JPS63244018A - 定在波形表面弾性波光変調装置 - Google Patents
定在波形表面弾性波光変調装置Info
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- JPS63244018A JPS63244018A JP7789487A JP7789487A JPS63244018A JP S63244018 A JPS63244018 A JP S63244018A JP 7789487 A JP7789487 A JP 7789487A JP 7789487 A JP7789487 A JP 7789487A JP S63244018 A JPS63244018 A JP S63244018A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、光の位相を超音波を使用して変調する光変
調装置に係り、特に、固体基板表面を伝搬する表面弾性
波(S A W : 5urface Acoust
icWave)を回折格子として利用し、かつ、該SA
Wの発生面を入射光の光軸方向にほぼ平行間隔で積層す
るように配置し、さらにまた、SAWを発生させる複数
の音響波発生装置をSAWの進行方向が逆向きになるよ
うに配置して、光軸方向から見透すとあたかもSAWの
定在波が発生、消滅を繰り返しているような効果を発生
させ、これらの結果、高効率で点滅する変調光を得るこ
とができる定在波形表面弾性波光変調装置に関する。
調装置に係り、特に、固体基板表面を伝搬する表面弾性
波(S A W : 5urface Acoust
icWave)を回折格子として利用し、かつ、該SA
Wの発生面を入射光の光軸方向にほぼ平行間隔で積層す
るように配置し、さらにまた、SAWを発生させる複数
の音響波発生装置をSAWの進行方向が逆向きになるよ
うに配置して、光軸方向から見透すとあたかもSAWの
定在波が発生、消滅を繰り返しているような効果を発生
させ、これらの結果、高効率で点滅する変調光を得るこ
とができる定在波形表面弾性波光変調装置に関する。
光の位相面を、空間的に変調する光変調装置には、光学
的反射格子のように光の反射点の幾可学的空間位置を設
定し、それらの位置のずれから各々の反射光に光路差を
発生させて所望の位相遅れ(位相変調)を生じさせるも
のと、光学レンズのように光の透過する部分の材質の厚
さや、屈折率を変化させて光の速さを遅らせ、その結果
1位相遅れを生ぜせしめるものとがある。光を透過させ
る媒質の屈折率を変化する方式の位相変調装置では、光
透過媒質に異方性結晶などを用い、電界や磁界を加える
ことによって容易に、しかも高速に位相遅れを生じさせ
ることが可能であり、圧電結晶基板上の光導波路などに
電界を加えて位相変調を行う変調素子や、さらに2つの
素子の変調光を干渉させて光の点滅を行う光スィッチな
ど多くの実用的な光学素子が開発されてきた。
的反射格子のように光の反射点の幾可学的空間位置を設
定し、それらの位置のずれから各々の反射光に光路差を
発生させて所望の位相遅れ(位相変調)を生じさせるも
のと、光学レンズのように光の透過する部分の材質の厚
さや、屈折率を変化させて光の速さを遅らせ、その結果
1位相遅れを生ぜせしめるものとがある。光を透過させ
る媒質の屈折率を変化する方式の位相変調装置では、光
透過媒質に異方性結晶などを用い、電界や磁界を加える
ことによって容易に、しかも高速に位相遅れを生じさせ
ることが可能であり、圧電結晶基板上の光導波路などに
電界を加えて位相変調を行う変調素子や、さらに2つの
素子の変調光を干渉させて光の点滅を行う光スィッチな
ど多くの実用的な光学素子が開発されてきた。
また、電界、磁界等の変化では顕著な屈折率変化の生じ
ない物質、あるいは光の透過する部分の面積が広く、そ
の部分全体に例えば正弦波格子状の位相変化分布を発生
させたいような場合には。
ない物質、あるいは光の透過する部分の面積が広く、そ
の部分全体に例えば正弦波格子状の位相変化分布を発生
させたいような場合には。
光透過媒質中に超音波を放射し、超音波による媒質の密
度変化によって屈折率変化を生じさせる音響光学的な手
法がとられてきた。
度変化によって屈折率変化を生じさせる音響光学的な手
法がとられてきた。
この音響光学的な位相変調の方法は、大別すると、媒質
の内部を進行するバルク波を使用するものと、媒質の表
層にエネルギーの大部分が集中している表面弾性波(S
AW)を利用する方法とに分けられる。
の内部を進行するバルク波を使用するものと、媒質の表
層にエネルギーの大部分が集中している表面弾性波(S
