JPS63228552A - 平型陰極線表示管 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、螢光体スクリーンを有するほぼ平坦で透明な
フェースプレートを含むエンベロープと、電子ビームを
発生させこの電子ビームを前記のフェースプレートに平
行で第１領域を通って反転レンズに向け、この反転レン
ズにより電子ビームを反転させて電子ビームが前記フェ
ースプレートに平行なほぼ反対方向で第２領域を通って
走行するようにする電子ビーム発生手段と、この電子ビ
ーム発生手段の出射端に隣接して設けられ、前記のフェ
ースプレートにほぼ平行な平面内で電子ビームを偏向さ
せる第１偏向手段と、前記の第２　Ｓｉ域で電子ビーム
を前記の螢光体スクリーンに向けて偏向させる第２偏向
手段とを具える平型陰極線表示管に関するものである。

この種類の平型陰極線表示管は英国特許第２１０１３９
６号明細書に記載されている。この表示管では、エンベ
ロープが浅い１．一般に方形の金属容器より成っており
、この容器上に表示窓を構成する平坦なガラスフェース
プレートが装着されている。エンベロープの後方領域中
の電子銃は低エネルギーの電子ビームを生じ、この電子
ビームが反転レンズに到達する前に隣接の静電偏向装置
によりライン走査を行うように偏向せしめられる。この
電子ビームは１８０度方向反転せしめられた後、エンベ
ロープの前方領域中でフェースプレートに対し平行な平
面内に配置された複数個の選択的に附勢される電極によ
りフィールド走査せしめられ、これにより、フェースプ
レート上に設けられた螢光体スクリーンに向けられこの
螢光体スクリーンに対し平行に且つこの螢光体スクリー
ンから離間して設けられたチャネル電子増倍器の入射面
上で偏向せしめられる。従って、ラインおよびフィール
ド走査されたビームは電子増倍器にラスク走査の電子入
力を与える。電子ビームは電子増倍器内で増倍された後
スクリーン上の背面電極と電子増倍器の出射側との間に
形成された高電圧電界により螢光体スクリーン上に加速
され、ラスク走査の表示画像を生ぜしめ各。

このように電子増倍器を用いることにより、電子増倍器
が電子ビームの走査機能を光発生処理から有効に分離す
るという利点が得られる。電子ビームは電子増倍器に到
達する前では低エネルギーにすれば足りる為、表示管の
ビーム形成およびラスク走査区分は高電圧高電流スクリ
ーン出力区分に比べて低電圧低電流で動作する。ここに
“低エネルギー゛とは２．５ＫｅＶよりも低い電子ビー
ム、代表的には数百電子ボルトの電子ビームを意味する
ものとする。例えば、約４００Ｖの加速電圧を有する低
電圧低電流ビームを用いることができる。電子増倍器は
ビーム流を増幅し、増幅されたビーム流はスクリーンま
での短い間隙まで加速され、光出力を発生するのに必要
なエネルギーを生じる。

表示管のビーム形成およびラスク走査区分で用いられる
低エネルギー低電流電子ビームはスポットを過度に拡大
せしめることなく大きな角度に亘って容易に偏向せしめ
ることができる。従って、上述した種類の折返し電子光
学システムを用いて比較的コンパクトで−薄い表示管を
得ることができる。

しかし、表示管のビーム形成およびラスク走査区分で低
エネルギーの電子ビームを用いており、またこの区分に
おけるビームの軌道は長い為、この表示管は高電圧ビー
ムを用いている通常の表示管よりも周囲の磁界、例えば
地磁界に感応しやすくなる。すなわち、低エネルギービ
ームが妨害を受けやすく、表示管の第１８１域に侵入す
る周囲磁界により、ビームが反転レンズに達する前にこ
のビームの方向および位置に影響を及ぼし、反転レンズ
を通るビームの所望通路からビームを偏移せしめてしま
う。ビームが反転レンズの許容窓内で反転レンズに入ら
ないと画像が完全に失われてしまうおそれがある。

表示管のエンベロープの金属容器はある程度の磁気遮断
を行う。更に、ミューメタルの箱を有する外部磁気遮蔽
体を表示管のエンベロープの周りに取付け、外部からの
磁界による影響を減少させることができる。しかし、遮
蔽用のこの箱を使用すると表示管が高価となってしまい
、また表示管をかさ張った且つ重いものとする為、この
遮蔽用の箱を用いることは必ずしも実際的なことではな
い。

本発明の目的は、前述した種類の陰極線表示管の動作に
外部磁界によって及ぼす不所望な影響を少なくとも著し
く減少せしめ、電子ビームが設計上の公差内で反転レン
ズに満足に入るようにする有効な手段を提供せんとする
にある。

本発明は、螢光体スクリーンを有するほぼ平坦で透明な
フェースプレートを含むエンベロープと、電子ビームを
発生させこの電子ビームを前記のフェースプレートに平
行で第１領域を通って反転レンズに向け、この反転レン
ズにより電子ビームを反転させて電子ビームが前記フェ
ースプレートに平行なほぼ反対方向で第２領域を通って
走行するようにする電子ビーム発生手段と、この電子ビ
ーム発生手段の出射端に隣接して設けられ、前記のフェ
ースプレートにほぼ平行な平面内で電子ビームを偏向さ
せる第１偏向手段と、前記の第２領域で電子ビームを前
記の螢光体スクリーンに向けて偏向させる第２゛偏向手
段とを具える平型陰極線表示管において、この平型陰極
線表示管が前記の電子ビーム発生手段と前記の反転レン
ズとの間に位置するビーム制御領域を規制する電子−光
学レンズシステムを具え、この電子−光学レンズシステ
ムが前記のビーム制御領域において電子ビームを周期的
に再集束させ、この電子ビームが所定の通路にほぼ沿っ
て走行するようになっていることを特徴とする。

ビーム制御領域では、第１偏向手段の作用の結果として
電子ビームが連続的に走査作用を受けること明かであり
、従って°“電子ビーム通路”とはこれに応じて解釈す
べきである。

電子光学レンズシステムは電子ビームを周期的に再集束
させる作用の点で事実上リレーレンズの列とみなすこと
ができる。

所定゛の電子ビーム通路を適切に選択すると、本発明の
レンズシステムにより電子ビーム発生手段と反転レンズ
との間の領域のある部分に沿うように電子ビームを向け
ることにより、電子ビームは反転レンズに対しほぼ正し
い位置で反転レンズに入り、一方フエースプレートに対
しほぼ平行な平面内での電子ビームの偏向がライン走査
の目的で上記の領域内で継続される。このようにレンズ
システムを用いることにより、反転レンズに入る際の電
子ビームの位置は少なくとも地磁界の５倍の大きさの外
部磁界により影響を受けないということを確かめた。従
って、本発明によれば地磁界による影響から保護を行い
うるばかりではなく、より強い磁気影響から保護を行う
ことができ、表示管を動作が影響を受けることなくより
厳しい磁気的環境内で用いうるようにしうる。

レンズシステムは磁気或いは静電的とすることができる
。しかし好適例では、レンズシステムを静電リレーレン
ズの列とし、この静電リレーレンズの列が電子ビーム通
路の内側に配置されビーム偏向方向で前記のフェースプ
レートの平面に対しほぼ平行に延在する電極を有し、こ
れら電極は更に前記のビーム制？ｉｌ　６ｉ域で交互に
高および低電圧領域の列を形成する劣うに配置する。第
１偏向手段によるビームの偏向（ライン走査）もフェー
スプレートに平行な平面内で行われる為、偏向中のいか
なる点におけるビームの制御も電極が偏向方向に延在し
ている結果として達成される。

低電圧（電界）領域を形成する電極は、互いにほぼ平行
に延在する細条電極の複数の離間電極対を有し、各離間
電極対の電極がビーム偏向平面の対向する両側に配置さ
れているようにすることができる。まだ、ビーム偏向平
面の両側に位置する電極対の各々の電極がフェースプレ
ートに対しほぼ平行なそれぞれの平面に位置しているよ
うにするのが好ましい。更に、前記の低電圧領域を形成
する各電極対の電極が使用に際し同電位となり、且つビ
ーム偏向平面に対して対称的に配置されているようにす
るのが有利である。このようにすることにより、電子ビ
ーム通路は低電圧領域を形成する電極の列相互間の中間
における平面内に位置するようになる。この平面は、反
転レンズの許容入射窓のほぼ中心と整列される。

