JPS63233940A - パ−フルオロアルケニロキシフエノ−ル及びその誘導体 - Google Patents
パ−フルオロアルケニロキシフエノ−ル及びその誘導体Info
- Publication number
- JPS63233940A JPS63233940A JP6939487A JP6939487A JPS63233940A JP S63233940 A JPS63233940 A JP S63233940A JP 6939487 A JP6939487 A JP 6939487A JP 6939487 A JP6939487 A JP 6939487A JP S63233940 A JPS63233940 A JP S63233940A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- alkyl
- reaction
- chloroform
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Epoxy Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はパーフルオロアルケニロキシフェノール及１そ
の誘導体に関する。
の誘導体に関する。
（従来の技術）
従来、例えばトリフルオロメチル７エ／−ルの如き含フ
ツ素フェノールを原料とした７エ／−ル／ボラック樹脂
は米国特許第３６５８７５８号等より公知であるが、こ
れらは耐水性及び耐熱性において不十分である。
ツ素フェノールを原料とした７エ／−ル／ボラック樹脂
は米国特許第３６５８７５８号等より公知であるが、こ
れらは耐水性及び耐熱性において不十分である。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明の目的は耐水性、耐熱性に優れた含７ツ素フェノ
ールノボラック樹脂或いは含フツ素エポキシ樹脂の原料
となる含フツ素７エ／−ル及びその誘導体を提供するこ
とにある。
ールノボラック樹脂或いは含フツ素エポキシ樹脂の原料
となる含フツ素７エ／−ル及びその誘導体を提供するこ
とにある。
（問題点を解決するための手段）
本発明は一般式
ＯＨ１炭素数１〜４のアルキル基又は
−０ＣＨ２ＣＨ−ＣＨ２、Ｘは炭素数６〜１４のパーフ
ルオロアルケニル基を示す）で表わされるパーフルオロ
アルケニロキシフェノール又はその誘導体に係る。
ルオロアルケニル基を示す）で表わされるパーフルオロ
アルケニロキシフェノール又はその誘導体に係る。
本発明においてＲ’＝ＯＨ，Ｒ２＝Ｈ又は炭素数１〜４
のアルキル基のパーフルオロアルケニロキシ７二７−ル
類は例えば次の式により得られる。
のアルキル基のパーフルオロアルケニロキシ７二７−ル
類は例えば次の式により得られる。
即ちモノアルコキシ（又はアシロキシ）フェノール又は
そのアルキル誘導体（Ｒ２＋はＨ又は炭素数１〜４のア
ルキル基、Ｒ３は炭素数１〜８のアルコキシ基又は炭素
数１〜８の７シロキシ基）（２）とパーフルオロアルケ
ンＸＦとを反応させてバーフルオロアルケニロキシモノ
アルコキシ（又はアシロキシ）ベンゼン又はそのアルキ
ル誘導体（３）を合成し、次いでこれをハロゲン化水素
Ｈ２と反応させることにより、パーフルオロアルケニロ
キシ７二／−ル又はそのアルキル誘導体（４）が得られ
る。
そのアルキル誘導体（Ｒ２＋はＨ又は炭素数１〜４のア
ルキル基、Ｒ３は炭素数１〜８のアルコキシ基又は炭素
数１〜８の７シロキシ基）（２）とパーフルオロアルケ
ンＸＦとを反応させてバーフルオロアルケニロキシモノ
アルコキシ（又はアシロキシ）ベンゼン又はそのアルキ
ル誘導体（３）を合成し、次いでこれをハロゲン化水素
Ｈ２と反応させることにより、パーフルオロアルケニロ
キシ７二／−ル又はそのアルキル誘導体（４）が得られ
る。
同様にＲ’＝Ｒ２＝ＯＨのパーフルオロアルケニロキシ
−ヒドロキシフェノールは例えば次の式により得られる
。
−ヒドロキシフェノールは例えば次の式により得られる
。
ここでＲ３及びＲ４はそれぞれ炭素数１〜８のアルコキ
シ基又は炭素数１〜８の７シロキシ基であり、反応の形
式は上記と同様である。 上記においてＸで表わされる
炭素数６〜１４のパーフルオロアルケニル基としては例
えば式 （Ｒ’、Ｒ’及びＲ７はそれぞれ炭素数１〜６のパーフ
ルオロアルキル基またはいずれかの一つがＦ原子、その