AW)を利用する方法とに分けられる。
バルク波を用いるものは、超音波の中を長い距離にわた
って光を進行させることが可能であり。
って光を進行させることが可能であり。
この結果、超音波と光の相互干渉の時間(距離)を長く
とることができ1位相変化量が大きい(変調効率が高い
)特徴があるが、しかし、光透過部分の面積を広くし難
く、また、超音波の発生帯域が構造上狭い等の作成面で
の問題と、バルク波により生じた立体的な格子状の屈折
率変化領域に対する光の入射角度がBragg (ブラ
ッグ)の条件によって制限され、入射光の波長もしくは
超音波の波長が変化するとそれに従って入射角度も調整
する必要があった。しかしながら、固定周波数の光変調
装置としては、小形、高効率であり、最も実用化されて
いるものの一つである。一方、SAWを利用する光変調
装置は、SAWの発生機構が高周波、広帯域に向くもの
であって、 かつ、前記Bragg (ブラッグ)の
条件に適したようにSAWの発射方向を変化させる方法
も開発されてきたため高周波、広帯域の光変調装置とし
て用いられてきた。SAWと光との組合せ方法には、光
をSAWの発生している基板表面に薄膜状に導いてSA
Wの中を長時間(長い距離)伝搬させて変調効率を高め
る方法と、SAWの発生面に垂直に光を透過させて短時
間(短距離)で位相変調させる方法とがある。SAW発
生面に光を導波する方法は。
とることができ1位相変化量が大きい(変調効率が高い
)特徴があるが、しかし、光透過部分の面積を広くし難
く、また、超音波の発生帯域が構造上狭い等の作成面で
の問題と、バルク波により生じた立体的な格子状の屈折
率変化領域に対する光の入射角度がBragg (ブラ
ッグ)の条件によって制限され、入射光の波長もしくは
超音波の波長が変化するとそれに従って入射角度も調整
する必要があった。しかしながら、固定周波数の光変調
装置としては、小形、高効率であり、最も実用化されて
いるものの一つである。一方、SAWを利用する光変調
装置は、SAWの発生機構が高周波、広帯域に向くもの
であって、 かつ、前記Bragg (ブラッグ)の
条件に適したようにSAWの発射方向を変化させる方法
も開発されてきたため高周波、広帯域の光変調装置とし
て用いられてきた。SAWと光との組合せ方法には、光
をSAWの発生している基板表面に薄膜状に導いてSA
Wの中を長時間(長い距離)伝搬させて変調効率を高め
る方法と、SAWの発生面に垂直に光を透過させて短時
間(短距離)で位相変調させる方法とがある。SAW発
生面に光を導波する方法は。
主に薄膜光ICの位相変調素子として多用され利用価値
が高い。また、SAW発生面に垂直に光を入射する方法
は1幅の広い光束全体に位相変調をかけることが可能で
、一般的な空間伝搬形の光学系において位相回折格子の
ように使用されることが多い。この場合、SAWの周波
数を変化させて格子定数を変化させることが可能で可変
格子間隔を有する位相回折格子として注目を集めている
。
が高い。また、SAW発生面に垂直に光を入射する方法
は1幅の広い光束全体に位相変調をかけることが可能で
、一般的な空間伝搬形の光学系において位相回折格子の
ように使用されることが多い。この場合、SAWの周波
数を変化させて格子定数を変化させることが可能で可変
格子間隔を有する位相回折格子として注目を集めている
。
しかしながら、このようなSAW発生面に光を垂直に入
射する方式の光変調装置では、SAWと光の相互作用時
間が他の方式のものに較べ短かく位相変調の効率を高め
ることが困難であった。
射する方式の光変調装置では、SAWと光の相互作用時
間が他の方式のものに較べ短かく位相変調の効率を高め
ることが困難であった。
前記バルク波を使用する変調装置では、前記Bragg
(ブラッグ)の条件を満足させれば、80%程度の
変調効率が期待できるが、SAWに垂直に光を入射する
変調装置では、数%程度と極端に低く、実用面も非常に
限られたものとなっていた。
(ブラッグ)の条件を満足させれば、80%程度の
変調効率が期待できるが、SAWに垂直に光を入射する
変調装置では、数%程度と極端に低く、実用面も非常に
限られたものとなっていた。
(注:ここで言う変調効率とは、位相変調後の光を結像
させ9位相変化で生じた回折光の強度を測定して、入射
光の何%が回折したかを求めたものである。) 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、かかる問題点を解決すべくなされたもので、
その解決の手段として、光を透過し、かつ、SAWが伝
搬する光学平面を表裏にもつ複数個の基材を、各々の表
