | |
| JPH1026703A (ja) | 撥水処理されたレンズ | |
| JPS63305175A (ja) | コ−ティング用組成物 | |
| JPH07138530A (ja) | ハードコートの製造方法 | |
| WO2018163929A1 (ja) | 低屈折率膜形成用液組成物及びこれを用いた低屈折率膜の形成方法 | |
| JP7833449B2 (ja) | ハードコート層形成用塗料組成物、その製造方法、ハードコート層付き基材、およびその製造方法 | |
| JPS624060B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |