JPS6323542B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6323542B2
JPS6323542B2 JP23644184A JP23644184A JPS6323542B2 JP S6323542 B2 JPS6323542 B2 JP S6323542B2 JP 23644184 A JP23644184 A JP 23644184A JP 23644184 A JP23644184 A JP 23644184A JP S6323542 B2 JPS6323542 B2 JP S6323542B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
pattern
effective
glass
original plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP23644184A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61114242A (ja
Inventor
Takuro Toma
Masahiko Matsuyoshi
Kazuo Shirakawa
Sadayuki Tanaka
Yasuo Kitahata
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP59236441A priority Critical patent/JPS61114242A/ja
Publication of JPS61114242A publication Critical patent/JPS61114242A/ja
Publication of JPS6323542B2 publication Critical patent/JPS6323542B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明は表裏両面のガラス原版の製造方法に係
わり、特に、多丁付と称して一枚のガラス乾板に
複数個のパターンが形成され、しかも表裏両面の
パターン位置の整合状態の良好なガラス原版の製
造方法に関する。
(発明の技術的背景) 金属板をフオトエツチング法により表裏両面よ
り食刻し、シヤドウマスクやリードフレーム等の
金属部品を作成することは、得られた物品の精度
が機械加工によるものより優れるところから賞用
されている。この場合、フオトエツチングパター
ンの原因となるマスク原版は、大きければ大きい
ほど一回露光あたりの部品数が多くなるので、製
造上有利であり、例えば、シヤドウマスクにあつ
ては一回露光につき2枚以上のシヤドウマスクパ
ターンを露光形成できれば、それだけ製造能力の
向上につながることは明らかである。それには、
パターン原図の複数個を一括して一枚のガラス乾
板に転写することが一手段として考えられる。
しかしながら、パターンジエネレーター等の描
画装置にて複数のパターンを描画することは、装
置自体の描画面積の制約のほかに、シヨツト数が
パターンの数に比例して倍増し、描画時間が膨大
なものとなり、実際上様々な問題を生じて実用性
に乏しい。しかも、フオトエツチング法の場合、
両面焼付と称して、材料の金属板の表裏面にパタ
ーンを位置合わせして形成し、エツチングするこ
とが多く、単に複数個の原図パターンを一枚のガ
ラス乾板に転写すると言つても、表裏の各パター
ンの位置は数ミクロン以下の精度で正確に設定さ
れねばならない。例えば、シヤドウマスクパター
ンの場合、ミクロン単位の精確な位置決めを行な
わないと、表面と裏面のパターンが整合せず、シ
ヤドウマスクとして不良品を現出させるという問
題がある。
(発明の目的) 本発明は、以上のような問題点の生じないマス
ク原版の製造方法であり、多丁付けであつてしか
も表裏二種のマスク原版に形成されたパターンの
整合状態がミクロンオーダーで精確なものを提供
せんとするにある。
(発明の構成) すなわち、本発明は、複数回の露光により有効
パターンを多丁付けした一方の面のガラス原版に
対して、個々に独立した複数個の他方の面の有効
パターン板を重ねて整合させ、整合した状態の複
数個の他方の面の有効パターン板をバツクアツプ
によつてその位置関係にて接合固定したあと一方
の面の原版から分離し、しかる後、前記バツクア
ツプにて接合固定した複数個の他方の面の有効パ
ターンを一枚のガラス乾板に転写することを特徴
とする表および裏の両面多丁付ガラス原版の製造
方法である。
(発明の詳述) 本発明の製造方法の一例を示す第1図および第
2図に基いて説明する。
第1図は、一方の面の原版3を作成するところ
を示すものであり、図において、単一パターンあ
るいは一単位のパターン群を形成された有効パタ
ーン板1を用い、その有効パターン1aを大型の
ガラス乾板2の上に複数個形成する。かくするに
は、大型のガラス乾板2の左側にまず有効パター
ン1aを転写し、次にガラス乾板2の右側に有効
パターン1aあるいは有効パターンとは別種の有
効パターンを転写するという複数回の露光操作を
行なえば良く、現像することにより、大型のガラ
ス乾板2の左右に有効パターン2a,2bが形成
され、一方の面の原版3となるものである。一般
にガラス乾板は、光が照射した部分が黒色の遮光
部となるものであるから、ネガ型の感光板と言う
ことができる。したがつて、有効パターン板1が
ポジ型パターンであれば、一方の面の原版3のパ
ターンはネガ型となる。しかし、この一方の面の
ガラス原版を別のガラス乾板に転写すれば、(こ
れを反転するという)ポジ型の原版が得られる。
もちろん有効パターン1aがネガ型であれば、原
版3には直ちにポジ型のパターンが形成される。
しかしながら、このようなポジ型、ネガ型パター
ンのいずれが形成されるかということは、反転操
作により逆転できるのであるから、本発明では、
以後の記述ではこだわらないことにする。
第2図は、他方の面の原版を作成する様子を示
すものである。図において、他方の面の有効パタ
ーン板4は、第1図の一方の面の有効パターン1
aの裏面に相当するものであり、この他方の面の
有効パターン板4を元にして同一もしくは別種の
個々に独立した複数個の他方の面の有効パターン
板4a,4bをまず複製する。この複数個の他方
の面の有効パターン板4a,4bを、第2図ロに