裏面が互いにほぼ平行な間隔をもちながら対向するよう
に配置し、それら基材の間隙に音響振動を発生させるた
めの音響波発生装置を介在させ、これら音響波発生装置
で発生した音響振動が、これら発生装置を挾む2つの光
学事面に、同一周波数で同一位相のSAWとなって同一
方向に伝搬するような構成とした。このため、複数個の
基材にはそれぞれ同一の音響特性を有し、かつ、入射光
の透過性が十分良好な材質のものを用いた。さらにまた
、複数個の前記音響波発生装置をほぼ半数づつの2つの
グループに分けて、各々のグループでは、SAWは同一
方向に同一周波数、同一速度で進行し、かつ、各SAW
を光軸方向より見透した場合に同相で重なるよう。
させ9位相変化で生じた回折光の強度を測定して、入射
光の何%が回折したかを求めたものである。) 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、かかる問題点を解決すべくなされたもので、
その解決の手段として、光を透過し、かつ、SAWが伝
搬する光学平面を表裏にもつ複数個の基材を、各々の表
裏面が互いにほぼ平行な間隔をもちながら対向するよう
に配置し、それら基材の間隙に音響振動を発生させるた
めの音響波発生装置を介在させ、これら音響波発生装置
で発生した音響振動が、これら発生装置を挾む2つの光
学事面に、同一周波数で同一位相のSAWとなって同一
方向に伝搬するような構成とした。このため、複数個の
基材にはそれぞれ同一の音響特性を有し、かつ、入射光
の透過性が十分良好な材質のものを用いた。さらにまた
、複数個の前記音響波発生装置をほぼ半数づつの2つの
グループに分けて、各々のグループでは、SAWは同一
方向に同一周波数、同一速度で進行し、かつ、各SAW
を光軸方向より見透した場合に同相で重なるよう。
前記複数の発生装置のSAW発生機能(特性)並びに配
置場所を設定した。さらに、この2つのグループ間での
SAWは1周波数、進行速度は等しく、かつ2位相面は
空間的に平行に揃うようにし、進行方向のみ逆方向とし
てSAW伝搬基材上の光透過領域にて空間的に交差する
よう、前記各グループの音響発生装置の位置を設定した
。
置場所を設定した。さらに、この2つのグループ間での
SAWは1周波数、進行速度は等しく、かつ2位相面は
空間的に平行に揃うようにし、進行方向のみ逆方向とし
てSAW伝搬基材上の光透過領域にて空間的に交差する
よう、前記各グループの音響発生装置の位置を設定した
。
以上の手段によって、入射光の光軸方向に積層されたS
AW伝搬基材を、5AWO伝搬速伝搬対し無視できる程
の短時間で光が通過し、各基材表面に発生している同一
周波数で、かつ、空間的に同一平面内に揃った位相(以
後、空間的な同位相という。)を有する複数のSAWに
より同様の位相変調を繰返し受けることになり、SAW
伝搬基材の枚数に従って変調効率を増加させることが可
能となった。加うるに、複数のSAWをほぼ等分して逆
行させたため、光軸方向から重なりあっているSAWを
見透した場合に、逆行しているSAWが同相の位置で重
なった瞬間には、見かけ上。
AW伝搬基材を、5AWO伝搬速伝搬対し無視できる程
の短時間で光が通過し、各基材表面に発生している同一
周波数で、かつ、空間的に同一平面内に揃った位相(以
後、空間的な同位相という。)を有する複数のSAWに
より同様の位相変調を繰返し受けることになり、SAW
伝搬基材の枚数に従って変調効率を増加させることが可
能となった。加うるに、複数のSAWをほぼ等分して逆
行させたため、光軸方向から重なりあっているSAWを
見透した場合に、逆行しているSAWが同相の位置で重
なった瞬間には、見かけ上。
全体のSAWが強め合って、最大強度の位相変調がかか
る状態となり、また、この逆に、逆位相で重なると互い
に弱め合い、たとえば、2つのグループの各々のSAW
振幅強度の総和が等しい場合など5位相変調が全くかか
らない状態、すなわち、見かけ上の屈折率変化の分布が
一様になる状態が出現する。このような位相変調状態の
変化は交差する2つのSAWの周波数及び速度が等しい
場合には、空間的に定在波状態となり、また9時間的に
は、相対的に2倍の速度でSAWが交差して ゛いる
ため、前記空間的な定在波全体がSAWの2倍の時間周
波数で発生、消滅を繰り返している状態となる。ゆえに
2例えば9本装置を通過した平面波光をレンズで収束し
、フラウンホーファ回折像を観測すれば、その上第1久
輝点はSAWの時間周波数の2倍で点滅している輝点と
なる。
る状態となり、また、この逆に、逆位相で重なると互い
に弱め合い、たとえば、2つのグループの各々のSAW