他は炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基を示し、Ｒ
６は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を示す。）
で表わされる基を示すことができ、特に好適なものとし
てはへキサフルオロプロペンの２量体又は３量体、テト
ラブルオロエチレンの４〜７１体からフッ素原子１個が
脱離して形成される基を挙げることかでか、構造式で例
示すると下記のとおりである。
シ基又は炭素数１〜８の７シロキシ基であり、反応の形
式は上記と同様である。 上記においてＸで表わされる
炭素数６〜１４のパーフルオロアルケニル基としては例
えば式 （Ｒ’、Ｒ’及びＲ７はそれぞれ炭素数１〜６のパーフ
ルオロアルキル基またはいずれかの一つがＦ原子、その
他は炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基を示し、Ｒ
６は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を示す。）
で表わされる基を示すことができ、特に好適なものとし
てはへキサフルオロプロペンの２量体又は３量体、テト
ラブルオロエチレンの４〜７１体からフッ素原子１個が
脱離して形成される基を挙げることかでか、構造式で例
示すると下記のとおりである。
（ｃＦ、）２ｃ＝ａｃ、Ｒ９、
ｌ ＼
Ｆ３
弐ＸＦで表わされるパーフルオロアルケンとしては例え
ば式 Ｒ５Ｒ６ （［い Ｒ６及びＲ７は前記と同意義を示す）で表わさ
れる化合物を示すことができ、特に好適なものとしては
へキサフルオロプロペンの２量体及び３量体、テトラフ
ルオロエチレンの４〜７を体を挙げることができ、構造
式で例示すると、下記のとおりである。
ば式 Ｒ５Ｒ６ （［い Ｒ６及びＲ７は前記と同意義を示す）で表わさ
れる化合物を示すことができ、特に好適なものとしては
へキサフルオロプロペンの２量体及び３量体、テトラフ
ルオロエチレンの４〜７を体を挙げることができ、構造
式で例示すると、下記のとおりである。
（ＣＦ、）２Ｃ＝ＣＦ（Ｃ２Ｆ、）、
Ｈｚで表わされるハロゲン化水素としては例えばヨウ化
水素酸、臭化水素酸などを例示することができる。
水素酸、臭化水素酸などを例示することができる。
上記の化合物（２）又は（５）より、化合物（３）又は
（６）をそれぞれ得るパーフルオロフルケニロキシ化反
応は塩基の存在下、溶媒中で行うのが好ましい。塩基と
しては例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン等のアミン類・アルカリ金属またはその
水酸化物等を、溶媒としてはアセトニトリル、ジメチル
ホルム７ミド、ツメチルスルホキシドなどの非プロトン
性極性溶媒が好適に使用できる。化合物（２）又は（５
）とパーフルオロフルケンの割合は通常前者１モルに対
して後者を約１〜１０モル用いるのが好ましい。反応温
度は適宜選択できるが約Ｏ〜４０℃、特に約０〜２０℃
の範囲が好ましい。塩基は化合物（２）又は（５）１モ
ルに対して約１〜２０モルの範囲で用いるのが好適であ
る。目的物である化合物（３）又は（６）は通常、蒸留
、再結晶などの有機化合物混合系の分離について用いら
れる公知の方法で分離、回収できるが、そのまま次の工
程に供することもできる。
（６）をそれぞれ得るパーフルオロフルケニロキシ化反
応は塩基の存在下、溶媒中で行うのが好ましい。塩基と
しては例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン等のアミン類・アルカリ金属またはその
水酸化物等を、溶媒としてはアセトニトリル、ジメチル
ホルム７ミド、ツメチルスルホキシドなどの非プロトン
性極性溶媒が好適に使用できる。化合物（２）又は（５
）とパーフルオロフルケンの割合は通常前者１モルに対
して後者を約１〜１０モル用いるのが好ましい。反応温
度は適宜選択できるが約Ｏ〜４０℃、特に約０〜２０℃
の範囲が好ましい。塩基は化合物（２）又は（５）１モ
ルに対して約１〜２０モルの範囲で用いるのが好適であ
る。目的物である化合物（３）又は（６）は通常、蒸留
、再結晶などの有機化合物混合系の分離について用いら
れる公知の方法で分離、回収できるが、そのまま次の工
程に供することもできる。
（８）式のＸＦで示される化合物の中には及び
ＲＳ Ｒ６
