JPS63239614A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents
垂直磁気記録媒体Info
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- JPS63239614A JPS63239614A JP62073086A JP7308687A JPS63239614A JP S63239614 A JPS63239614 A JP S63239614A JP 62073086 A JP62073086 A JP 62073086A JP 7308687 A JP7308687 A JP 7308687A JP S63239614 A JPS63239614 A JP S63239614A
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- microns
- medium
- head
- film
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73923—Organic polymer substrates
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
- G11B5/667—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers including a soft magnetic layer
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B2005/0002—Special dispositions or recording techniques
- G11B2005/0026—Pulse recording
- G11B2005/0029—Pulse recording using magnetisation components of the recording layer disposed mainly perpendicularly to the record carrier surface
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、高密度記録の可能な垂直磁気記録媒体に関す
る。更に詳しくは、特にフレキシブルディスクに好適な
垂直磁気記録媒体に関する。
る。更に詳しくは、特にフレキシブルディスクに好適な
垂直磁気記録媒体に関する。
「従来の技術」
極めて密度の高い磁気記録の可能な方式として垂直磁気
記録方式が提案されて以来、多くの精力的な研究が行わ
れている。とりわけ、下地に軟磁性層を設けた垂直磁気
異方性媒体と単Ｍ１掻型垂直ヘッドを用いた方式は特に
高密度記録が可能であり・現在までに１００ｋＦＲＰＩ
（Ｆｌｕｘ ＲｅｖｅｒＳａｌ ＰｅｒＩｎｃｈ）程度
の記録が可能になっている。このような技術においては
、次のような仕様の媒体が使用されている。基板として
は５０乃至７５ミクロンのポリエステル、ポリイミド等
の有機高分子フィルムが使用される。２Ｎ膜構造の媒体
においては、下地として各種のパーマロイ合金、Ｃｏ−
Ｚｒ合金に代表されるアモルファス合金等の高ｉ！ｉ磁
率合金が使用され、初透磁率として１０００以上、飽和
磁化５００ ｅｍｕ／ｃｃ以上のものが好ましい、軟磁
性層の膜厚みは飽和磁化の大きさにより異なるが、０．
５ミクロン前後である。垂直磁気異方性膜としてはＣｏ
−Ｃｒ合金に代表されるＣｏ合金が使用される。その飽
和磁化は４００乃至８００ｅｎ＋ｕ／ｃｃ、保磁力は４
００乃至１０００エルステツド、厚みは０．１乃至０．
２ミクロンである。このような構成の垂直磁気記録媒体
を使用してｌ ００ ｋＦＲＰＩの記録密度が達成され
ている。この値は、従来の塗布型の記録媒体が１０ｋＦ