振幅強度の総和が等しい場合など5位相変調が全くかか
らない状態、すなわち、見かけ上の屈折率変化の分布が
一様になる状態が出現する。このような位相変調状態の
変化は交差する2つのSAWの周波数及び速度が等しい
場合には、空間的に定在波状態となり、また9時間的に
は、相対的に2倍の速度でSAWが交差して ゛いる
ため、前記空間的な定在波全体がSAWの2倍の時間周
波数で発生、消滅を繰り返している状態となる。ゆえに
2例えば9本装置を通過した平面波光をレンズで収束し
、フラウンホーファ回折像を観測すれば、その上第1久
輝点はSAWの時間周波数の2倍で点滅している輝点と
なる。
よって1本発明は、基材の積層によって位相変調の効率
を増大させつつ、5AWO伝搬方向を逆行状態にして2
高周波数で断続する位相変調機部を併合させたものとな
っている。
を増大させつつ、5AWO伝搬方向を逆行状態にして2
高周波数で断続する位相変調機部を併合させたものとな
っている。
第1図に本発明の定在波形表面弾性波光変調装置の第1
の実施例における構成図を示す。
の実施例における構成図を示す。
本図は本発明の要旨を示し、複数の基材1a+lb、l
cと音響波発生装置2a、2bとの組合せについて図示
したものである。
cと音響波発生装置2a、2bとの組合せについて図示
したものである。
複数の基材の間に音響波発生装置を配置する構造を簡単
に実現するには、従来より用いられているSAWを用い
た音響光学的位相変調素子、例えば、同一出願人・同一
発明者による発明「表面弾性波を利用した光の回折装置
」 (特願昭60−234812号)などを、本発明の
要領により他の同一音響特性を有する基材と組合せて構
成する方法が考えられる。このrSAWを利用した光の
回折装置」では、光位相変調の基本的な動作を行わせる
構造として、光透過性を有する基材に圧電性基板を使用
し、その基板表面に音響波発生装置として交差指形電極
を金属の蒸着薄膜で形成している。
に実現するには、従来より用いられているSAWを用い
た音響光学的位相変調素子、例えば、同一出願人・同一
発明者による発明「表面弾性波を利用した光の回折装置
」 (特願昭60−234812号)などを、本発明の
要領により他の同一音響特性を有する基材と組合せて構
成する方法が考えられる。このrSAWを利用した光の
回折装置」では、光位相変調の基本的な動作を行わせる
構造として、光透過性を有する基材に圧電性基板を使用
し、その基板表面に音響波発生装置として交差指形電極
を金属の蒸着薄膜で形成している。
前記第1図で示せば、基材1aは圧電性基板であり、か
つ、その片側表面に金属薄膜の蒸着技術及び半導体微細
加工技術等によって作成された交差指形電極が音響波発
生装置2aとして配置された構成である。
つ、その片側表面に金属薄膜の蒸着技術及び半導体微細
加工技術等によって作成された交差指形電極が音響波発
生装置2aとして配置された構成である。
この圧電性基板と交差指形電極による光位相変調素子が
、SAW発生面に垂直入射する光を広い面積で位相変調
する素子としては最も簡単な構造であり、広く知られた
方式である。
、SAW発生面に垂直入射する光を広い面積で位相変調
する素子としては最も簡単な構造であり、広く知られた
方式である。
さて、このような位相変調素子を基本に再度前記第1図
の実施例を説明すれば1本実施例は2つの同特性を有す
るSAWによる位相変調素子、すなわち、基材1aと音
響発生装置2a+及び基材1cと音響波発生装置2bと
の組合せで構成される2つの位相変調素子の間に、前記
基材1a、ICと同等の音響特性を有する基材1bが挾
まれた構造であると言える。この場合、前記音響波発生
装置2a、’lbの表面が基材1bの表裏の光学平面に
密着するように重ねれば、前記音響波発生装置2a、2
bにより前記基材1bの表裏面にもSAWを発生させる
ことが可能である。
の実施例を説明すれば1本実施例は2つの同特性を有す
るSAWによる位相変調素子、すなわち、基材1aと音
響発生装置2a+及び基材1cと音響波発生装置2bと
の組合せで構成される2つの位相変調素子の間に、前記
基材1a、ICと同等の音響特性を有する基材1bが挾
まれた構造であると言える。この場合、前記音響波発生
装置2a、’lbの表面が基材1bの表裏の光学平面に
密着するように重ねれば、前記音響波発生装置2a、2
bにより前記基材1bの表裏面にもSAWを発生させる
ことが可能である。
実験的にSAWの振動振幅は数人〜数十人であり、また
1通常用いられる交差指形電極の膜厚は数μm程度ある
ため、前記基材の間に交差指形電極のみを挾んだだけで
積層圧着しても、交差指形電極の厚さによって生ずる各