で示される化合物が包含？！−虹る。
これらからは、それぞれ
が生成する。
より具体的には例えば
ＣＦ。
、 、、ＣＦ（ＣＦ、）２
が生成する。
上記の化合物（３）又は（６）よりハロゲン化水素の存
在下、脱フルキル化（又は脱アシル化）反応は溶媒の存
在下に行うのが好ましい。溶媒としてはギ酸、酢酸、ト
リフルオロ酢酸、メタノール、エタノール、ｎ−プロパ
ツール、イソプロパ７−ル、ｎ−ブタノールなどを用い
ることができる。ハロゲン化水素は化合物（３）又は（
６）に対して約２〜１００倍モル使用するのが好ましい
。反応温度は適宜選択出来るが約５０〜２００℃の範囲
が好ましい。
在下、脱フルキル化（又は脱アシル化）反応は溶媒の存
在下に行うのが好ましい。溶媒としてはギ酸、酢酸、ト
リフルオロ酢酸、メタノール、エタノール、ｎ−プロパ
ツール、イソプロパ７−ル、ｎ−ブタノールなどを用い
ることができる。ハロゲン化水素は化合物（３）又は（
６）に対して約２〜１００倍モル使用するのが好ましい
。反応温度は適宜選択出来るが約５０〜２００℃の範囲
が好ましい。
尚、塩化アルミニウムなどのルイス酸による脱アルキル
化（脱アシル化）反応を行うこともできる。
化（脱アシル化）反応を行うこともできる。
目的物である化合物（４）または（７）は通常の方法、
例えば抽出、濃縮、蒸留、再結晶等の方法により、分離
、精製することができる。
例えば抽出、濃縮、蒸留、再結晶等の方法により、分離
、精製することができる。
また上記反応のうち脱アシル化反応は例えばアルカリ金
属及び／又はアルカリ土類金属の水酸化物を用い、水又
はメタノール、エタノール等のアルコール類を媒体とし
て鹸化した後、反応系を酸性化することによっても打う
÷とができる。化合物（３）または（６）に対して約２
〜３０倍モルのアルカリ金属及び／又はアルカリ土類金
属の水酸化物を使用するのが好ましい。反応温度は適宜
選択できるが約２０〜１００℃の範囲が好ましい。
属及び／又はアルカリ土類金属の水酸化物を用い、水又
はメタノール、エタノール等のアルコール類を媒体とし
て鹸化した後、反応系を酸性化することによっても打う
÷とができる。化合物（３）または（６）に対して約２
〜３０倍モルのアルカリ金属及び／又はアルカリ土類金
属の水酸化物を使用するのが好ましい。反応温度は適宜
選択できるが約２０〜１００℃の範囲が好ましい。
（以下０−Ｇｌｙと略記する）、Ｒ２＝Ｈ又は炭素数１
〜４のアルキル基のパーフルオロアルケニロキシフェニ
ルグリシジルエーテル類は化合物（４）とエピクロルヒ
ドリン（以下ＥＣＨと略記する）とのエーテル化反応に
より得られる。またＲ’＝Ｒ２＝Ｑ−Ｇｌｙのパーフル
オロアルケニロキシフェニルジグリシジルエーテルは化
合物（７）とＥ ＣＨとのエーテル化反応により得られ
る９反応には必ずしも溶媒は必要でないが、メチルエチ
ルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢ
Ｋ）などを用いることも可能である。化合物（４）また
は（７）に対してＥＣＨを約２〜１００倍モル使用する
のが好ましい。またＮａＯＨ１ＫＯＨ，Ｌｉ０ＨＳＣａ
（Ｏ１２）２などのアルカリを化合物（４）又は（ア）
の０１４当量に対して約１〜２０当景を使用するのが好
ましい。
〜４のアルキル基のパーフルオロアルケニロキシフェニ
ルグリシジルエーテル類は化合物（４）とエピクロルヒ
ドリン（以下ＥＣＨと略記する）とのエーテル化反応に
より得られる。またＲ’＝Ｒ２＝Ｑ−Ｇｌｙのパーフル
オロアルケニロキシフェニルジグリシジルエーテルは化
合物（７）とＥ ＣＨとのエーテル化反応により得られ
る９反応には必ずしも溶媒は必要でないが、メチルエチ
ルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢ
Ｋ）などを用いることも可能である。化合物（４）また
は（７）に対してＥＣＨを約２〜１００倍モル使用する
のが好ましい。またＮａＯＨ１ＫＯＨ，Ｌｉ０ＨＳＣａ
（Ｏ１２）２などのアルカリを化合物（４）又は（ア）
の０１４当量に対して約１〜２０当景を使用するのが好
ましい。
触媒は必ずしも必要ではないが、トリメチルベンノルア
ンモニラムクミライド、ナト２メチルアンモニウムブロ
マイド等の第４級アンモニウム塩を反応系に対して約０
．０１〜１０重量％の割合で使用することも出来る。反
応温度は適宜選択できるが約５０〜２００℃の範囲が好