ＲＰＩ程度の記録密度で使用されていることを考えれば
１０倍もの記録密度であり、掻めて高密度記録になって
いるが、更に密度の高い記録の実現が切望されていた。
記録方式が提案されて以来、多くの精力的な研究が行わ
れている。とりわけ、下地に軟磁性層を設けた垂直磁気
異方性媒体と単Ｍ１掻型垂直ヘッドを用いた方式は特に
高密度記録が可能であり・現在までに１００ｋＦＲＰＩ
（Ｆｌｕｘ ＲｅｖｅｒＳａｌ ＰｅｒＩｎｃｈ）程度
の記録が可能になっている。このような技術においては
、次のような仕様の媒体が使用されている。基板として
は５０乃至７５ミクロンのポリエステル、ポリイミド等
の有機高分子フィルムが使用される。２Ｎ膜構造の媒体
においては、下地として各種のパーマロイ合金、Ｃｏ−
Ｚｒ合金に代表されるアモルファス合金等の高ｉ！ｉ磁
率合金が使用され、初透磁率として１０００以上、飽和
磁化５００ ｅｍｕ／ｃｃ以上のものが好ましい、軟磁
性層の膜厚みは飽和磁化の大きさにより異なるが、０．
５ミクロン前後である。垂直磁気異方性膜としてはＣｏ
−Ｃｒ合金に代表されるＣｏ合金が使用される。その飽
和磁化は４００乃至８００ｅｎ＋ｕ／ｃｃ、保磁力は４
００乃至１０００エルステツド、厚みは０．１乃至０．
２ミクロンである。このような構成の垂直磁気記録媒体
を使用してｌ ００ ｋＦＲＰＩの記録密度が達成され
ている。この値は、従来の塗布型の記録媒体が１０ｋＦ
ＲＰＩ程度の記録密度で使用されていることを考えれば
１０倍もの記録密度であり、掻めて高密度記録になって
いるが、更に密度の高い記録の実現が切望されていた。
「発明が解決しようとする問題点」
ところで、１００ ｋＦＲＰ１以上の高密度記録におい
てはヘッドと媒体が極めて密着している必要があり、ヘ
ッドと媒体のスペーシングがｏ、ｏｓｏミクロン以下に
しないと再生出力が低下してしまう。
てはヘッドと媒体が極めて密着している必要があり、ヘ
ッドと媒体のスペーシングがｏ、ｏｓｏミクロン以下に
しないと再生出力が低下してしまう。
このような微小なスペーシングはこれまで実現されてお
らず、従って１００ｋＦＲＰＩ以上という高い密度の記
録は未だ達成されていない。
らず、従って１００ｋＦＲＰＩ以上という高い密度の記
録は未だ達成されていない。
本発明は、以上のようにスペーシングが小さくできない
ため１００ ｋＦＲＰＩ以上の記録密度が達成できない
という問題点を解決し、スペーシングを０．０４０ミク
ロン以下にすることによって、１００ ｋＦＲＰ１以上
の記録密度を実現できる記録媒体、特にフレキシブ・ル
ディスクに適した磁気記録媒体を提供するものである。
ため１００ ｋＦＲＰＩ以上の記録密度が達成できない
という問題点を解決し、スペーシングを０．０４０ミク
ロン以下にすることによって、１００ ｋＦＲＰ１以上
の記録密度を実現できる記録媒体、特にフレキシブ・ル
ディスクに適した磁気記録媒体を提供するものである。
「問題点を解決するための手段」
即ち、本発明は中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０２０ミ
クロン以下で且つスティフネスが５×１０１乃至２ＱＸ
ＩＱ−３ｋｇｍである垂直磁気記録媒体を内容とするも
のである。
クロン以下で且つスティフネスが５×１０１乃至２ＱＸ
ＩＱ−３ｋｇｍである垂直磁気記録媒体を内容とするも
のである。
スペーシングを小さくするためには、媒体の表面が極め
て平滑でなければならない。特に本発明のように１００
ｋＦＲＰＩ以上の記録密度を実現しようとする場合は、
ヘッドの寸法に比べてはるかに微小な、例えば１−１０
ミクロン領域でみた平滑性が要求される。この領域にな
ると、もはやヘッドを押し込んでも媒体表面とヘッド先
端を接触させることはできず、本来的に平滑でなければ
ならない、平滑性は例えばＪＩＳ−ＢＯ６０１（１９８
２）に基づいて測定される。中心線平均粗さ（Ｒａ）で
