JPS63223701A - 高屈折率コ−テイング膜およびその製造方法 - Google Patents

高屈折率コ−テイング膜およびその製造方法

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JPS63223701A
JPS63223701A JP62058251A JP5825187A JPS63223701A JP S63223701 A JPS63223701 A JP S63223701A JP 62058251 A JP62058251 A JP 62058251A JP 5825187 A JP5825187 A JP 5825187A JP S63223701 A JPS63223701 A JP S63223701A
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川嶋 淳史
Katsuyoshi Takeshita
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プラスチック、金属、セラミック。
ガラス等の基材の摩耗性を向上させる光学簿膜およびそ
の製造方法に関する。
更に詳しくは、プラスチック、金属、セラミック、ガラ
ス等の基材の表面にもうけることにより、耐擦傷性、耐
摩耗性、耐水性、耐薬品性、汚れ防止性、耐熱性、可染
性、耐候性な向上させ、また、基材との屈折率のmAに
より導かれる光干渉を発生させるのに有効な高屈折率コ
ーティング膜およびその製造方法に関する。
〔従来の技術〕
従来、シリコン系のコーティング膜は、耐摩耗性、耐熱
性、耐候性にすぐれ、プラスチック、木材、金属の表面
に施すことにより、基材の特性向上に利用されてきてお
り、金属、プラスチック分骨での産業分野での応用は幅
広いものである。この開示技術としては、例えば、米国
特許第3986997号等に記載されたコロイド状シリ
カとメチルトリメトキシシランから導かれるハードコー
ト或いは、特公昭57−2735号等のコロイダルシリ
カとエポキシ系材料から導かれるハードコート、或いは
、特公昭55−29102号等に記載されたアルキルト
リアルコキシシラン、オルソオルガノシリケートから導
かれるハードコート等がある。
また、これらのハードコートの染色性、可撓性を増す方
法として、特開昭56−161475号同59−1O2
9+54号、同59−1’95969号95B−222
160号には、ビス(アルコ午シシリル)化合物とコロ
イド状シリカおよび必要に応じ、シランカップリング剤
よりなるコーティング組成物が開示されている。
また、一方では、ゾルゲル法と呼ばれる方法による耐摩
耗性薄膜の形成も注目される。即ち、代表的な例として
は、金属アルコラードを、溶剤存在下、加水゛分解およ
び必要により予備縮重合させ、塗布後、加熱等により、
熱分解と縮重合を完結させ、非晶質膜を形成するもので
ある。これらの技術の開示例としては、例えば、表面、
 Tom、 19、随8,430−457(1981)
や、日本レオロジー学会誌、 Tol、 14 、9 
(1986)あるいは、I’hysia of Th1
n 711m5 、 Tol、 5 、87−141(
1969)やTh1n 8o11d Films 。
Tol、77.129−139(1981)等がある。
この方法の長所は、種々の熱分解性、あるいは加水分解
性金属材料を任意に混合することが出来ることで、その
結果として、屈折率を選べること、特にガラスにくらぺ
高い屈折率の薄膜を得ることが出来る。
一方、比較的低温で硬化し、プラスチック材料にも応用
出来る高屈折率薄膜用組成物では、開示技術が数少ない
が、屈折率が比較的高い事が予想されるアンチモンゾル
を用いたコーティング組成物が特開昭57−16892
2号に、また、テトラアルキルジルコニウムを使用する
例が特開昭57−37501号に記載されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、先述の例のうち、米国特許第5986997号
゛、特公昭57−2755号、同55−29102号、
特開昭56−161475号、同59−1029t54
号、同59−193969号。
同5B−222160号の例では、塗膜の屈折率はすべ
て、約1.5であり、一般的な樹脂基材とほぼ同じ屈折
率であり本発明における光学機能膜として問題がある。
また、特開昭57−168922号、同57−5750
1”号のものは耐水性に劣りまた屈折率が充分高くない