基材間の空隙は、その対向する光学平面に5AWO伝博
させるに十分な間隔を有する。
1通常用いられる交差指形電極の膜厚は数μm程度ある
ため、前記基材の間に交差指形電極のみを挾んだだけで
積層圧着しても、交差指形電極の厚さによって生ずる各
基材間の空隙は、その対向する光学平面に5AWO伝博
させるに十分な間隔を有する。
また、この空隙の幅を一定に保ち、各基材をほぼ平行に
積層配置する簡便な方法は、同図にも示されているよう
に、交差指形電極を形成するに際し、光透過領域の反対
側にスペーサ3a、3bとして蒸着膜の小片を形成する
のが良い。本実施例では、このスペーサ3a、3bをS
AWの進行方向に対して斜めになるように形成し、SA
Wの不要反射が音響波発生装置2a、2bに戻らないよ
うにしである。
積層配置する簡便な方法は、同図にも示されているよう
に、交差指形電極を形成するに際し、光透過領域の反対
側にスペーサ3a、3bとして蒸着膜の小片を形成する
のが良い。本実施例では、このスペーサ3a、3bをS
AWの進行方向に対して斜めになるように形成し、SA
Wの不要反射が音響波発生装置2a、2bに戻らないよ
うにしである。
さらにまた、前記音響波発生装置2a、2bの配置場所
は、基材中央部分の光透過領域を挟んで対向する位置と
し、透過させる入射光の光束の大きさを考慮して、その
間隔を決定する。この間隔の実用的な最大値は、基材に
ニオブ酸リチウム等の圧電基板を用いSAWの周波数を
200MHz程度と仮定すれば、伝m損失が0.3dB
/cm程度と推定でき、現状で使用可能な基板の最大直
径及びマスクアライナ−等の製造装置の能力を考え合せ
ると10cm程度と思われる。この値は、現在使用され
ているガラス材に刻線した形の光学回折格子の形状より
はるかに大きく、十分実用に耐えうるものである。
は、基材中央部分の光透過領域を挟んで対向する位置と
し、透過させる入射光の光束の大きさを考慮して、その
間隔を決定する。この間隔の実用的な最大値は、基材に
ニオブ酸リチウム等の圧電基板を用いSAWの周波数を
200MHz程度と仮定すれば、伝m損失が0.3dB
/cm程度と推定でき、現状で使用可能な基板の最大直
径及びマスクアライナ−等の製造装置の能力を考え合せ
ると10cm程度と思われる。この値は、現在使用され
ているガラス材に刻線した形の光学回折格子の形状より
はるかに大きく、十分実用に耐えうるものである。
次に5本実施例のSAW進行方向軸と入射光軸を含む平
面での断面図を示した第2図を用いて、5AWO伝搬の
状態と、光の入射及び位相変調について説明する。
面での断面図を示した第2図を用いて、5AWO伝搬の
状態と、光の入射及び位相変調について説明する。
前記第1図で示したように、本実施例では、3つの基材
と2つの音響波発生装置によって基材の4つの光学平面
にSAWが発生する。
と2つの音響波発生装置によって基材の4つの光学平面
にSAWが発生する。
これら4面のSAWに、第2図に示すように5AWL、
5AWI° 、5AW2.5AW2° と名前を付ける
。前記5AWIと5AWI′は同一の音響波発生装置2
a発射されたSAWであるから完全に空間的な同位相を
保っている。また、同様に5AW2.5AW2’ につ
いても空間的な同位相であることは明白である。ゆえに
、音響波発生装置2a、2bについてその発射する音響
波(SAW)が、空間的に逆方向を向いて進行し、基材
のほぼ中央に位置する光透過領域で、光軸方向から見過
した場合に位相面の方向(格子方向)が同一方向に揃っ
た状態で交差するように配置調整する必要がある。
5AWI° 、5AW2.5AW2° と名前を付ける
。前記5AWIと5AWI′は同一の音響波発生装置2
a発射されたSAWであるから完全に空間的な同位相を
保っている。また、同様に5AW2.5AW2’ につ
いても空間的な同位相であることは明白である。ゆえに
、音響波発生装置2a、2bについてその発射する音響
波(SAW)が、空間的に逆方向を向いて進行し、基材
のほぼ中央に位置する光透過領域で、光軸方向から見過
した場合に位相面の方向(格子方向)が同一方向に揃っ
た状態で交差するように配置調整する必要がある。
位相調整の方法はいくつか考えられるが、最も簡単で確
実な方法は、・各音響波発生装置の発生機構の配置を調
整し、SAWの位相面を合わせることである。
実な方法は、・各音響波発生装置の発生機構の配置を調
整し、SAWの位相面を合わせることである。
実施例のような交差指形電極では、各電極のSAW伝搬
方向位置をSAW波長の数〜数10分の1の精度で調整
できれば良く、実際に必要な数値精度は数μmである。