みれば０、０２０ミクロン以下、好ましくは０．０１０
ミクロン以下であることが必要である。勿論Ｒｍａｘも
小さいことは必要である。
て平滑でなければならない。特に本発明のように１００
ｋＦＲＰＩ以上の記録密度を実現しようとする場合は、
ヘッドの寸法に比べてはるかに微小な、例えば１−１０
ミクロン領域でみた平滑性が要求される。この領域にな
ると、もはやヘッドを押し込んでも媒体表面とヘッド先
端を接触させることはできず、本来的に平滑でなければ
ならない、平滑性は例えばＪＩＳ−ＢＯ６０１（１９８
２）に基づいて測定される。中心線平均粗さ（Ｒａ）で
みれば０、０２０ミクロン以下、好ましくは０．０１０
ミクロン以下であることが必要である。勿論Ｒｍａｘも
小さいことは必要である。
このような表面平滑性を有する媒体を得るためには、ベ
ースフィルムの表面平滑性は（Ｒａ）として０．０２０
ミクロン以下でなければならない。
ースフィルムの表面平滑性は（Ｒａ）として０．０２０
ミクロン以下でなければならない。
このような表面平滑性を存するフィルムに０．１乃至１
ミクロンの金属磁性層を適正な条件でスパッタあるいは
蒸着すると、表面平滑性は更に向上し、例えば（Ｒａ）
が０．０１０ミクロン以下の表面平滑性が得られる。
ミクロンの金属磁性層を適正な条件でスパッタあるいは
蒸着すると、表面平滑性は更に向上し、例えば（Ｒａ）
が０．０１０ミクロン以下の表面平滑性が得られる。
このような表面平滑性の優れたフィルムは例えば、ポリ
イミドフィルムの場合、特開昭５８−１２２９２１に開
示されている方法によって得ることができる。
イミドフィルムの場合、特開昭５８−１２２９２１に開
示されている方法によって得ることができる。
即ち、ポリイミドフィルムはフィルムを形成する過程に
おいてジアミン成分とテトラカルボン酸二無水物を一次
的に反応せしめアミド酸とするが、アミド酸溶液からフ
ィルム化並びにイミド化する工程が重要である。アミド
酸溶液は表面平滑性の優れた支持体上に展開することに
よってフィルム化される。従って、当然のことながら支
持体は（Ｒａ）として０．０１０ミクロン以下の極めて
優れた表面平滑性をもっていることが必要である。
おいてジアミン成分とテトラカルボン酸二無水物を一次
的に反応せしめアミド酸とするが、アミド酸溶液からフ
ィルム化並びにイミド化する工程が重要である。アミド
酸溶液は表面平滑性の優れた支持体上に展開することに
よってフィルム化される。従って、当然のことながら支
持体は（Ｒａ）として０．０１０ミクロン以下の極めて
優れた表面平滑性をもっていることが必要である。
続いて、塗布後硬化に至るまでに一定時間確保すること
により、塗膜の流動化による自己平滑化を利用して極め
て表面平滑性の優れたフィルムを得ることができる。硬
化時間を一定時間確保する手段として、加熱法によりイ
ミド化する場合においては支持体上へ展開後加熱開始す
るまでの時間を一定時間確保し、硬化触媒を使用する場
合には、低温では触媒作用を発揮せず高温になってはじ
めて触媒作用を発揮するような触媒を選択することによ
って達成される。このような方法で得られたフィルムは
、（Ｒａ）として０．０１０乃至０．０２０ミクロン（
Ｒｍａｘとして０．０３０乃至０．０８０ミクロン、但
し測定方法は触針の曲率半径２ミクロン、カットオフ０
．８鶴、測定長さ２．５ｔｍ）の極めて優れた表面平滑
性を示す。このフィルムに０．１乃至１ミクロンの金属
磁性層を適正な条件でスパッタ（あるいは蒸着）すると
更に表面平滑性が向上し、最終的に（Ｒａ）として０．
００５乃至０．０１０ミクロン、Ｒｍａｘとして０．０
１５乃至０．０４０ミクロンとなる。
により、塗膜の流動化による自己平滑化を利用して極め
て表面平滑性の優れたフィルムを得ることができる。硬
化時間を一定時間確保する手段として、加熱法によりイ
ミド化する場合においては支持体上へ展開後加熱開始す