という問題点を有する。
また、表面、Tol、19.Nn8,450−457(
1981)等に開示されたゾル・ゲル法と呼ばれる方法
では、膜形成に高温を要し、プラスチック材料の熱変形
や、金属基材の場合、醸化をひきおこす等の問題がある
。
そこで、本発明は、これらの問題点を解決するために鋭
意検討し得られたもので、その目的とするところは、プ
ラスチックあるいは金属等にも形成可能なように、低温
硬化可能であり、かつ、耐摩耗性、耐水性、耐薬品性等
にすぐれた罠において、屈折率が1.5から、1.95
1で任意に設定出来る塗膜を得るものである。
さらには、屈折率を任意に設定することにより容易に反
射防止膜や反射増加膜の形成に応用出来る塗膜を得るも
のである。
さらには、゛これらの機能を発現する高屈折率コーティ
ング膜の製造法を得るものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の高屈折率コーティング膜は、下記人およびBを
主成分とし、人が5〜90重量%、Bが95〜10重量
%、Oが0〜60重量%からなることを特徴とする。
A6粒粒径1〜50ミリクロンの酸化セリウム微粒子。
で表わされる存機シラン化合物(但し、式中Rは、炭素
数1ないし6の炭化水素基、Xは、2ないし40の炭素
原子を含も有機基であり、またαは口ないし2の整数で
ある)。
C1粒径1〜50ミリミクロンのシリカ微粒子また、更
には、前記高屈折率コーティング膜を得るにあたり高屈
折率成分として粒径1〜50ミリミクロンの酸化セリウ
ム微粒子、中屈折率成分として粒径1〜50ミリミク四
ンのシリカ微粒子を用い、バインダとして、一般式 キシル基、アルコ午ジアルコキジル基、アシル基、アル
ケノキシ基、アシルオ、キシ基、ハロゲン基、水素基か
ら選ばれる脱離基であり、Rは炭素数・1ないし6の炭
化水素基、Xは、2ないし40の炭素原子を含む有機基
、αは、0ないし2の整数である)、及び、フローコン
トロール剤、触媒を、少くとも1重量%の水を含も溶剤
に均一に溶解或いは分散させることにより得られたコー
ティング液を、基材に塗布し、80υ〜200℃の温度
で硬化させ実質的に酸化セリウムと、一般式、応じシリ
カ微粒子とからなる膜を形成させる工程−において、酸
化セリウムとケイ素成分の比を変えることによりコーテ
ィング膜の屈折率を中屈折率から高屈折率領域において
任意に設定出来るようにしたことを特徴とする。
次に、コーティング組成物の構成を中心に本発明の高屈
折率コーティング膜およびその製造方法につき更に詳し
く述べる。
屈折率の調整に関しては、酸化セリウムのバルクの屈折
率が約2.2であり、シリカ微粒子あるいであるビスシ
ラン化合物は概ね1.5である為、酸せることにより、
コーティング膜の屈折率は、1、・50から1.95、
実質的に、1.55から1.85の領域で任意に設定出
来る。屈折率が、1.85以上では、膜の硬さ等、やや
変化をきたし、1.95以上の屈折率を引き出すことは
不可能である。
ここで、人である酸化セリウムは5〜90重量%が可能
な範囲で、5ri1量%以下では、屈折率調整の効果が
なく、また、90重量%以上では、膜が脆くなる1次に
、Bであるビスシラン化合物は95〜10重量が適切で
あるが、特にこの使用量は少なくする方がよい、Bが9
5重量外以上で(1膜の硬さが低下し、10重蓋%以下
となると膜の弾力性が不充分となり剥れおちる0次に、
Cであるシリカ微粒子は、0〜60重量%が適切である
、即ち、Oは無くてもよ)sが1、入の酸化セリウム゛
微粒子が少ない場合、狙いの屈折率をさほど高くしない
場合、屈折率を引き下げる為の勢選剤として添加する。
従って、本発明の用途は目的とする屈折率に対し、A、
B、Oの組成比を上記範囲内で変化させるものである。
クロン以上であると膜中で酸化セリウム粒子とシラン系
バインダの界面の反射が可視或に及び、コーティング液
の透明性が損われる。tた、1ミリミクロン以下ではコ
ーティング膜の耐水性が劣る傾向にあり、また、より過
酷な硬化条件が必要となる。
酸化セリウムは、一般には、二酸化セリウムの形で、水
あるいは溶剤に分散させたコロイド液が入手し易く、操
作も楽である。しかし、これに限定されず、例えば、昨
今、技術進展の著しい粉砕法あるいは、気相合成法等に
より得られたものを分散媒中に均一に分散し用いること
も可能と思われる。
また、シリカ微粒子も酸化セリウム微粒子と同様の理由
で、同様の形態のものを用いることができる。