示すように、第1図で作成した一方の面の原版3
(多丁付けされたガラス原版)に重ねて整合する。
整合するとは、下側の一方の面の原版3のパター
ンに、他方の面の有効パターン板4a,4bのパ
ターンが一致するように位置合わせすることであ
る。整合した状態が得られたならば、第2図ハに
示すように、バツクアツプ5にて複数個の有効パ
ターン板4a,4bを接合固定する。接合には接
着剤を用いるのが一般的であり、位置合わせされ
た状態で他方の面の有効パターン板4a,4bが
固定される。
この場合、両面の原版3および有効パターン板
4a,4bは、ガラス板を基板とするガラス原版
が良い。ガラス原版は自己保持性をもつて剛性を
有し、合成樹脂フイルムを基体とするフイルム原
版と異なり、原版が折曲したりすることなく、ま
た熱膨張率も小さいから都合が良い。
第2図ハのようにバツクアツプ5により固定さ
れた他方の面の有効パターン板4a,4bは、一
方の面の原版3から分離される。バツクアツプ5
は、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂、ポリカーボ
ネート等の合成樹脂、ガラス、金属等を材料とし
窓枠のような形状を呈し、複数個の有効パターン
板4a,4bのそれぞれの有効パターン部に相当
するところが窓部となつているものである。
第2図ハのようにバツクアツプ5により固定さ
れた他方の面の有効パターン板4a,4bの有効
パターン部は、第3図に示すようなプリンターに
より大型のガラス乾板7に一括転写することによ
つて、他方の面の多丁付原版6も完成する。
図面の第3図に基いて詳細に説明すると、プリ
ンターベツド11上にガラス乾板7を載置し、そ
の感光層7aと対向してパターン層が位置するよ
うに複数個の有効パターン板4a,4bをガラス
乾板7上に重ねる。複数個の有効パターン板4
a,4bは窓枠状のバツクアツプ5により一体に
固着したものである。真空吸引用の可撓性シート
8は、その外端を保持枠9に固定し、内端をバツ
クアツプ5に固定する。第4図に、可撓性シート
8と他方の面の有効パターン板4a,4bの位置
関係を示す。図によれば、可撓性シート8の窓あ
き部が露光部に相当することが明らかである。
可撓性シート8に付設された真空排気管10を
通じて、真空吸引を行なえば、当然ながら、可撓
性シートにより被覆されたガラス乾板7およびパ
ターン原稿の周辺部にて真空脱気領域を形成する
ものであり、ひいてはガラス乾板7とパターン原
稿の間の空気を排気して密着させる。
露光のための光源は、プリンターの上方に配置
される。露光後、ガラス乾板7を現像することに
より、他方の面の多丁付原版が得られる。
以上の第1図および第2図では多丁付された有
効パターンはそれぞれ同一のパターンという印象
を与えるが、本発明では多丁付された有効パター
ンが別種のものであつてもさしつかえない。要
は、表裏のパターンの位置関係が正確に一致する
ことが大切である。
(発明の効果) 本発明は以上のようなものであり、本発明によ
れば、基本的に一枚付けの原稿パターンを大型の
ガラス乾板に多丁付けするものであり、パターン
ジエネレーター等の描画装置にて複数個の原稿パ
ターンを遂一描画するのとは異なり、描画装置自
体の描画面積の制約が無く、また描画装置を長時
間独占使用する弊害もない。
また、本発明では、表裏両面の原版のパターン
を整合させるという難点も解決している。ひとつ
は、伸縮性の少ない、折曲することのないガラス
乾板を用いた製造方法であることにも依るが、ま
ず、一方の原版のパターンと整合するように他方
の面の複数個の有効パターン板を重ねて位置合わ
せする工程があることがあげられる。
さらに付け加えれば、本発明に用いる第3図の
プリンターによれば、真空密着するための可撓性
シート8が露光部において中抜きになつているの
で、ガラス乾板7や複数個の有効パターン板4
a,4bの中央部に真空圧が付与されず、したが
つてガラス乾板7等の湾曲によりパターンにズレ
を生じることが無い。しかも、収縮応力の発生源
となる可撓性シート8の中央部が存在しないので
複数個の有効パターン板4a,4bが真空密着中
に所定位置から中央方向へミクロンオーダーのズ
レを生じることも防止されている。
以上のように、本発明の多丁付ガラス原版の製
造方法によれば、多丁付された各パターンの表裏
両面の位置関係が正確に一致し、実用上優れた両
面多丁付ガラス原版が得られるのである。
【図面の簡単な説明】
図面は、本発明の多丁付ガラス原版の製造方法
の一実施例を示し、第1図イ,ロは一方の面の原
版を作成するところを示す説明図、第2図イ〜ニ
は、他方の面の原版を作成する様子を示す説明図
であり、第3図は、本発明に用いるプリンターの
一例を示す説明部品断面図、第4図は、本発明に
用いる真空吸引用の可撓性シートと複数個の他方
の面の有効パターン板の関係を示す斜視図であ
る。 1……有効パターン板、2……ガラス乾板、3
……一方の面の原版、4……他方の面の有効パタ
ーン板、5……バツクアツプ、6……他方の面の
原版。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 複数回の露光により有効パターンを多丁付け
    した一方の面のガラス原版に対して、個々に独立
    した複数個の他方の面の有効パターン板を重ねて
    整合させ、整合した状態の複数個の他方の面の有
    効パターン板をバツクアツプによつてその位置関
    係にて接合固定したあと一方の面の原版から分離
    し、しかる後、前記バツクアツプにて接合固定し
    た複数個の他方の面の有効パターンを一枚のガラ
    ス乾板に転写することを特徴とする表および裏の
    両面多丁付ガラス原版の製造方法。
JP59236441A 1984-11-09 1984-11-09 多丁付ガラス原版の製造方法 Granted JPS61114242A (ja)

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JPS61114242A JPS61114242A (ja) 1986-05-31
JPS6323542B2 true JPS6323542B2 (ja) 1988-05-17

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