るまでの時間を一定時間確保し、硬化触媒を使用する場
合には、低温では触媒作用を発揮せず高温になってはじ
めて触媒作用を発揮するような触媒を選択することによ
って達成される。このような方法で得られたフィルムは
、（Ｒａ）として０．０１０乃至０．０２０ミクロン（
Ｒｍａｘとして０．０３０乃至０．０８０ミクロン、但
し測定方法は触針の曲率半径２ミクロン、カットオフ０
．８鶴、測定長さ２．５ｔｍ）の極めて優れた表面平滑
性を示す。このフィルムに０．１乃至１ミクロンの金属
磁性層を適正な条件でスパッタ（あるいは蒸着）すると
更に表面平滑性が向上し、最終的に（Ｒａ）として０．
００５乃至０．０１０ミクロン、Ｒｍａｘとして０．０
１５乃至０．０４０ミクロンとなる。
しかし乍ら、このように優れた表面平滑性を存する媒体
であつても、ヘッドと媒体のスペーシングは必ずしも小
さくならない。本発明者らはスペーシングを決定する要
因として媒体のしなやかさに着目した。
であつても、ヘッドと媒体のスペーシングは必ずしも小
さくならない。本発明者らはスペーシングを決定する要
因として媒体のしなやかさに着目した。
媒体のしなやかさに間しては、一般に硬すぎる媒体にお
いてはヘッドの媒体への均一な接触が悪く安定した出力
は得られず、一方、柔らかすぎると当然のことながらデ
ィスクを安定に回転させることが難しくなる。最適なる
柔らかさに関して本発明者らは鋭意検討の結果、媒体の
スティフネスに最適値の存在することを見出した。本発
明者らの検討によれば媒体の中心線平均粗さ（Ｒａ）が
０．０２０ミクロン以下、好ましくは０．０１０ミクロ
ン以下であり、且つスティフネスが５Ｘ１０−３乃至２
０ Ｘ １ （Ｖ”ｋｇ・１飄、好ましくはｌ０ＸＩＯ
弓乃至１７ Ｘ １０−’ｋｇ−■である場合に、ヘッ
ド・媒体間のスペーシングが０．０４０ミクロン以下に
なる。ヘッド・媒体間のスペーシングの測定方法につい
ては、例えば著者山本節夫他、電子通信学会技術研究報
告、門Ｒ８６巻、１６号、４１−４７頁（１９８６）に
述べられている。
いてはヘッドの媒体への均一な接触が悪く安定した出力
は得られず、一方、柔らかすぎると当然のことながらデ
ィスクを安定に回転させることが難しくなる。最適なる
柔らかさに関して本発明者らは鋭意検討の結果、媒体の
スティフネスに最適値の存在することを見出した。本発
明者らの検討によれば媒体の中心線平均粗さ（Ｒａ）が
０．０２０ミクロン以下、好ましくは０．０１０ミクロ
ン以下であり、且つスティフネスが５Ｘ１０−３乃至２
０ Ｘ １ （Ｖ”ｋｇ・１飄、好ましくはｌ０ＸＩＯ
弓乃至１７ Ｘ １０−’ｋｇ−■である場合に、ヘッ
ド・媒体間のスペーシングが０．０４０ミクロン以下に
なる。ヘッド・媒体間のスペーシングの測定方法につい
ては、例えば著者山本節夫他、電子通信学会技術研究報
告、門Ｒ８６巻、１６号、４１−４７頁（１９８６）に
述べられている。
次に、媒体のスティフネスの測定方法について説明する
。いわゆる片持はりの変形１から求めることができる。
。いわゆる片持はりの変形１から求めることができる。
第２図はその原理図を示したものである。媒体の一部を
図のような短冊状に切り出す。図のように片側を固定し
、自重による垂れ変位△（ｌｌ）を測定する。幅Ｗ （
ｍｓ） 、長さｌ （−膳）に対応する部分の重１ｍ（
ｋｇ）よりスティフネスＳ（ｋｇ−龍）は Ｓ−ｍ−１” ／ （８・Ｗ・△） となる。△が数龍になるようにｌは選ぶべきである。ス
ティフネスが２０Ｘ１０−ｆｆｋｇ−ｍｓを越すとヘッ
ドと媒体のスペーシングは大きくなる。スティフ不スは
小さいほどスペーシングが小さくなるが、５Ｘ１０−’
ｋｇ・ＩＩＩより小さくなると安定した回転が得られず
、スペーシングは大きくなる。より好ましいスティフネ
スの範囲はｌ０ＸＩＯ−３乃至１７Ｘ１０一’ｋｇ−＋
ｎである。
図のような短冊状に切り出す。図のように片側を固定し