方向位置をSAW波長の数〜数10分の1の精度で調整
できれば良く、実際に必要な数値精度は数μmである。
この程度の精度内での位置決めは現在の半導体素子製造
用のマスクアライナ−で十分実現できるものである。
用のマスクアライナ−で十分実現できるものである。
第3図に第2の実施例における構成図を示す。
こ、の実施例は、両面に音響波発生装置2a、2bを備
えた両面形の位相変調素子6に、同質の基材la、lc
を密着させた構成で、2つの音響波発生装置2a、2b
と光透過性を有する3つの基材la、lb、lcで、4
面にSAWを発生させる動作は、前記第1図に示した第
1の実施例と同様である。しかしながら、製造過程で用
いる技術は異なり、第1の実施例では、2つの位相変調
素子を組合せる段階で音響波発生装置2a、’lbの位
置を整合させ、SAWの進行方向と位相面(格子方向)
を調整するアッセンブリー技術が必要であり、一方、本
実施例では、両面形の位相変調素子6を製造する際に、
前記音響波発生装置2a、2bの空間的な位相を整合さ
せるための両面マスクアライメントの技術が重要である
。現状では、技術的に第1の実施例の構成法が優位であ
るが、製造工程の簡略化や、完成品の品質の均一化には
本実施例で示した構成法が有力と考えられる。
えた両面形の位相変調素子6に、同質の基材la、lc
を密着させた構成で、2つの音響波発生装置2a、2b
と光透過性を有する3つの基材la、lb、lcで、4
面にSAWを発生させる動作は、前記第1図に示した第
1の実施例と同様である。しかしながら、製造過程で用
いる技術は異なり、第1の実施例では、2つの位相変調
素子を組合せる段階で音響波発生装置2a、’lbの位
置を整合させ、SAWの進行方向と位相面(格子方向)
を調整するアッセンブリー技術が必要であり、一方、本
実施例では、両面形の位相変調素子6を製造する際に、
前記音響波発生装置2a、2bの空間的な位相を整合さ
せるための両面マスクアライメントの技術が重要である
。現状では、技術的に第1の実施例の構成法が優位であ
るが、製造工程の簡略化や、完成品の品質の均一化には
本実施例で示した構成法が有力と考えられる。
以上、本発明の基本となるSAWの発生法について、そ
の実施例を述べたが、本発明の実用化に当たっては、前
記引用した発明「表面弾性波を利用した光の回折装置」
にも示されているように、SAWの不要反射を防止する
超音波吸収部材の配置や、SAWが熱として消滅する際
の発熱に対する対策なども重要な項目である。さらに、
本発明のように、SAWによる基材の密度変化で屈折率
変化を生じさせる形の光位相変調装置では、使用される
基材の屈折率が大きくなることが多く、これに空気中で
光入射を行う場合には、表面あるいは内部反射率が数l
O%といった高率になる可能性が高い。
の実施例を述べたが、本発明の実用化に当たっては、前
記引用した発明「表面弾性波を利用した光の回折装置」
にも示されているように、SAWの不要反射を防止する
超音波吸収部材の配置や、SAWが熱として消滅する際
の発熱に対する対策なども重要な項目である。さらに、
本発明のように、SAWによる基材の密度変化で屈折率
変化を生じさせる形の光位相変調装置では、使用される
基材の屈折率が大きくなることが多く、これに空気中で
光入射を行う場合には、表面あるいは内部反射率が数l
O%といった高率になる可能性が高い。
よって、積層構成による光の多重反射を防止する意味に
おいて光学平面の光学的反射防止膜の形成(光学コーテ
ィング)が必要である。
おいて光学平面の光学的反射防止膜の形成(光学コーテ
ィング)が必要である。
第4図に、本発明の簡単な応用例として、光の偏向装置
に用いた例を示す。
に用いた例を示す。
周波数toの正弦波の電気信号によつて基材1a、lb
の向い合った面及び基板1b、lcの向い合った面に発
生した2組のSAWは、格子定数にあたる空間周期dを
有し、速度Vで矢印の方向に互いに交差するように進行
する。同図左の方向から入射光4がこの基材を通過する
と、この入射光はSAWによる基材表面の凹凸と基材表
面直下の屈折率変化によって位相変調を受ける。この位
相変調は、空間周期dの繰返しによる周期的なものであ
るから、この光は通常の正弦波位相格子を透過した光と
同じく、レンズ7でレンズの焦点面8に結像させると回
折像を生ずる。ここで、入射光が波長λの単色光であれ
ば、該回折像は前記格子定数dで位置の定まる±1次の
回折輝点像となる。この回折輝点の発生位置は、焦点面
8上の光軸より距離αだけ離れた位置となり、方向はS
AWの伝搬方向と等しい。αの値はレンズ7の焦点距離