ましい。目的物であるパーフルオロアルケニロキシフェ
ニルモノ（又は））グリシツルエーテル類は通常の方法
、例えば抽出、濃縮、蒸留、再結晶等の方法により、分
離、精製することが出来る。
ンモニラムクミライド、ナト２メチルアンモニウムブロ
マイド等の第４級アンモニウム塩を反応系に対して約０
．０１〜１０重量％の割合で使用することも出来る。反
応温度は適宜選択できるが約５０〜２００℃の範囲が好
ましい。目的物であるパーフルオロアルケニロキシフェ
ニルモノ（又は））グリシツルエーテル類は通常の方法
、例えば抽出、濃縮、蒸留、再結晶等の方法により、分
離、精製することが出来る。
（発明の効果）
本発明の化合物のうち、パーフルオロアルヶ二〇キシフ
ェノールは、７エ７−ルと同様にホルムアルデヒドと反
応して／ボラックまたはレゾールを生成し、これらは加
熱またはへキサメチレンテトラミンのような硬化剤によ
り硬化する。硬化体は、耐熱性お上ゾ射水性が優れた材
料であり、絶縁板等の電気材料に用いられる。パーフル
オロアルケニロキシフェニルグリシジルエーテルは、エ
ポキシ化合物と同様にルイス酸、第三級アミン、イミダ
ゾール、酸無水物、ポリアミン等の硬化触媒又は硬化剤
により重合して硬化体を生成する。
ェノールは、７エ７−ルと同様にホルムアルデヒドと反
応して／ボラックまたはレゾールを生成し、これらは加
熱またはへキサメチレンテトラミンのような硬化剤によ
り硬化する。硬化体は、耐熱性お上ゾ射水性が優れた材
料であり、絶縁板等の電気材料に用いられる。パーフル
オロアルケニロキシフェニルグリシジルエーテルは、エ
ポキシ化合物と同様にルイス酸、第三級アミン、イミダ
ゾール、酸無水物、ポリアミン等の硬化触媒又は硬化剤
により重合して硬化体を生成する。
硬化体は、耐熱性および耐水性が優れた材料であり、絶
縁板等の電気材料に用いられる。
縁板等の電気材料に用いられる。
（実 施 例）
以下に実施例を挙げて詳しく説明する。
実施例１
撹拌機、滴下シ戸斗、温度計を備えた反応穿器にｐ−メ
トキシフェノール１３０．、ツメチルホルムアミド９０
０ｄおよびトリエチルアミン３１８ｇを入れ、２０°Ｃ
以下に冷却した。このものに２０’Ｃ以下に保ちながら
へキサフルオロプロペン３喰体４５０ｇヲ］Ｏ＋？間で
滴下し、２０℃以下に保ちながら２時間撹拌した。反応
後、多量の希塩酸中に反応液を投入し、沈澱した黄色の
油状物を回収し、水層が酸性を示さなくなるまで水によ
る洗浄を繰返した。得られた油状物を蒸留し、４−パー
フルオロノネニロキシフェニルメチルエーテル４４３ｇ
を得た。ｂ、ｐ、 ８６〜ｂ この化合物３８８ｇを酢１’［１１３００ｗ１に溶解し
、５７％ヨウ化水素酸水溶液１３００＋／を加え撹拌し
なから２４Ｖｆ間加熱還流させた。放冷後、液状生成物
を５％亜硫酸ナトリウム水溶液に投入し、クロロホルム
２１で２回抽出した。クロロホルム溶液を濃縮し、得ら
れた粗結晶をクロロホルムに溶解し再結晶して４−バー
フルオロノネニａキシフェノール３１１ｇを得た。ｍ、
ｐ、１０５℃。
トキシフェノール１３０．、ツメチルホルムアミド９０
０ｄおよびトリエチルアミン３１８ｇを入れ、２０°Ｃ
以下に冷却した。このものに２０’Ｃ以下に保ちながら
へキサフルオロプロペン３喰体４５０ｇヲ］Ｏ＋？間で
滴下し、２０℃以下に保ちながら２時間撹拌した。反応
後、多量の希塩酸中に反応液を投入し、沈澱した黄色の
油状物を回収し、水層が酸性を示さなくなるまで水によ
る洗浄を繰返した。得られた油状物を蒸留し、４−パー
フルオロノネニロキシフェニルメチルエーテル４４３ｇ
を得た。ｂ、ｐ、 ８６〜ｂ この化合物３８８ｇを酢１’［１１３００ｗ１に溶解し
、５７％ヨウ化水素酸水溶液１３００＋／を加え撹拌し
なから２４Ｖｆ間加熱還流させた。放冷後、液状生成物
を５％亜硫酸ナトリウム水溶液に投入し、クロロホルム
２１で２回抽出した。クロロホルム溶液を濃縮し、得ら
れた粗結晶をクロロホルムに溶解し再結晶して４−バー
フルオロノネニａキシフェノール３１１ｇを得た。ｍ、
ｐ、１０５℃。
高磁場側を正とする値で化学シフト（δｐｐｍ）を表示
（以下同様）。
（以下同様）。
■−５，１，６Ｆ
■ −６，４，６Ｆ
像）−２１，４，３Ｆ
■ ８９，２． ＩＦ
にｄ ９１，４． ＩＦ
実施例２
実ＭＡＮ１におけるｐ−メトキシ７エ／−ルの代りにｌ
−メトキシフェノールを用いる以外は実施例１と同様に