、自重による垂れ変位△（ｌｌ）を測定する。幅Ｗ （
ｍｓ） 、長さｌ （−膳）に対応する部分の重１ｍ（
ｋｇ）よりスティフネスＳ（ｋｇ−龍）は Ｓ−ｍ−１” ／ （８・Ｗ・△） となる。△が数龍になるようにｌは選ぶべきである。ス
ティフネスが２０Ｘ１０−ｆｆｋｇ−ｍｓを越すとヘッ
ドと媒体のスペーシングは大きくなる。スティフ不スは
小さいほどスペーシングが小さくなるが、５Ｘ１０−’
ｋｇ・ＩＩＩより小さくなると安定した回転が得られず
、スペーシングは大きくなる。より好ましいスティフネ
スの範囲はｌ０ＸＩＯ−３乃至１７Ｘ１０一’ｋｇ−＋
ｎである。
媒体のスティフネスは、媒体の構成並びに構成する各層
の引っ張り弾性率並びに厚みにより決定される。例えば
磁性層がＣｏ−Ｃｒ合金垂直磁気異方性膜約０．２ミク
ロンと軟磁性層約０．５ミクロンからなり、この磁性層
が両面にある場合を考えると、これら金属層は１２００
０ ｋｇ／ｍｍ”程度の引っ張り弾性率を持っており、
このような場合に、本発明のスティフネスを持つ媒体を
得るためにはベースフィルムとしては例えば引っ張り弾
性率が３００〜４００ｋｇ／ｆｉ”程度のフィルムであ
れば厚みは３０〜６０ミクロン、好ましくは５０ミクロ
ン前後の範囲を選ぶことが必要であり、また例えば引っ
張り弾性率が７００〜８００ｋｇ／ｖａ”程度のフィル
ムであれば、厚みは３０〜５０ミクロン程度、好ましく
は４０ミクロン前後を選ぶことが必要である。
の引っ張り弾性率並びに厚みにより決定される。例えば
磁性層がＣｏ−Ｃｒ合金垂直磁気異方性膜約０．２ミク
ロンと軟磁性層約０．５ミクロンからなり、この磁性層
が両面にある場合を考えると、これら金属層は１２００
０ ｋｇ／ｍｍ”程度の引っ張り弾性率を持っており、
このような場合に、本発明のスティフネスを持つ媒体を
得るためにはベースフィルムとしては例えば引っ張り弾
性率が３００〜４００ｋｇ／ｆｉ”程度のフィルムであ
れば厚みは３０〜６０ミクロン、好ましくは５０ミクロ
ン前後の範囲を選ぶことが必要であり、また例えば引っ
張り弾性率が７００〜８００ｋｇ／ｖａ”程度のフィル
ムであれば、厚みは３０〜５０ミクロン程度、好ましく
は４０ミクロン前後を選ぶことが必要である。
更に、例えば、磁性層がｃｏ−Ｃｒ合金磁気異方性膜約
０．２ミクロンのみからなり、この磁性層が両面にある
場合を考えると、磁性層の引っ張り弾性率は１２０００
ｋｇ／＋ｎ”程度であり、このような場合に本発明の
スティフネスを持つ媒体を得るためには、ベースフィル
ムとしては、例えば引っ張り弾性率が３００〜４００ｋ
ｇ／Ｉｎ”程度のフィルムであれば厚みは４５〜８０ミ
クロン程度、好ましくは６０〜７５ミクロン程度を、ま
た例えば引っ張り弾性率が７００〜８００ ｋｇ／ 龍
”程度のフィルムであれば厚みは４０〜６５ミクロン程
度、好ましくは５０〜６０ミクロン程度の範囲を選ぶ必
要がある。
０．２ミクロンのみからなり、この磁性層が両面にある
場合を考えると、磁性層の引っ張り弾性率は１２０００
ｋｇ／＋ｎ”程度であり、このような場合に本発明の
スティフネスを持つ媒体を得るためには、ベースフィル
ムとしては、例えば引っ張り弾性率が３００〜４００ｋ
ｇ／Ｉｎ”程度のフィルムであれば厚みは４５〜８０ミ
クロン程度、好ましくは６０〜７５ミクロン程度を、ま
た例えば引っ張り弾性率が７００〜８００ ｋｇ／ 龍
”程度のフィルムであれば厚みは４０〜６５ミクロン程
度、好ましくは５０〜６０ミクロン程度の範囲を選ぶ必
要がある。
以上説明したように、垂直磁気記録媒体において、媒体
の表面平滑性が（Ｒａ）として０．０２０ミクロン以下
、好ましくは０．０１０ミクロン以下で、且つ媒体のス
ティフネスが５ Ｘ Ｉ Ｏ−３乃至２０ Ｘ １０−
’ｋｇ−膳鳳、好ましくはｌ０ＸＩＯ′□″乃至１７
ｘ １０−３ｋｇ・１請とすることによって、ヘッドと
媒体間のスペーシングが０．０４ミクロン以下という極