をFとすれば α=Fλ/d=foFλ/v ・・・= ” (1
)で表わされる。ここで、正弦波電気信号の周波数がf
oを中心に ±Δf/2 変化するものとすれば、焦
点面8上での±1次の回折輝点の変位量Δαは Δα;
ΔfFλ/V ・・・・・・・・・ 〔2)となる。
の向い合った面及び基板1b、lcの向い合った面に発
生した2組のSAWは、格子定数にあたる空間周期dを
有し、速度Vで矢印の方向に互いに交差するように進行
する。同図左の方向から入射光4がこの基材を通過する
と、この入射光はSAWによる基材表面の凹凸と基材表
面直下の屈折率変化によって位相変調を受ける。この位
相変調は、空間周期dの繰返しによる周期的なものであ
るから、この光は通常の正弦波位相格子を透過した光と
同じく、レンズ7でレンズの焦点面8に結像させると回
折像を生ずる。ここで、入射光が波長λの単色光であれ
ば、該回折像は前記格子定数dで位置の定まる±1次の
回折輝点像となる。この回折輝点の発生位置は、焦点面
8上の光軸より距離αだけ離れた位置となり、方向はS
AWの伝搬方向と等しい。αの値はレンズ7の焦点距離
をFとすれば α=Fλ/d=foFλ/v ・・・= ” (1
)で表わされる。ここで、正弦波電気信号の周波数がf
oを中心に ±Δf/2 変化するものとすれば、焦
点面8上での±1次の回折輝点の変位量Δαは Δα;
ΔfFλ/V ・・・・・・・・・ 〔2)となる。
(2)式で明らかなように、SAWの伝搬速度Vが小さ
く、レンズの焦点比1iffFが長く、光の波長λが長
いほど変位量Δαは大きく、かつ、電気信号の周波数と
直線的な関係で変化することが分かる。
く、レンズの焦点比1iffFが長く、光の波長λが長
いほど変位量Δαは大きく、かつ、電気信号の周波数と
直線的な関係で変化することが分かる。
また、前記〔作用〕の部分でも述べたように。
交差して進行する2組のSAWは、見かけ上、光軸方向
からは波長dの定在波として考えることができ、この定
在波は全体的にSAWの2倍の周波数で発生、消滅を繰
り返しているものである。
からは波長dの定在波として考えることができ、この定
在波は全体的にSAWの2倍の周波数で発生、消滅を繰
り返しているものである。
よって、前記回折輝点もこの定在波の発生周期と同周期
で点滅を繰り返すものである。
で点滅を繰り返すものである。
以上述べたように、本発明によれば、2つ以上の音響波
発生装置を光透過性を有する基材の間にそれぞれ挾み込
む形とし、1つの音響波発生装置で2つの基材面に同一
周波数、同一位相のSAWを発生させ、かつ、音響波発
生装置の半数づつを光透過領域を挟んで対向した位置に
配置し、それらより発生するSAWが、光透過領域で空
間的に同じ位相面(格子方向)をもって交差、すれ違う
ようにしたため、従来装置では得られなかった高効率の
位相変調が実現でき、加えて、交差するSAWによって
発生、消滅を周期的に繰り返す定在波状の位相格子を形
成することができた。この位相格子で空間的及び時間的
に変調のかけられた平面波光を、たとえば、レンズ等で
回折像に変換すれば、SAWの2倍の周波数(数百MH
z〜数GHz)で高速点滅を繰り返えす回折輝点が得ら
れる。
発生装置を光透過性を有する基材の間にそれぞれ挾み込
む形とし、1つの音響波発生装置で2つの基材面に同一
周波数、同一位相のSAWを発生させ、かつ、音響波発
生装置の半数づつを光透過領域を挟んで対向した位置に
配置し、それらより発生するSAWが、光透過領域で空
間的に同じ位相面(格子方向)をもって交差、すれ違う
ようにしたため、従来装置では得られなかった高効率の
位相変調が実現でき、加えて、交差するSAWによって
発生、消滅を周期的に繰り返す定在波状の位相格子を形
成することができた。この位相格子で空間的及び時間的
に変調のかけられた平面波光を、たとえば、レンズ等で
回折像に変換すれば、SAWの2倍の周波数(数百MH
z〜数GHz)で高速点滅を繰り返えす回折輝点が得ら
れる。
この点滅周期はSAWの周期と同期しているため、光情
報処理系では、高速光チョッパとしての利用が考えられ
る。また2本装置では、広い面積を有する光(光束)を
取扱えることが特徴で、 SAWの周波数可変性と併
用して可変格子定数の位相格子としても利用できる。
報処理系では、高速光チョッパとしての利用が考えられ
る。また2本装置では、広い面積を有する光(光束)を
取扱えることが特徴で、 SAWの周波数可変性と併
用して可変格子定数の位相格子としても利用できる。
さらにまた、光偏向装置として用いたり、高速点滅を繰
り返えす回折光をストロボ光源として活用する方法も考
えられる。