また、前記の高電圧領域を形成する電極が互いに且つ電
子ビーム偏向平面に対しほぼ平行で前記の制′ａ領域の
長さに沿って延在する一対の対向電極を有し、この一対
の対向電極は低電圧領域を形成する電極よりも電子ビー
ムから一層離れて配置されているようにすることができ
る。この場合、高電圧領域を形成する電極の対の一方の
電極は、エンベロープを前方領域および後方領域（それ
ぞれ第２領域および第１領域）に分離し且つ第２偏向手
段をも有する隔壁の後面、すなわちフェースプレート側
とは反対側の面上に設けるのが便利である。高電圧領域
を形成する電極の対の他方の電極はエンベロープの後部
壁土に設けるか或いは、この後部壁自体を以って構成す
ることもでき、エンベロープのこの後部壁は一般に平坦
とし、フェースプレートおよび前述したビーム偏向平面
に対しほぼ平行な平面内に位置させる。高電圧領域を形
成する電極の対は使用中等電位面を形成し、偏向平面に
対して対称的に配置するのが好ましい。

或いは、高電圧領域を形成する電極が、細条状電極の複
数の離間対を有し、これらの各村は偏向平面に対しほぼ
平行に延在し、低電圧領域を形成する電極対と交互に配
置され、各村の電極は偏向平面の両側に配置されている
ようにすることができる。製造を容易にする為には、高
電圧領域および低電圧領域を形成する双方の電極対の、
偏向平面の両側にあるそれぞれの電極が共面にあるよう
にするのが好ましい。この場合、電極は例えばガラスよ
り成るそれぞれの共通絶縁支持シート上に例えばスクリ
ーン印刷或いは蒸着した導電性材料の共面細条によって
形成することができる。この構造にすることにより、高
電圧領域および低電圧領域を形成する電極の相対位置を
製造段階で容易に決定でき、ビーム偏向平面に対する電
極の位置が支持シートの適切な配置により表示管の組立
中に正確に決定されるという利点が得られる。更に、こ
れらの支持シートの配置位置は、組立中の電子ビーム発
生手段の向きのわずかな偏移を考慮して必要に応じある
程度制御することができる。

最適な有効効果を得る為には、電極の列に印加する電圧
は第１偏向手段による電子ビームの偏向に応じて変える
必要がある。従って、電圧をライン走査割合に応じて変
えることができる。第１偏向手段は非偏向ビームに対す
る通路に相当する対称中心線を中心としてビームを偏向
させる。この偏向はこの中心線の両側に例えば２６度と
し全体の偏向角を５２度とすることができる。従って、
ビームが偏向されると、中心線の方向におけるビーム速
度成分は変化し、偏向パターンの外側端で最大に減少す
る。電極に印加する電圧を変えることによりこの速度変
化を調節し、ビームが発散或いは集中モードの場合より
も適正に制？ｉｌ　ｊＩ域から出て反転レンズに入るよ
うにすることができる。

好ましくは高電圧領域を形成する電極がほぼ一定電圧に
維持され、低電圧領域を形成する電極は電子ビーム偏向
に応じて変化するようにする。

図面につき本発明を説明する。

第１および２図に示す本発明による陰極線管（表示管）
はほぼ平坦なガラスフェースプレート１４を含むほぼ平
坦壁の方形エンベロープ１２を有しており、フェースプ
レート以外の壁部は金属、例えば軟鋼より成っ“ている
。フェースプレート１４の内面上には、アルミニウム背
面電極１８により被覆された螢光体材料層１６を有する
スクリーンが設けられている。

エンベロープ１２の内部は内部隔壁２０によりフェース
プレート１２に平行な平面で分割され前方領域２２およ
び後方領域２４を形成している。ガラスのような絶縁体
を有する隔壁２０は陰極線管の高さの大部分に延在して
いる。

隔壁２０の裏面上には平坦電極２６が設けられている。

この電極２６は隔壁の下側の露出縁を越え且つその前面
側でわずかの距離に亘って上方に延在している。エンベ
ロープの後部壁の内面上には電極２６に対応する平坦電
極２８が設けられている。この電極２８は後部壁から絶
縁させることができる。

後方領域２４内には、低エネルギーの電子ビームを生ぜ
しめる手段が配置されている。この電子ビーム発生手段
は電子ビーム３０をフェースプレート１４に平行で陰極
線管の下方に向けるように配置されており、加熱陰極３
１と、有孔グリッド電極３２と、対物レンズ形成用有孔
グリッド電極３３と、加速電極３４と、集束電極３５と
、最終加速（陽極）電極３６とを有する電子銃２９を具
えている。

また下方に向けた静電ライン偏向器３８が電子銃の最終
陽極３６かられずかな距離だけ離間されてこの電子銃と
同軸的に配置されている。このライン偏向器３８は動作
中フェースプレート１４と平行な平面内でビーム３０を
偏向させ、ライン走査（水平走査）を行わしめる。最終
陽極３６とライン偏向器３８との間には一対のアライメ
ント電極３７が配置されており、各アライメント電極が
ビーム通路の各側に位置している。