めて密着性の優れた系が得られ、結果として１００ｋＦ
ＲＰＩ以上、例えば２００乃至３００ｋＦＲＰＩにおい
ても高い再出力が得られる。
の表面平滑性が（Ｒａ）として０．０２０ミクロン以下
、好ましくは０．０１０ミクロン以下で、且つ媒体のス
ティフネスが５ Ｘ Ｉ Ｏ−３乃至２０ Ｘ １０−
’ｋｇ−膳鳳、好ましくはｌ０ＸＩＯ′□″乃至１７
ｘ １０−３ｋｇ・１請とすることによって、ヘッドと
媒体間のスペーシングが０．０４ミクロン以下という極
めて密着性の優れた系が得られ、結果として１００ｋＦ
ＲＰＩ以上、例えば２００乃至３００ｋＦＲＰＩにおい
ても高い再出力が得られる。
「実施例」
以下、実施例、比較例によって本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はこれらにより何ら制限されるもので
はない。
明するが、本発明はこれらにより何ら制限されるもので
はない。
実施例１−５、比較例１−４
スパッタアップ方式の高周波スパッタ機を用い、引っ張
り弾性率及びＲａの異なる３種類のポリイミドフィルム
を使用して媒体を作成した。
り弾性率及びＲａの異なる３種類のポリイミドフィルム
を使用して媒体を作成した。
即ち、引っ張り弾性率が３３０ ｋｉｒ／ｍ” 、 ８
００ｋｇ／ｍ”と異なり、引っ張り弾性率が３３０ ｋ
ｇ／龍２のフィルムは（Ｒａ）が０．０２０ミクロン以
下のフィルムと０．０２０ミクロンよりも大きいフィル
ムを用いた。これらのフィルムを、スパッタ中にもフィ
ルムのブレがおこらない程度までテンシランをかけて、
高周波スパッタ機の基板ホルダーへ張り付けた。先ず実
施例３及び４以外の実施例及び比較例について軟磁性層
としてパーマロイを堆積した。ターゲットは直径６イン
チのＣｕ５ａｔ、χ＋Ｍｏ４ａｔ、Ｘ＋Ｆｅ１４ａｔ、
χ、Ｎｉ７７ａｔ、χのパーマロイを使用した。到達真
空度７ ｘ １０−’Ｔｏｒｒの状態からアルゴンガス
を導入して５ ｍＴｏｒｒとし、２００Ｗで必要厚みが
得られるまでスパッタした。基板ホルダーは水冷した。
００ｋｇ／ｍ”と異なり、引っ張り弾性率が３３０ ｋ
ｇ／龍２のフィルムは（Ｒａ）が０．０２０ミクロン以
下のフィルムと０．０２０ミクロンよりも大きいフィル
ムを用いた。これらのフィルムを、スパッタ中にもフィ
ルムのブレがおこらない程度までテンシランをかけて、
高周波スパッタ機の基板ホルダーへ張り付けた。先ず実
施例３及び４以外の実施例及び比較例について軟磁性層
としてパーマロイを堆積した。ターゲットは直径６イン
チのＣｕ５ａｔ、χ＋Ｍｏ４ａｔ、Ｘ＋Ｆｅ１４ａｔ、
χ、Ｎｉ７７ａｔ、χのパーマロイを使用した。到達真
空度７ ｘ １０−’Ｔｏｒｒの状態からアルゴンガス
を導入して５ ｍＴｏｒｒとし、２００Ｗで必要厚みが
得られるまでスパッタした。基板ホルダーは水冷した。
実施例１．５及び比較例、２〜４については、裏面にも
同様の方法でパーマロイを堆積した。次に、実施例３及
び４については基板フィルム上に直接、その他の実施例
及び比較例にてついては軟磁性膜上にＣｏ−Ｃｒ合金を
堆積した５ｃｒ１５ａｔ、χの合金ターゲットを使用し
た。アルゴンガス圧を２ｍＴｏｒｒとして、基板温度１
２０℃、４００Ｗで必要厚みが得られるまでスパッタし
た。実施例１．３．４．５及び比較例２〜４については
、裏面にも同様の方法でＣｏ−Ｃｒ合金を堆積した。
同様の方法でパーマロイを堆積した。次に、実施例３及
び４については基板フィルム上に直接、その他の実施例
及び比較例にてついては軟磁性膜上にＣｏ−Ｃｒ合金を
堆積した５ｃｒ１５ａｔ、χの合金ターゲットを使用し
た。アルゴンガス圧を２ｍＴｏｒｒとして、基板温度１
２０℃、４００Ｗで必要厚みが得られるまでスパッタし
た。実施例１．３．４．５及び比較例２〜４については
、裏面にも同様の方法でＣｏ−Ｃｒ合金を堆積した。
得られた媒体の磁気特性は軟磁気特性に関しては飽和磁