り返えす回折光をストロボ光源として活用する方法も考
えられる。
第1図は、本発明の定在波形表面弾性波光変調装置に係
る第1実施例における構成を示す。 第2図は、第1図の第1実施例における積層された基材
と複数のSAW及び入射光との位置関係を示す。 第3図は、本発明の第2実施例における構成を示す。 第4図は、本発明を光偏向に応用した場合の光の偏向状
態を示す。 図において、1aと1b及びICは基材、2aと2bは
音響波発生装置、3aと3bはスペーサ、4は入射光、
6は1bと2a及び2bを合せた両面形の位相変調素子
、7はレンズ、8は焦点面をそれぞれ示す。
る第1実施例における構成を示す。 第2図は、第1図の第1実施例における積層された基材
と複数のSAW及び入射光との位置関係を示す。 第3図は、本発明の第2実施例における構成を示す。 第4図は、本発明を光偏向に応用した場合の光の偏向状
態を示す。 図において、1aと1b及びICは基材、2aと2bは
音響波発生装置、3aと3bはスペーサ、4は入射光、
6は1bと2a及び2bを合せた両面形の位相変調素子
、7はレンズ、8は焦点面をそれぞれ示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 光透過性を有し、かつ同一の音響特性を備え、表裏にそ
れぞれ光学平面を持ち、互いに光学平面を対向させなが
ら積層された複数の基材と、該複数の基材の対向する光
学平面間の少なくとも1つに介在されていて、所定の進
行方向に所定波長及び所定位相をもつ第1の表面弾性波
を光学平面に発生させる第1の音響波発生装置と、前記
複数の基材の対向する光学平面間の少なくとも1つに介
在されていて、前記所定の進行方向と逆方向に前記所定
波長と同一波長をもち、かつ1つ又は互いに同位相をも
つ2つ以上の第2の表面弾性波を光学平面に発生させる
第2の音響波発生装置とを備え、 前記第1及び第2の表面弾性波から作られる格子により
透過する光を変調させる定在波形表面弾性波光変調装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7789487A JPH06100741B2 (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 定在波形表面弾性波光変調装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7789487A JPH06100741B2 (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 定在波形表面弾性波光変調装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63244018A true JPS63244018A (ja) | 1988-10-11 |
| JPH06100741B2 JPH06100741B2 (ja) | 1994-12-12 |
Family
ID=13646785
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7789487A Expired - Lifetime JPH06100741B2 (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 定在波形表面弾性波光変調装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06100741B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116124421A (zh) * | 2023-03-17 | 2023-05-16 | 杭州远方仪器有限公司 | 一种调制光波形编辑测量方法及探测器频率响应测量方法 |
-
1987
- 1987-03-31 JP JP7789487A patent/JPH06100741B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116124421A (zh) * | 2023-03-17 | 2023-05-16 | 杭州远方仪器有限公司 | 一种调制光波形编辑测量方法及探测器频率响应测量方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06100741B2 (ja) | 1994-12-12 |
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