エンベロープ１２の下端には反転（ミラー）レンズ４０
があり、このレンズはトラフ（条溝）状の電極４１を有
しており、この電極４１は隔壁２０の下側縁の下方に離
間し且つこの隔壁に対し対称的に配置され、またエンベ
ロープ１２から＠録されている。

電極２６および４１間に、ある電位差を保つことにより
電子ビーム３０は１８０　’反転し、前方領域２２にお
いて隔壁２０の前面に真って反対方向に進み、ライン偏
向器３８からの゛通路と同じ角度の通路に沿って進行し
続ける。

隔壁２０の前面上には平坦な偏向電極配列４２．４５が
設けられている。この電極配列は横方向に細長で縦方向
に離間された複数個の電極を有し、これらの電極のうち
最下側の電極４５は他よりも幅狭として後述するように
補正電極として作用せしめることができる。他の電極４
２は選択的に附勢して、スクリーン１６に対し平行に且
つこれから離間して延在するチャネルプレート電子増倍
器４４の入射面上で電子ビーム３０のフレーム偏向を行
わしめる。

電子増倍器４４は例えば０．５　ｍｍピッチのチャネル
のマトリックスを有し、積層金属ダイノード電子増倍器
を具えている。この電子増倍器の代わりに他の形態の電
子増倍器、例えばガラスマイクロチャネルプレート電子
増倍器を用いることができる。

次に、電子増倍器４４内で電子流増倍を受けた電子ビー
ムがスクリーン電極１８と電子増倍器４４の出射面との
間に生ぜしめられる高電圧加速電界により加速されて螢
光体スクリーン１６上に到達し、表示を行う。

表示管の動作中、陰極３１のＯ■電位に対して例えば以
下の電圧が印加される。電子銃の最終陽極３６を４００
　Ｖに保持し、４００■の電子ビーム加速電圧を得る。

後方領域２４における電極２６および２８も４００■に
保持し、一方、ライン偏向はライン偏向器３８のプレー
トに平均４００　Ｖを中心として約±６゜■の電位変化
を規則的に与えることにより達成する。反転レンズのト
ラフ状電極４１は隔壁２０の下側縁部を越える電極２６
の延長部の４００Ｖに対して０■としてビーム３０を１
８０°反射させる。電子増倍器４４の入射面は４００■
とし、一方各フレーム走査の開始時に電極４２を４００
■にするも、その後に順次Ｏｖまで降下させてゆき、前
方領域２２内の電子ビーム３０が最初に電子増倍器４４
の最上側のチャネル内に偏向し、次に逐次電子増倍器上
を下方に向けて移動し、偏向点がＯＶにすべき電極配列
中の次の電極により決定されるようにする。互いに重な
る波形を電極４２に印加すると、垂直方向のフレーム走
査力乏スムーズ←行われる。

電子増倍器にま°たがって印加する電圧は代表的に約１
５００　Ｖである。スクリーン電極１８は代表的に約１
２ＫＶとし、電子増倍器の出射側から螢光体スクリーン
１６上へのビームに対する必要な加速が得られるように
する。

従って、ライン偏向器３８および偏向電極４２は電子銃
から生じる低エネルギービームが電子増倍器４９の入射
面上をラスク的に走査するようにしうること明かである
。方形のラスク走査を行う為には、ライン偏向器３８に
動的に補正を行うことによりライン走査にてい形補正を
行う必要がある。電極４１は隔壁の縁部から適切な距離
に位置させ、１８０゜偏向されたビームが前方領域２２
においてフェースプレートに対しほぼ平行に保たれるよ
うにする。

しかし、ビーム３０がスクリーンの平面に対し平行に走
らなくする位置決め（アライメント）誤差の予防手段と
して補正電極４５に補正電圧を印加してビームの反転角
を調整しうるようにすることができる。

同様に、ビーム３０が電子銃を出る際にこのビームの通
路をスクリーンに対し垂直な平面内で偏向させて電子銃
の位置決め誤差を相殺させるとともに、例えばいかなる
周囲の磁界もない理想的な動作状態でビーム通路がスク
リーン１６に対しほぼ平行となり且つ反転レンズに最適
な高さで入るようにする為に一対のアライメント電極３
７を設ける。

上述した表示管は多くの点で英国特許第２１０１３９６
Ａ号明細書に記載されたものと類似しており、その詳細
を参考の為に本明細書に導入している。この表示管のよ
り詳細な動作説明に関してはこの英国特許明細書を参照
しうる。