操作して３−パーフルオロ／ネニロキシフェニルメチル
エーテル４２３ｇを得た。 ｂ、ｐ、 ８３〜ｂ に溶解し、５７％ヨウ化水素酸１３００ｍｌを加え撹拌
しながら５７時間加熱還流させた。放冷後、反応液を５
％亜硫酸ナトリウム水溶液に投入し、クロロホルム２ｅ
で２回抽出した。減圧下にクロロホルムを留去し、残渣
を蒸留して３−パーフルオロノネニロキシフェノール２
８２ｇを得た。ｂ、ｐ、９４〜９６℃７４ ｍｍ Ｈｇ
。
−メトキシフェノールを用いる以外は実施例１と同様に
操作して３−パーフルオロ／ネニロキシフェニルメチル
エーテル４２３ｇを得た。 ｂ、ｐ、 ８３〜ｂ に溶解し、５７％ヨウ化水素酸１３００ｍｌを加え撹拌
しながら５７時間加熱還流させた。放冷後、反応液を５
％亜硫酸ナトリウム水溶液に投入し、クロロホルム２ｅ
で２回抽出した。減圧下にクロロホルムを留去し、残渣
を蒸留して３−パーフルオロノネニロキシフェノール２
８２ｇを得た。ｂ、ｐ、９４〜９６℃７４ ｍｍ Ｈｇ
。
■−５，２，０Ｆ
（ｆｉ） −６，５，６Ｆ
■−２１，３，３Ｆ
（Φ ８９．４． ＩＦ
（ｊ） ９１，３． ＩＦ
実施例３
実施例２におけるヘキサフルオルプロペン３量体の代り
にヘキサフルオロプロペン２量体３００ｇを用いる以外
は実施例２と同様に操作して３−バーフルオロヘキセニ
ロキシフェニルメチルエーテル２３５ｇを得た７この化
合物２８３ｇを酢酸１３００＋自ｌに溶解し、５７％ヨ
ウ化水素酸１３００ｍｌを加え撹拌しながら６０時間加
熱還流させた。放冷後、反応液を５％亜硫酸ナトリウム
水溶液に投入し、クロロホルム２１で抽出した。減圧下
にクロロホルムを留去し、残渣を蒸留して３−パーフル
オロヘキセニロキシ７工／−ル１３９ｇを得た。ｂ、１
ｚ、 ８３〜ｂＩ＠Ｆ−ＮＭＲ （外部標準ＣＦ 、Ｃ００）ｌ 、ＣＤＣＩ 、中、δ
ｐｐｍ）■ ４，１．３Ｆ ［有］ ３５，１．２Ｆ ■−１８，０，３Ｆ ■−２１，４，３Ｆ 実施例４ ３．５−ジメトキシフェノール３０．８ｇをジメチルホ
ルムアミド１９０ｓｔ！に溶解し、トリエチルアミン６
０．６ｇを加えて２０℃以下に保ちながら１０分間を要
してヘキサフルオルプロペン３量体８６ｇを滴下した。
にヘキサフルオロプロペン２量体３００ｇを用いる以外
は実施例２と同様に操作して３−バーフルオロヘキセニ
ロキシフェニルメチルエーテル２３５ｇを得た７この化
合物２８３ｇを酢酸１３００＋自ｌに溶解し、５７％ヨ
ウ化水素酸１３００ｍｌを加え撹拌しながら６０時間加
熱還流させた。放冷後、反応液を５％亜硫酸ナトリウム
水溶液に投入し、クロロホルム２１で抽出した。減圧下
にクロロホルムを留去し、残渣を蒸留して３−パーフル
オロヘキセニロキシ７工／−ル１３９ｇを得た。ｂ、１
ｚ、 ８３〜ｂＩ＠Ｆ−ＮＭＲ （外部標準ＣＦ 、Ｃ００）ｌ 、ＣＤＣＩ 、中、δ
ｐｐｍ）■ ４，１．３Ｆ ［有］ ３５，１．２Ｆ ■−１８，０，３Ｆ ■−２１，４，３Ｆ 実施例４ ３．５−ジメトキシフェノール３０．８ｇをジメチルホ
ルムアミド１９０ｓｔ！に溶解し、トリエチルアミン６
０．６ｇを加えて２０℃以下に保ちながら１０分間を要
してヘキサフルオルプロペン３量体８６ｇを滴下した。
４時間撹拌後反応液を希塩酸中に投入、沈殿した油状物
を回収しクロロホルムから再結晶して１−パーフルオロ
７ネニロキシー３，５−ジメトキシベンゼン７１ｇを得
た。
を回収しクロロホルムから再結晶して１−パーフルオロ
７ネニロキシー３，５−ジメトキシベンゼン７１ｇを得
た。
■
■
’Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣＩ、中、ＴＭＳＩｋ、準、δｐｐ論）■ ３−
８ｖ ｓｇ ６Ｈ ■ ６，０． Ｓｔ ２ｔｌ ■ ６，２． ｓｔ ＩＩＩ 上記化合物７０ｇと酢酸３００ｄ、５７％ヨウ化水素酸
３００ｓ＋Ｚを混合し６０時間加熱還流させた。放冷後
、反応を５％亜硫酸ナトリウム水溶液に投入しクロロホ
ルム５００ＩＩＮで２回抽出し、クロロホルムを減圧下
に留去し、残渣をクロロホルムより再結晶して５−パー
フルオロ７ネニロキシベンゼン−１，３−ノオール３４
．を得た。
８ｖ ｓｇ ６Ｈ ■ ６，０． Ｓｔ ２ｔｌ ■ ６，２． ｓｔ ＩＩＩ 上記化合物７０ｇと酢酸３００ｄ、５７％ヨウ化水素酸
３００ｓ＋Ｚを混合し６０時間加熱還流させた。放冷後
、反応を５％亜硫酸ナトリウム水溶液に投入しクロロホ
ルム５００ＩＩＮで２回抽出し、クロロホルムを減圧下