化約６５０ｅｌＷｕ／ｃｃ、 トランク方向の初透磁率
８００−１２００．保磁力約０．５−１エルステツド、
Ｃｏ−Ｃｒ層に関しては下地パーマロイの無い部分で飽
和磁化５５０ｅｍｕ／ｃｃ、垂直抗磁力５００−６００
エルステツド、垂直異方性磁界３゜４ ３、６ ｋｏｅ
であった。
化約６５０ｅｌＷｕ／ｃｃ、 トランク方向の初透磁率
８００−１２００．保磁力約０．５−１エルステツド、
Ｃｏ−Ｃｒ層に関しては下地パーマロイの無い部分で飽
和磁化５５０ｅｍｕ／ｃｃ、垂直抗磁力５００−６００
エルステツド、垂直異方性磁界３゜４ ３、６ ｋｏｅ
であった。
得られたシートから直径５インチのフレキシブルディス
クを切り出し、ヘッド・媒体間のスペーシングを測定し
た。ヘッドとしては曲率半径３０關のガラス模擬ヘッド
を使用した。ヘッド走行速度は毎秒２ｍとした。また同
じくフレキシブルディスクから幅１０ｍの短冊型試料片
を切り取り、スティフネスを測定した。
クを切り出し、ヘッド・媒体間のスペーシングを測定し
た。ヘッドとしては曲率半径３０關のガラス模擬ヘッド
を使用した。ヘッド走行速度は毎秒２ｍとした。また同
じくフレキシブルディスクから幅１０ｍの短冊型試料片
を切り取り、スティフネスを測定した。
これらの結果を第１表にまとめた。スティフネスが５Ｘ
１０−３乃至２０ Ｘ １０−’ｋｇ ・ａｍ、且つ中
心線平均粗さが０．０２０ミクロン以下の媒体はスペー
シングが０．０４０ミクロン以下である。尚、これらの
結果は、ヘッドの曲率半径が１５乃至３ＯＮの間で変化
させてもほぼ同様のスペーシング傾向が得られた。
１０−３乃至２０ Ｘ １０−’ｋｇ ・ａｍ、且つ中
心線平均粗さが０．０２０ミクロン以下の媒体はスペー
シングが０．０４０ミクロン以下である。尚、これらの
結果は、ヘッドの曲率半径が１５乃至３ＯＮの間で変化
させてもほぼ同様のスペーシング傾向が得られた。
次に、実施例１及び比較例２で得られたフレキシブルデ
ィスクの記録再生特性を調べた。
ィスクの記録再生特性を調べた。
ヘッドは主磁極励磁型垂直ヘッドを使用した。
ヘッドの曲率半径５０龍、膜厚み０．３ミクロン、トラ
ック幅１００ミクロン、コイル巻数５０ターンである。
ック幅１００ミクロン、コイル巻数５０ターンである。
トラック走行速度２ ｍ／ｓで同一ヘッドを使用して再
生した。実施例１の記録密度と再生出力の関係を第１図
に示す、記録電流は１０＋＋Ａであった。ヘッド膜厚に
基づ（損失のため周期的に出力を失うが、この損失を無
視して包絡線を第１図のように引き、低密度領域での出
力の半分となる記録密度をり、。＊と定義する。
生した。実施例１の記録密度と再生出力の関係を第１図
に示す、記録電流は１０＋＋Ａであった。ヘッド膜厚に
基づ（損失のため周期的に出力を失うが、この損失を無
視して包絡線を第１図のように引き、低密度領域での出
力の半分となる記録密度をり、。＊と定義する。
実施例１ではＤｓｏ＊は２６０ ｋＦＲＰＩであり、高
密度領域まで再生出力が高いことを示している。
密度領域まで再生出力が高いことを示している。
一方、比較例２ではり、。本は１３０ ｋＦＲＰＩであ
った。
った。
「作用・効果」
叙上の通り、本発明は媒体のスティフネスを５ｘｉｏ−
”乃至２０ＸＬＯ−眩・■且つ表面平滑性（Ｒａ）を０
．０２０ミクロン以下に特定することにより、ヘッドと
媒体間の走行時におけるスペーシングを小さくせしめ、
結果として１００ｋＦＲＰＩ以上の高言度域での再生出
力の高いフレキシブル垂直磁気ディスクを可能ならしめ
るものである。
”乃至２０ＸＬＯ−眩・■且つ表面平滑性（Ｒａ）を０
．０２０ミクロン以下に特定することにより、ヘッドと
媒体間の走行時におけるスペーシングを小さくせしめ、
結果として１００ｋＦＲＰＩ以上の高言度域での再生出
力の高いフレキシブル垂直磁気ディスクを可能ならしめ
るものである。
第１図は２層膜垂直磁気記録媒体の記録密度と再生出力