表示管が周囲の磁界の影響を受ける場合には、電子ビー
ム３０の不所望な偏向が領域２４において生じるおそれ
がある。以下の説明を簡単にする為に、磁界がｘ、’ｙ
および２方向で成分Ｈｘ、　ＨｙおよびＨｚを有してい
るものとする。ここに、ｘ、ｙ、ｚは第１図に示すよう
にそれぞれライン偏向方向およびスクリーン１６に対し
平行、電子銃の軸線およびスクリーン１６に対し平行、
Ｘ軸およびスクリーン１６に対し垂直に延在する互いに
直角を成す軸である。

表示管を良好に動作させる為には、電子ビームが反転レ
ンズに入る際にこの電子ビームが隔壁２０とエンベロー
プ１２の後部壁に隣接する電極４１の側壁の平面との間
の間隙幅の中央の１５〜２０％の領域の外部に外れない
ようにすることが重要である。

電子ビームがこの領域の外部に外れる場合には、大きな
焦点はずれや画像の欠落さえも生じるおそれがある。こ
の点で、Ｈｘ酸成分電子ビームのｙ方向速度成分との間
の相互作用が電子ビームを２方向に、すなわち前記の間
隙の幅方向に偏向させる傾向にある。一対のアライメン
ト電極３７を用いてこの相互作用の結果を相殺させるこ
とができるも、このことは磁界が静磁界ではなく変化す
る場合には実際的なものではなくなり、また周囲磁界が
反転レンズの前の領域におけるビームの偏向面をフェー
スプレートに対して傾斜させる状態では殆ど用いること
ができなくなる。

特にＨｘ磁界成分による影響を抑圧し、２方向のビーム
偏移量を無くすか或いは少なくとも著しく減少させる為
に、本発明によれば、表示管に電子銃と反転レンズ４１
との間に位置するビーム制？ｉｌｌ　Ｍ域を画成する電
子光学レンズシステムを設け、この領域を通るビーム軌
道に沿ってこのビームを周期的に再集束させてビームが
所定の通路にほぼ沿うようにするようこのビームに作用
する電圧を電子−光学レンズシステムに印加する。

上記のレンズシステムは静電的なリレーレンズ列を有し
ている。第３図をも参照するに、５０で示すこのリレー
レンズ列は、表示管の後方領域におけるビームの所望偏
向面の内側に配置した電極を有しており、これら電極に
は交互に高および低電圧領域が存在する列を形成する電
圧を印加し、ビームがこの列を通ると電極２６の平面と
エンベロープの後部壁に近い側のトラフ電極４１の側壁
の平面との間のほぼ中央の平面内に維持されるようにす
る。従って、制ｍ　Ｎ域におけるビーム偏向面はフェー
スプレートの平面に対しほぼ平行に保たれる。

リレーレンズはビームを連続的に再集束させ、しかもビ
ーム、を中央の平面から偏移させる傾向にある磁界によ
る影響辷応答してこれらリレーレンズが発生する磁界に
よる制御の下でビームを中央の平面に戻す作用をし、従
って、ビームが所望の高さで反転レンズ４１に入るよう
になる。

このようにして実際には高および低電圧領域がビームを
所望平面内に維持する作用をする電界集束型レンズを形
成する。リレーレンズは２組の電極より成っており、第
１の組は前述した電極２６および２８のそれぞれの一部
分を有し、第２の組は表示管の縦方向で互いに離間され
た複数対の電極５１を有し、各村の電極は所望のビーム
通路に対して各側に１個づつ且つ対称的に配置されてい
る。この特定例では６つの電極対が第２の組の電極とし
て設けられている。第１の組の電極、すなわち電極２６
および２日に印加される電圧は等電位面が所望のビーム
通路に対し対称的に生じるように同じとする。第２の組
を構成する各村の電極５１に印加する電圧も、第１の組
に印加する電圧よりも低くするという点を除いて所望の
ビーム通路に対し対称的で離間した同一電圧ストリップ
の列を形成するように同じとする。この配列により生じ
る電界の等電位線を第３図に示す。この第３図から明か
なように、ビーム３０は印加電圧による影響の下で制御
領域を通過する際に集中および発散モードを交互に受け
、制ｊＢ　ｊＩ域の終了時に所望ビーム通路に相当する
中心軸線を中心としてほぼ対称的に維持される。

従って、電子ビームが制御領域中を通過する際にこの電
子ビームは比較的高い電圧と比較的低い電圧とを交互に
受け、この作用により外部磁界の影響にかかわらずビー
ムを所望の通路に沿って反転レンズに到達せしめる。

比較の為に、リレーレンズシステムが存在しない場合、
より正確に言えば第２の組の電極が存在しない場合に、
図面の平面に垂直に作用する地磁界の水平成分の強度に
等価な外部磁界が電子ビームの軌道に及ぼす影響を第４
図に示す。

ライン偏向器３８は、表示管の動作中、電子銃から生じ
るビームをフェースプレートに対し平行な平面内で繰返
し且つ規則的に偏向せしめるように構成されており、゛
この偏向は偏向されないビームの通路の内側に例えば最
端で２６度であり、従って全体の偏向角は５２度となる
。

電極２６および２８はこの偏向パターンの領域全体に亘
って延在する為、この偏向パターン中のいかなる通路に
も沿うようビームを強制させることができる。電極５１
の対は電極２６および２８の平面従ってフェースプレー
ト１４に対し平行でこの領域を通る非偏向ビーム通路を
交差する方向に延在し互いに対向する細長細条状電極を
有しており、これら電極によっても全偏向領域を覆って
いる。ビーム偏向パターンは三角形をしている為、電極
５１の対の長さを逐次増大させ、すべてを同じ長さ或い
は形状とせずに扇状のアレイが得られるようにし、しか
もこれらの電極が依然として偏向領域を被覆するように
することができる。

ｙ方向（第１図）のビーム速度はその偏向パターンにお
けるビームの位置に応じて変化し、偏向されずに垂直方
向で下方に移動するビームに対して最大となり、両極端
位置におけるビームに対して最小となる。この速度成分
の変化は考慮する必要がある。その理由は、この速度成
分の変化とリレーレンズシステムがビームに及ぼす影響
とが関連する為である。表示管を最適に動作させる為に
はビームが集中或いは発散モードで反転レンズに入らな
いようにすることが望ましい。このようにするには、リ
レーレンズシステムに印加する電圧をビーム偏向に応じ
て、すなわちライン走査速度に応じて変化させ、ｙ方向
の速度成分における変化を補償するようにする。特に、
第２の組の電極５１の対に印加する電圧を変化させ、一
方、第１の組の電極に印加する高電圧をほぼ一定に維持
する。

次に印加電圧の代表的な例を説明する。この目的の為に
、電子銃２９の最終加速電極電位を４００■とし、偏向
器３日と反転レンズとの間の距離を約１４ｃｍとし、電
極５１の第２の組が５Ｍ幅の電極を６対だけ１５ｎｍ＋
ピッチで有しているものとする。第１の組の電極２６お
よび２８に印加する電圧は４００■に保持し、電極５１
の対に印加する電圧は偏向されない零度の走査角にある
ビームに対する１４０■から１４度の走査角にある゛ビ
ームに対する１６０Ｖを経て２６度の端の走査角にある
ビームに対する１９０■に変化させる。

ここでは電極５１の高電圧を便宜上電子銃の最終加速電
位と同じに選択し、制御領域の開始および終了個所に生
じるおそれのあるレンズ作用を無くすようにする。これ
とは異なる値の高電圧を用いることもできる。低電圧値
は選択した高電圧値により決定され、或いはその逆とな
る。

電極２６は隔壁２０の後面上に適切な材料の層として堆
積させることができ、或いは隔壁２０に設けたシートと
することができる。電極２８はエンベロープ１２の後部
壁の一部分を以って構成するか或いはエンベロープに設
けた別個の電極シートを以って構成し、また任意ではあ
るがこの後部壁から絶縁させることができる。

電極５１の対はエンベロープ１２上に装着した適切な支
持構造（図示せず）によって支持することができる。各
村の電極はこれらの末端で支持するか或いは例えば基部
に装着したＵ字状細条のアーム部分を有するようにする
ことができる。更に、複数対の電極を一枚の共通シート
から打抜きにより一体に形成することができる。