に留去し、残渣をクロロホルムより再結晶して５−パー
フルオロ７ネニロキシベンゼン−１，３−ノオール３４
．を得た。
（外部標準ＣＦ、Ｃ００ＩＩ、ＣＤＣｌ、中、δｐｐ怜
）■ −６，１，６Ｆ （ｉ −７，４，６Ｆ ■ −２２，３，３Ｆ （Φ ８８．７． ＩＦ ■ ９０，５． ＬＦ 実施例５ レゾルシンモノベンゾニー） ２２．５ｇをジメチルホ
ルム７ミド１００ｍ１に溶解し、トリエチルアミン３２
ｇを加えて２０℃以下に冷却した。このものにヘキサフ
ルオロプロペン３量体を１０分間で滴下し、２０℃以下
に保ちながら３時間攪拌した。反応液を希塩酸中に投入
して沈澱物を回収、水洗、乾燥して得られた粗製物をク
ロロホルムより再結晶して３−ｉ＜−フルオロノネニロ
キシフェニルベンゾエ−） ８２．を得た。
）■ −６，１，６Ｆ （ｉ −７，４，６Ｆ ■ −２２，３，３Ｆ （Φ ８８．７． ＩＦ ■ ９０，５． ＬＦ 実施例５ レゾルシンモノベンゾニー） ２２．５ｇをジメチルホ
ルム７ミド１００ｍ１に溶解し、トリエチルアミン３２
ｇを加えて２０℃以下に冷却した。このものにヘキサフ
ルオロプロペン３量体を１０分間で滴下し、２０℃以下
に保ちながら３時間攪拌した。反応液を希塩酸中に投入
して沈澱物を回収、水洗、乾燥して得られた粗製物をク
ロロホルムより再結晶して３−ｉ＜−フルオロノネニロ
キシフェニルベンゾエ−） ８２．を得た。
この化合物６０ｇをメタノール１００社、水酸化ナトリ
ウム４．７ｇ、水４０ｍ１とともに撹拌しながら加熱下
に還流させた。２時間後、反応液に塩酸を加えて酸性に
したところ、反応液は２層に分離した。上層をクロロホ
ルムで抽出し、抽出液を下層と合わせ、酸性を示さなく
なるまで水洗し、クロロホルムを留去後、減圧下に蒸留
して１−パーフルオロノネニロキシー３−ヒドロキシベ
ンゼン２９ｇを得た。沸点および１ｇＦ−ＮＭＲの測定
結果は実施例２で得られた化合物のものと同一であった
。
ウム４．７ｇ、水４０ｍ１とともに撹拌しながら加熱下
に還流させた。２時間後、反応液に塩酸を加えて酸性に
したところ、反応液は２層に分離した。上層をクロロホ
ルムで抽出し、抽出液を下層と合わせ、酸性を示さなく
なるまで水洗し、クロロホルムを留去後、減圧下に蒸留
して１−パーフルオロノネニロキシー３−ヒドロキシベ
ンゼン２９ｇを得た。沸点および１ｇＦ−ＮＭＲの測定
結果は実施例２で得られた化合物のものと同一であった
。
実施例６
実施例１で得られた４−パーフルオロ／ネニロキシ７工
／−ル１０．８ｇをエピクロルヒドリン３７ｇに加熱下
に溶解した。水０．２ｇを加え、加熱下に撹拌しながら
、微粒化した水酸化ナトリウム１．１ｇを徐々に加えた
。撹拌しながら４０時間加熱還流を続けた。反応終了後
、トルエン２００ｍ１’を加え、生成した塩化ナトリウ
ムをｌ別し、シ戸液は水層がアルカリ性を示さなくなる
まで水洗を繰返した。トルエソ憤辿ル條★功嶋＋ｋ Ｉ
Ｉウムで詐悸拐、滅序下にドルエンド未反応のエピクロ
ルヒドリンを留去した。残渣を減圧下に蒸留して１３５
〜ｂｇの留分を採取して６．２ｇの４−パーフルオロ７
ネニロキシフエニルグリシジルエーテルを得た。
／−ル１０．８ｇをエピクロルヒドリン３７ｇに加熱下
に溶解した。水０．２ｇを加え、加熱下に撹拌しながら
、微粒化した水酸化ナトリウム１．１ｇを徐々に加えた
。撹拌しながら４０時間加熱還流を続けた。反応終了後
、トルエン２００ｍ１’を加え、生成した塩化ナトリウ
ムをｌ別し、シ戸液は水層がアルカリ性を示さなくなる
まで水洗を繰返した。トルエソ憤辿ル條★功嶋＋ｋ Ｉ
Ｉウムで詐悸拐、滅序下にドルエンド未反応のエピクロ
ルヒドリンを留去した。残渣を減圧下に蒸留して１３５
〜ｂｇの留分を採取して６．２ｇの４−パーフルオロ７
ネニロキシフエニルグリシジルエーテルを得た。
■２．６．葎、２１１
■３．２．糟、１１１
■３．８． ｔｓ、 ２１１
■６．８＝ ｓ、 ４Ｈ
（以 上）
出 願 人 ダイキン工業株式会社
代 理 人 弁理士 １） 村 巌手続
補正書
補正書
Claims (1)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（１） （Ｒ＾１はＯＨ又は▲数式、化学式、表等があります▼
、Ｒ＾２はＨ、 ＯＨ、炭素数１〜４のアルキル基又は ▲数式、化学式、表等があります▼、Ｘは炭素数６〜１
４のパー フルオロアルケニル基を示す）で表わされるパーフルオ