の関係を示す。第２図は媒体のスティフネスの測定方法
に関する原理図を示したものである。
の関係を示す。第２図は媒体のスティフネスの測定方法
に関する原理図を示したものである。
Claims (1)
- １、中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０２０ミクロン以下
で且つスティフネスが５×１０＾−＾３乃至２０×１０
＾−＾３ｋｇ・ｍｍである垂直磁気記録媒体。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62073086A JPS63239614A (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | 垂直磁気記録媒体 |
| KR1019880003133A KR880011737A (ko) | 1987-03-26 | 1988-03-23 | 수직 자기 기록매체 |
| EP88104746A EP0287834A1 (en) | 1987-03-26 | 1988-03-24 | Perpendicular magnetic recording media |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62073086A JPS63239614A (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | 垂直磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63239614A true JPS63239614A (ja) | 1988-10-05 |
Family
ID=13508171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62073086A Pending JPS63239614A (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | 垂直磁気記録媒体 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0287834A1 (ja) |
| JP (1) | JPS63239614A (ja) |
| KR (1) | KR880011737A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6470913A (en) * | 1987-09-11 | 1989-03-16 | Toshiba Corp | Magnetic recording medium |
-
1987
- 1987-03-26 JP JP62073086A patent/JPS63239614A/ja active Pending
-
1988
- 1988-03-23 KR KR1019880003133A patent/KR880011737A/ko not_active Withdrawn
- 1988-03-24 EP EP88104746A patent/EP0287834A1/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6470913A (en) * | 1987-09-11 | 1989-03-16 | Toshiba Corp | Magnetic recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0287834A1 (en) | 1988-10-26 |
| KR880011737A (ko) | 1988-10-31 |
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