リレーレンズシステムがその必要とする機能を信幀的に
且つ最も有効に実行するようにする為には、電極２６．
２８および５１の相対的な且つ反転レンズに対する位置
決めを高精度で達成する必要がある。例えば電ｉ５１の
対の一方の電極にわずかな位置決め誤差があると、許容
しえない結果を生ぜしめるおそれがある。表示管に用い
るリレーレンズシステムの他の例を第５図に示す。本例
のリレーレンズシステムによれば上述した問題が生じる
おそれを低域せしめる。第５図を参照することから明か
なように、個別の細条を等電位面（２６，２８）間に配
置する代わりに、ビーム通路方向の所要の電位変化を共
面細条により得る。この場合、リレーレンズシステムの
うち第２の低電圧領域を規定する電極の組は前の例の電
極５１に類似する多数の対向電極６０の対を以って構成
され、これら電極の対はビーム、走行方向軽おいて互い
に離間され、これらの電極の対は第１の高電圧領域を規
定する電極の組を構成する対向電極６３の対と交互に配
置されている。本例では双方の組の電極ビーム通路の各
側にある電極は共面的であり、ビーム通路に対し交差す
る方向に延在しているという点を除いて各村の電極は前
の例におけるように所望の電子ビーム通路を中心に対称
的に配置されている。電極６３の対は電極６０の対より
も幅広であることを除いてこれら電極６３の対は最長形
状や向きに関して電極対６０に、従って前の例の電極対
５１に類似している。前述したように第１および第２の
組の電極には高および低電圧をそれぞれ印加してリレー
レンズの列を構成する交互の高および低電圧領域の列を
形成する。これにより得られる電界の等電位線を第５図
に示してあり、これから明かなように、得られる電界が
電子ビームに及ぼす影響は第３図と同じとなり、電子ビ
ームが周期的に再集束されほぼ所望の通路に沿い、最適
な高さで反転レンズに入り、この点で電子ビームの集中
も発散も生じない。

この構成は高精度で達成しうる。その理由は、ビーム通
路の各側のすべての電極を６４および６５で示すそれぞ
れの共通支持体上に設けることができる為である。電極
はガラスのような絶縁シート上にスクリーン印刷した或
いは蒸着した金属の細条を有し、双方の電極組のそれぞ
れの電極間の相互接続ラインも同時に形成するようにす
るのが好ましい。

支持体６４および６５はそれぞれ隔壁２０およびエンベ
ロープ１２の後部壁土に或いはエンベロープ１２の他の
部分上に直接或いは間接的に装着することができる。

本例に必要とする電圧は前の例の電圧とわずかに相違す
る。動作中に印加する代表的な電圧の例としては、第１
の組の電極の電圧を前の例と同じ、すなわち４００■と
し、第２の組の電極に印加する電圧は偏向されないビー
ムに対する１７０　Ｖから２６度の端の偏向角でのビー
ムに対する２１５■まで電子ビーム偏向に応じて変化さ
せた。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明による陰極線管の主要素子と、電子銃
およびビーム反転レンズ間の後部領域中のビーム制御用
の電子−光学レンズシステムの一例とを示す縦断面図、 第２図は、一部を切欠して第１図の陰極線管を後方から
見た斜視図、 第３図は、陰極線管の動作中、外部磁界の存在の下で電
子銃と反転レンズとの間のビーム制＜’ＨＳｉ域中の電
子ビームに与える第１図のレンズシステムの効果を示す
レンズシステムの断面図、第４図は、ビーム制御用のレ
ンズシステムが存在しない場合にビーム制御領域で周囲
の磁界が電子ビームに及ぼす影響を示すビーム制御領域
の断面図、 第５図は、第１図の陰極線管に用いる電子−光学レンズ
システムの他の例を示す断面図である。 工２・・・エンベロープ　　１４・・・フェースプレー
ト１６・・・螢光体材料層（スクリーン）１８・・・背
面電極（スクリーン電極）２０・・・内部隔壁　　　　
２２・・・前方領域２４・・・後方領域　　　　２６．
２８・・・平坦電極２９・・・電子銃　　　　　３０・
・・電子ビーム３１・・・加熱陰極　　　　３２・・・
有孔グリッド電極３３・・・対物レンズ形成用有孔グリ
ッド電極３４・・・加速電極　　　　３５・・・集束電
極３６・・・最終加速（陽極）電極 ３７・・・アライメント電極 ３８・・・ライン偏向器 ４０・・・反転（ミラー）レンズ ４１・・・トラフ状電極　　４２．４５・・・電極配列
４４・・・電子増倍器　　　５０・・・リレーレンズ列
６０、６３・・・電極　　　　６４．６５・・・支持体
特許出願人　　　エヌ・ベー・フィリップス・フルーイ
ランペンファブリケン