ロアルケニロキシフェノール又はその誘導体。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6939487A JPH0774178B2 (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | パ−フルオロアルケニロキシフエノ−ル及びその誘導体 |
| US07/171,126 US4877859A (en) | 1987-03-24 | 1988-03-21 | Fluorine-containing novolak resin and derivative thereof |
| EP88104679A EP0284993A3 (en) | 1987-03-24 | 1988-03-23 | Fluorine-containing novolak resin and derivative thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6939487A JPH0774178B2 (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | パ−フルオロアルケニロキシフエノ−ル及びその誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63233940A true JPS63233940A (ja) | 1988-09-29 |
| JPH0774178B2 JPH0774178B2 (ja) | 1995-08-09 |
Family
ID=13401341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6939487A Expired - Fee Related JPH0774178B2 (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | パ−フルオロアルケニロキシフエノ−ル及びその誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0774178B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006335677A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Nippon Shokubai Co Ltd | パーフルオロアルケニル誘導体 |
| JP2018070641A (ja) * | 2017-11-28 | 2018-05-10 | 大石 哲也 | 含フッ素フェノールの製造法 |
| CN117486685A (zh) * | 2023-10-30 | 2024-02-02 | 台州氟乐新材料合伙企业(有限合伙) | 一种高效全氟壬烯基醚的制备方法 |
| CN117486687A (zh) * | 2023-10-30 | 2024-02-02 | 台州氟乐新材料合伙企业(有限合伙) | 一种环保的全氟壬烯基醚的制备方法 |
| CN117486686A (zh) * | 2023-10-30 | 2024-02-02 | 台州氟乐新材料合伙企业(有限合伙) | 六氟丙烯三聚体绿色化学转化制备全氟醚类化合物的方法 |
-
1987
- 1987-03-24 JP JP6939487A patent/JPH0774178B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006335677A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Nippon Shokubai Co Ltd | パーフルオロアルケニル誘導体 |
| JP2018070641A (ja) * | 2017-11-28 | 2018-05-10 | 大石 哲也 | 含フッ素フェノールの製造法 |
| CN117486685A (zh) * | 2023-10-30 | 2024-02-02 | 台州氟乐新材料合伙企业(有限合伙) | 一种高效全氟壬烯基醚的制备方法 |
| CN117486687A (zh) * | 2023-10-30 | 2024-02-02 | 台州氟乐新材料合伙企业(有限合伙) | 一种环保的全氟壬烯基醚的制备方法 |