次に、Bで述べるビスシラン化合物は、コーティング液
に用いる際の原料として、 れるが、このXの具体例としては −0H2−。
(its から選ばれる。ここで6は、1ないし4である。
また、Yは、メトキシ、エト午シ、プロ°ボキシ等のア
ルコ午シル基、メト午ジメトキシ基等のアルキシアルコ
キシ基、クロロ、プロ七等のハロゲン基や水素、インプ
ロペノ午シ基等から選ぐれるがこれらは、コーティング
組成物調合時に加水分解あるいは一部が脱水縮合される
ため本質的に、水あるいは触媒の存在下、脱離すれば条
件を満たすと考えられる。
また、ケイ素に直接、Rで示されるメチル、エチル基等
が結合したものも、柔軟性と弾力性を得るために添加可
能である。
これらは、溶液タイプのコーティング液を作成し基材に
塗布し、加熱硬化させてコーティング膜とすることが一
般的で有利である。このために、A、Oは、水または、
アルコール、有機溶剤等に分散させたゾルが望ましく、
適度な安定剤1分散剤等の添加も許容される。また、B
の原料も、溶剤中、あるいは無溶剤下、水や酸性水等で
加水分解を行い、予め、脱離基を水酸基に変換しておく
事ができる。これらを混合し、適切な溶剤で希釈して用
いられる。溶剤としては、アルコール類やケ、トン、エ
ステル等が有用である。
これら以外に、塗布性の向上の為の界面活性剤や、シラ
ノール縮重合を促進する為の触媒を添加することも有用
である。これらの例としては、例えば、特開昭56−9
9265号等に記載されている酸、有機酸塩、配位化合
物や過塩素酸アンモニウム、過塩素酸マグネシウム等の
過塩素酸塩類、チタンアルコラードや、各種の塩類が挙
げられる。
本発明の高屈折率コーティング膜の膜厚は、[1,1〜
30ミクロンであることが好ましい、また、反射防止あ
るいは反射増加膜として用いる場合には、多層膜の光学
的な設計膜厚とすることは云う迄もない、その塗布法と
しては、周知の如く、スプレ、−法、ディッピダグ法、
スピンナー法、フローコート法、ロールコート法、へケ
塗り法等により塗布する。
また、A、B及びOのみで染色性が得られるが、更に染
色性を向上させる為に、工メキシ化合物ヤ、メリエチレ
ングリコール、多価アルコールや多価脂肪酸等を加える
こともできる。
この様にして得られたコーティング組成物は基材に塗布
後、風乾、熱硬化あるいは、活性エネルギー線照射によ
る硬化を行うが゛、好ましい条件は80℃〜200℃の
温風中にて、縮合反応させるとよい、特に耐熱性の劣る
基材の場合には、80℃〜150℃の間が望ましい、あ
るいは活性工、、ネルギー線として遠赤外レーザー等に
て、数秒以内の処理により熱損傷を低くおさえることも
考えられる。
以上のようにして調合して得られるコーティング用組成
物は、各種光学用無機ガラスやポリカーボネートをはじ
めとして、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリ塩
化ビニル、ポリスチレンテ■ レフタレ−)、0R−59#その他スチレンと核置換ハ
ロゲン化ビスフェノール系七ツマ−との共重合体、或い
はアリル樹脂等、透明なプラスチック材料に適用する事
により、その効果を発揮する。
〔5作用〕 本発明は、AおよびCという無機物微粒子と、Bである
ビスシラン化合物系バインダを含むが、A、Bおよび0
は単独では硬さ、耐摩耗性、耐水性、密着性が不充分で
ある。しかし、Aまたは、AおよびOを核として、この
表面あるいは周辺をBの反応基が縮重合し結合形成や埋
めこみの効果により特性が向上したものである。
更にまた、縮合反応基をすべて、シリコン系材料による
、191−0−Bi結合としたため、得られる膜の耐光
性、耐久性は向上し、より硬く、より耐薬品性のすぐれ
た膜が得られることとなった更にまた、屈折率Z2の酸
化セリウムと屈折率が約1.5〜1.46のビスシコン
化合物命よびシリカ微粒子を混合することにより、任意
の高屈折率の膜を得ることができた。ここで目的とする
屈折率は例えば次式 で示される。ここでWムは、Aの重量%、(W!I+T
o)は、Bと00合計の重量%、fは空隙率を示す、こ
の式に従い、目的の屈折率を計算して用いる。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を更に詳しく説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない、尚、実施例中
の部は重量部を示す。
実施例1゜ (1)コーティング液の調合 マグネット式攪拌子を備えたガラス製フラスコ中へ、水
分散二酸化上リウムゾル(固型分30%、平均粒径5ミ
リミクロン)150[を加工、訃かに攪拌ヲffいつつ
、イソプロピルアルコール。
200部をゆっくり加えたのち、ビス(トリメト午シシ
リル)エタン60部を徐々に加えた0次に、cL1規定
塩酸水40g1lを、30分かけて滴下した。つづいて
、フローコントロール剤少量および酸化防止剤少量を加
えたのち、濾過を行いコーティング液とした。
(2) &布および硬化 このようにして得られたコーティング液にプラズマ処理
によ、表面を活性化させたポリカーボネート製レンズを
、浸漬し、ディッピ:ジグ法により塗布を行った。この
時の引上げ速度は2004−であった、つぎに、5分間
風乾後、加熱炉にて、100℃で3時間、加熱硬化を行
った。このようにして得られたレンズは干渉縞もなく、
透明感のすぐれたものであった。
(3)評価方法と結果 (4)評価試験と結果 得られたレンズは、次に述べる方法で試験を行い評価し
た。その結果を第1表に示す。
α)耐擦傷性:”ooooス、チールウール(商品名1
ボンスター”日本ボンスターC株)製品)を用い200
fの荷重で、1α×351平方の試験ピースの表面を1
0往復摩擦し、優のついた程度を目視で次の段階に分け
て評価した。
ランク人=上記範囲に全く優がつかない。
ラシクB:上記範囲内に1〜10本の傷がつくランク0
:上記範囲内に10〜約50本の優がつく。
ランクD=無数の1がついているが、平滑な表面が残っ
ている。
ランク82表面についた傷の為、表面の平滑さが損われ
る。
’A)  耐薬品性:水、アルコール、灯痛中に48時
間浸漬し、そ、の表面状態を調べた。tた耐酸。
耐洗剤性は、11N塩酸および5%午クツチンハイター
花王石鐘(株)製)水溶液に12時間浸漬し、表面状態
を調べた。
+C)  耐a性:中セノンツンプによるフェードメー
ター(スガ試験機C株ン製〕に20,0時間暴露した後
の表面状態を調べた。
d)密着性;膜の密着性は、J工SD、−0202に準
じてクロスカッ′トテープ試験によ′り行りた即ち、ナ
イフを用い、試験片表面に1ml’!I隔に切れ目を入
れ、1mのマス目を100個形成させる0次に、その上
へセロファン粘着テープ(商品名1七四テープ”ニチバ
ン(株)製品)を強くおしつけた後、表面から90°方
向へ一気に引っばり剥離したのち、膜の・残りているマ
ス目を本って密着性指標とした。
−)被染色性;分散染料を用い、80t)にて5分間染
色を行い、試験レンズの減光率を測定した、染色液は、
1tの純水に、染色剤(商品名1セイコ一ブラツクスグ
レーD′セイコーエプソン株製)およびi色助剤(商品
名1セイコ一ブラツクス染色助剤″セイコーエプソン■
製)を各2fづつ分散溶解させたものを用い、また、減
光率は、BPエフオドメータ−(BP工 Oo、Ltl
、製)を用い20%以上の減光率を示した場合を良とし
た。
り屈折率;コーティング液を、シリコンウェハーに塗布
し、硬化後、エリプソメーターにて、塗膜の屈折率およ
び膜厚を測定した。
実施例2〜4.比較例1 実施例1において、水分散二酸化セリウムゾル150部
のかわりに二酸化上リウムゾル(固を分30%、平均粒
径5ミ!P喝クロン、水性ゾル)および、シリカゾル(
固型分30%、平均粒径10ミリミクロン、水性ゾル)
を第2表の割合に混合すること以外は実施例1と同様に
行い、種々の屈折率の高屈折率コーティング液を作成し
た。
特性評価をとりまとめて第1表に示す。
表中 Oは、異常が認められず良好なことを示す。
第2表 実施例5 実施例1において、ビス(トリメトキシシリル)エタン
60部のかわりにビス(メチルジメトキシリル)エタン
60部とエチレングリコールジグリシジルエーテル10
部、過塩素酸マグネシウム105部を加えること以外は
、実施例1と同様にしてコーティング液の調合を行った
。
このコーティング液を、プラズマ処理を行ったポリスチ
レン製パネルに塗布し、90℃で5時間硬化した。この
パネルは干渉縞の発生もなく良好な外観を呈した。
実施例6 反射防止膜の形成 (1)高屈折率コーティング液の調合 実施例1で得られた塗液25部に、メチルセロノル1フ
5部を加え、高屈折率コーティング液とした。
(2)低屈折率コーティング液の調合 比較例1で得られた塗液25部、ポリエチレングリコー
ルジグリシジルエーテル 2M5.メチル七ロソルプ7
5部、過塩素酸アンモニウム(L1部を加え、低屈折率
コーティング液とした。
(s)反射防止レンズの形成 アルカリ処理により表面を活性化したポリジエチレング
リコールジアリルカーボネート製レンズに、まず、高屈
折率コーティング液をスピンナー決にて塗布した。コー
ティング条件は以下の通りである。
回転数  50 Orpm で15秒 回転数 300 Orpmで40秒 つづいて、100℃で30分間加熱を行い硬化したのち
、次に低屈折率コーティング液を、先の高屈折率コーテ
ィング液と同様の手順により塗布した。
こののち、100℃で30分、更に150tlで2時間
加熱を行い、二層よりなる硬化膜を得た。
このレンズは強い緑の反射を示し、分光測定の結果、可
視域での平均反射率は、4%であり反射防止性を示した
。尚、生地の反射率は8%であった。
実施例7〜8 実施例1において、ビス(トリメトキシシリル)エタン
60部のかわりに第3表に示すバインダ成分を用いるこ
と以外は実施例と同様に行い、高屈折率コーティング展
を有するポリカーボネート製レンズを得た。これらの評
価を行ったところ、何れも良好な結果が得られた。
第  3  表 〔発明の効果〕 以上、詳述したように、本発明は、高屈折率を有し、且
つ、耐薬品性にすぐれた酸化セリウム微粒子と必要に応
じ加えたシリカ微粒子を、架橋性にすぐれ、また物理的
に化学的に安定なビスシラン化合物と組み合わせたもの
である。そして屈折率を、通常のプラスチック材料に適
した範囲に設定し、また或いは、反射防止膜用の高い屈
折率を得ることを可能とし、た、すなわち、高屈折率材
料として酸化セリウムを、また低屈折率材料としてシリ
カあるいはビスシラン化合物を本発明で述べた計算式に
よる分量となるよう混合することにより目的とする屈折
率を得るものである。
特に、蒸着法では材料により屈折率が限定されてしまう
のに対し、本発明では計算した狙いの屈折率を得ること
ができるため、光学的多層膜用途に効果を発揮する。
更には、本発明のコーティング膜はプラスチックや金属
に密着性が優れるため、プラスチックレンズ、フィルム
、パネル等の光学材料の反射防止膜1反射増加膜、保護
コートとして有用である。
以  上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)下記AおよびBを主成分とし、Aが5〜90重量%
    、Bが95〜10重量%、Cが0〜60重量%からなる
    ことを特徴とする高屈折率コーティング膜。 A、粒径1〜50ミリミクロンの酸化セリウム微粒子。 B、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼、 で表わされる有機シラン化合物(但し、式 中Rは、炭素数1ないし6の炭化水素基、 Xは、2ないし40の炭素原子を含む有機 基であり、またaは0ないし2の整数であ る)。 C、粒径1〜50ミリミクロンのシリカ微粒子。 2)高屈折率コーティング膜を得るにあたり、高屈折率
    成分として粒径1〜50ミリミクロンの酸化セリウム微
    粒子、中屈折率成分として粒径1〜50ミリミクロンの
    シリカ微粒子を用い、バインダとして一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、Yはアルコキシル基、アルコキシアルコキシル
    基、アシル基、アルケノキシ基、アシルオキシ基、ハロ
    ゲン基、水素基から選ばれる脱離基であり、Rは炭素数
    1ないし6の炭化水素基、Xは、2ないし40の炭素原
    子を含む有機基、aは、0ないし2の整数である)、及
    び、フローコントロール剤、触媒を、少くとも1重量%
    の水を含む溶剤に均一に溶解或いは分散させることによ
    り得られたコーティング液を、基材に塗布し、80℃〜
    200℃の温度で硬化させ実質的に酸化セリウムと、一
    般式 ▲数式、化学式、表等があります▼および必 要に応じシリカ微粒子とからなる膜を形成させる工程に
    おいて、酸化セリウムとケイ素成分の比を変えることに
    よりコーティング膜の屈折率を任意に設定出来るように
    したことを特徴とする高屈折率コーティング膜の製造方
    法。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02115801A (ja) * 1988-10-26 1990-04-27 Asahi Optical Co Ltd 染色可能な反射防止膜組成物
WO1990005315A1 (fr) * 1988-10-31 1990-05-17 Sumitomo Cement Co., Ltd. Articles antireflet, procede de production et preparation servant de revetement
JPH04226546A (ja) * 1990-06-29 1992-08-17 Ppg Ind Inc セリア含有耐摩耗性シロキサン被覆及びその製法
US6010778A (en) * 1992-06-04 2000-01-04 Nikon Corporation Coating composition utilizing modified sol having tin oxide-tungsten oxide complex colloid particles and lens coated therewith
JP2002521522A (ja) * 1998-07-24 2002-07-16 サン−ゴバン グラス フランス 疎水性処理組成物、この組成物からのコーティングの形成方法及びこのコーティングを付与した製品
US10068683B1 (en) 2014-06-06 2018-09-04 Southwire Company, Llc Rare earth materials as coating compositions for conductors

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60262833A (ja) * 1984-06-11 1985-12-26 Tokuyama Soda Co Ltd 被覆合成樹脂材
JPS60262834A (ja) * 1984-06-11 1985-12-26 Seiko Epson Corp プラスチツク材料の表面改質法
JPS6231802A (ja) * 1985-08-01 1987-02-10 Nippon Sheet Glass Co Ltd 被覆されたフオトクロミツクプラスチツク光学部品

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60262833A (ja) * 1984-06-11 1985-12-26 Tokuyama Soda Co Ltd 被覆合成樹脂材
JPS60262834A (ja) * 1984-06-11 1985-12-26 Seiko Epson Corp プラスチツク材料の表面改質法
JPS6231802A (ja) * 1985-08-01 1987-02-10 Nippon Sheet Glass Co Ltd 被覆されたフオトクロミツクプラスチツク光学部品

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02115801A (ja) * 1988-10-26 1990-04-27 Asahi Optical Co Ltd 染色可能な反射防止膜組成物
WO1990005315A1 (fr) * 1988-10-31 1990-05-17 Sumitomo Cement Co., Ltd. Articles antireflet, procede de production et preparation servant de revetement
JPH04226546A (ja) * 1990-06-29 1992-08-17 Ppg Ind Inc セリア含有耐摩耗性シロキサン被覆及びその製法
US6010778A (en) * 1992-06-04 2000-01-04 Nikon Corporation Coating composition utilizing modified sol having tin oxide-tungsten oxide complex colloid particles and lens coated therewith
JP2002521522A (ja) * 1998-07-24 2002-07-16 サン−ゴバン グラス フランス 疎水性処理組成物、この組成物からのコーティングの形成方法及びこのコーティングを付与した製品
US10068683B1 (en) 2014-06-06 2018-09-04 Southwire Company, Llc Rare earth materials as coating compositions for conductors

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