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、螢光体スクリーンを有するほぼ平坦で透明なフェー
   スプレートを含むエンベロープと、電子ビームを発生さ
   せこの電子ビームを前記のフェースプレートに平行で第
   １領域を通って反転レンズに向け、この反転レンズによ
   り電子ビームを反転させて電子ビームが前記フェースプ
   レートに平行なほぼ反対方向で第２領域を通って走行す
   るようにする電子ビーム発生手段と、この電子ビーム発
   生手段の出射端に隣接して設けられ、前記のフェースプ
   レートにほぼ平行な平面内で電子ビームを偏向させる第
   １偏向手段と、前記の第２領域で電子ビームを前記の螢
   光体スクリーンに向けて偏向させる第２偏向手段とを具
   える平型陰極線表示管において、この平型陰極線表示管
   が前記の電子ビーム発生手段と前記の反転レンズとの間
   に位置するビーム制御領域を規制する電子−光学レンズ
   システムを具え、この電子−光学レンズシステムが前記
   のビーム制御領域において電子ビームを周期的に再集束
   させ、この電子ビームが所定の通路にほぼ沿って走行す
   るようになっていることを特徴とする平型陰極線表示管
   。 ２、請求項１に記載の平型陰極線表示管において、前記
   の電子−光学レンズシステムが、電子ビーム通路の内側
   に配置されビーム偏向方向で前記のフェースプレートの
   平面に対しほぼ平行に延在する電極を有し、これら電極
   は更に前記のビーム制御領域で交互に高および低電圧領
   域の列を形成するように配置されていることを特徴とす
   る平型陰極線表示管。 ３、請求項２に記載の平型陰極線表示管において、前記
   の低電圧領域を形成する電極が互いにほぼ平行に延在す
   る細条電極の複数の離間電極対を有し、各離間電極対の
   電極がビーム偏向平面の対向する両側に配置されている
   ことを特徴とする平型陰極線表示管。 ４、請求項３に記載の平型陰極線表示管において、ビー
   ム偏向平面の両側に位置する電極対の各々の電極がフェ
   ースプレートに対しほぼ平行なそれぞれの平面に位置し
   ていることを特徴とする平型陰極線表示管。 ５、請求項４に記載の平型陰極線表示管において、前記
   の低電圧領域を形成する各電極対の電極が使用に際し同
   電位となり、且つビーム偏向平面に対して対称的に配置
   されていることを特徴とする平型陰極線表示管。 ６、請求項２〜５のいずれか一項に記載の平型陰極線表
   示管において、前記の高電圧領域を形成する電極が互い
   に且つ電子ビーム偏向平面に対しほぼ平行で前記の制御
   領域の長さに沿って延在する一対の対向電極を有し、こ
   の一対の対向電極は低電圧領域を形成する電極よりも電
   子ビームから一層離れて配置されていることを特徴とす
   る平型陰極線表示管。 ７、請求項６に記載の平型陰極線表示管において、高電
   圧領域を形成する電極の対の一方の電極は、エンベロー
   プを前記の第１および第２領域に分離し前記の第２偏向
   手段をも有する隔壁の表面上に設けられていることを特
   徴とする平型陰極線表示管。 ８、請求項６または７に記載の平型陰極線表示管におい
   て、高電圧領域を形成する電極の対は等電位面を形成し
   ており、ビーム偏向平面に対して対称的に配置されてい
   ることを特徴とする平型陰極線表示管。 ９、請求項３〜５のいずれか一項に記載の平型陰極線表
   示管において、高電圧領域を形成する電極が、細条状電
   極の複数の離間対を有し、これらの各対は偏向平面に対
   しほぼ平行に延在し、低電圧領域を形成する電極対と交
   互に配置され、各対の電極は偏向平面の両側に配置され
   ていることを特徴とする平型陰極線表示管。 １０、請求項９に記載の平型陰極線表示管において、高
   電圧領域および低電圧領域を形成する双方の電極対の、
   偏向平面の両側にあるそれぞれの電極が共面にあること
   を特徴とする平型陰極線表示管。 １１、請求項１０に記載の平型陰極線表示管において、
   低電圧領域および高電圧領域を形成する電極の対の、偏
   向平面の両側にあるそれぞれの電極が共通支持体上に設
   けられていることを特徴とする平型陰極線表示管。 １２、請求項２〜１１のいずれか一項に記載の平型陰極
   線表示管において、リレーレンズの列に印加される電圧
   は第１偏向手段による電子ビームの偏向に応じて変化す
   るようになっていることを特徴とする平型陰極線表示管
   。 １３、請求項１２および２に記載の平型陰極線表示管に
   おいて、高電圧領域を形成する電極がほぼ一定電圧に維
   持され、低電圧領域を形成する電極は電子ビーム偏向に
   応じて変化することを特徴とする平型陰極線表示管。