| CN117486686A (zh) * | 2023-10-30 | 2024-02-02 | 台州氟乐新材料合伙企业(有限合伙) | 六氟丙烯三聚体绿色化学转化制备全氟醚类化合物的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0774178B2 (ja) | 1995-08-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5021602A (en) | Reactive compounds containing perfluorocyclobutane rings | |
| US5037919A (en) | Reactive compounds containing perfluorovinyl groups | |
| US5210265A (en) | Reactive compounds containing perfluorocyclobutane rings | |
| NZ225727A (en) | Preparation of epoxy resins with low undesirable halogen content utilising a mixture of solvents, at least one of which is non-polar and aprotic | |
| JPS6235404B2 (ja) | ||
| US4877859A (en) | Fluorine-containing novolak resin and derivative thereof | |
| JPS63233940A (ja) | パ−フルオロアルケニロキシフエノ−ル及びその誘導体 | |
| CS209933B2 (en) | Method of making the 4-fluor-3-phenoxytoluen | |
| EP0311212A2 (en) | Novel diepoxide and diphenoxy compounds | |
| US3281478A (en) | Phenols, a process for the preparation thereof and products produced therefrom | |
| US4054596A (en) | Carboxy and carbohydrocarbyloxy-substituted 1,1-bis(perfluoroalkylsulfonyl)propanes | |
| US4053519A (en) | 1,1,3,3-tetrakis(perfluoroalkylsulfonyl)propanes | |
| JPH05222153A (ja) | 新規アントラセン系エポキシ樹脂及びその製造方法 | |
| EP0133322A1 (en) | Fluorinated benzodiazepins | |
| US4045501A (en) | Method for making o- and p- haloalkyl styrenes | |
| JP7113665B2 (ja) | 組成物及びその製造方法 | |
| CN108314624B (zh) | 一种多氟苯胺的制备方法 | |
| JP2942291B2 (ja) | 多官能エポキシ化合物及びその製造法 | |
| JPS6222988B2 (ja) | ||
| JPH11501968A (ja) | 可溶性フッ素化ポリ−ｐ−フェニレン | |
| Calandra et al. | The Synthesis of Bis-(dialkylaminoalkyl) Esters of 5-Methoxyisophthalic Acid1, 2 | |
| JPS6146006B2 (ja) | ||
| JP2000239206A (ja) | 非対称アルキリデン多価フェノール類とその製造方法 | |
| JPS63273619A (ja) | 含フツ素ノボラツク及びその誘導体 | |
| EP0546639B1 (en) | A process for the preparation of bisphenols |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |