JPS63246885A - ダイヤモンド発光素子及び製造方法 - Google Patents
ダイヤモンド発光素子及び製造方法Info
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- JPS63246885A JPS63246885A JP62082140A JP8214087A JPS63246885A JP S63246885 A JPS63246885 A JP S63246885A JP 62082140 A JP62082140 A JP 62082140A JP 8214087 A JP8214087 A JP 8214087A JP S63246885 A JPS63246885 A JP S63246885A
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Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Led Devices (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
仁発明の目的
(a) 産業上の利用分野
本発明は、可視域での波長可変な、固体レーザーに用い
る発光素子に関するものである。
る発光素子に関するものである。
(b) 従来の技術
仁発明の目的
可視域波長可変なレーザーとしては、色素(Dye)レ
ーザーが現在使用されている。しかしながら、色素レー
ザーは下記の様な欠点がある。
ーザーが現在使用されている。しかしながら、色素レー
ザーは下記の様な欠点がある。
■色素が励起光によって劣化する為、出力が不安定であ
る。
る。
■溶液中に色素を溶かす為、発光中心の濃度が低く、高
出力が得難い。
出力が得難い。
■取扱いが、不便である。
この為、固体で波長可変なレーザー素子の開発が望まれ
て来た。特にダイヤモンドは、可視域に多数のカラーセ
ンターを持つ為、最も該目的に適した物質で有る。従来
より、ダイヤモンドのカラーセンターの研究は行なわれ
ており例えば、D iamondRe5earch 1
977(Fil 〜14)や、J 、 Phys、 C
: 5olid。
て来た。特にダイヤモンドは、可視域に多数のカラーセ
ンターを持つ為、最も該目的に適した物質で有る。従来
より、ダイヤモンドのカラーセンターの研究は行なわれ
ており例えば、D iamondRe5earch 1
977(Fil 〜14)や、J 、 Phys、 C
: 5olid。
16(1983) P5417〜5425に示される如
く、各種のカラーセンターが研究され、レーザーへの可
能性が指摘されて来た。
く、各種のカラーセンターが研究され、レーザーへの可
能性が指摘されて来た。
本発明と、はぼ同一の発光波長域を示すカラーセンター
の研究としては、Diamond Re5earch
1977(P15〜23)が有る。又該カラーセンター
のレーザーへの応用は 0ptic Letters
10(1985) P4111〜483に示す如<50
0〜600nmでパルス発振した例が有る。
の研究としては、Diamond Re5earch
1977(P15〜23)が有る。又該カラーセンター
のレーザーへの応用は 0ptic Letters
10(1985) P4111〜483に示す如<50
0〜600nmでパルス発振した例が有る。
(C) 発明が解決しようとする問題点従来研究され
て来たダイヤモンド固体レーザーには、下記の如き欠点
があった。
て来たダイヤモンド固体レーザーには、下記の如き欠点
があった。
■天然ダイヤモンドを用る事が多い為、カラーセンター
に寄与する窒素濃度のバラツキが大きく、同一性能の発
光素子を作るのがむずかしい。
に寄与する窒素濃度のバラツキが大きく、同一性能の発
光素子を作るのがむずかしい。
■天然ダイヤモンド中には、A型、B型、孤立分散型の
3種類の窒素の存在形態が有り、それぞれに応じて異な
るカラーセンターが生ずる。
3種類の窒素の存在形態が有り、それぞれに応じて異な
るカラーセンターが生ずる。
この為、混在するカラーセンターを持った素子が出来、
発光がうまく行かない。
発光がうまく行かない。
■本発明と同一発光波長域のカラーセンターは、A型、
B型の窒素と格子欠陥とから成り、(H3、H4センタ
ー)孤立分散型の窒素からは、本発明と同一発光波長域
のカラーセンターは出来なかった。合成Ib型に含有さ
れる窒素は、孤立分散型である為、極めて難しい熱処理
の後、A型、B型に窒素の存在形体を変え、カラーセン
ターを作る必要が有った。
B型の窒素と格子欠陥とから成り、(H3、H4センタ
ー)孤立分散型の窒素からは、本発明と同一発光波長域
のカラーセンターは出来なかった。合成Ib型に含有さ
れる窒素は、孤立分散型である為、極めて難しい熱処理
の後、A型、B型に窒素の存在形体を変え、カラーセン
ターを作る必要が有った。
■合r&Ib型ダイヤの砥粒単結晶([成長法)は、析
出不純物が多く、充分な発光強度が得られない。
出不純物が多く、充分な発光強度が得られない。
口0発明の構成
(a) 問題点を解決するための手段■、■の欠点を
解決する為に、合成ダイヤモンドを用いる。■の欠点を
解決する為に、温度差法による合成大型ダイヤを用いる
。
解決する為に、合成ダイヤモンドを用いる。■の欠点を
解決する為に、温度差法による合成大型ダイヤを用いる
。
■の欠点を解決する為に、窒素濃度の高い(1017〜
5×101m原子/cJI)結晶にBを添加し、(10
17〜2x l Q I m原子/cat)、H3,H
4カラーセンターとは異なる発光源を作製した。さらに
弱い電子線照射(1017〜1017電子/c11)を
行なう事により発光効率を高めた。
5×101m原子/cJI)結晶にBを添加し、(10
17〜2x l Q I m原子/cat)、H3,H
4カラーセンターとは異なる発光源を作製した。さらに
弱い電子線照射(1017〜1017電子/c11)を
行なう事により発光効率を高めた。
(b) 作用
ダイヤモンドは、窒素及び存在形態及び不純物の含有量
によって下記の如く分類される6 (N:窒素濃度) ・Ia:N〉10′?原子/(d(A型、B型及び孤立
分散型混在)、・IIa型:Nり0 (A、B型及び孤
立分散型)、−1b型:N>10′?原子/crI(孤
立分散型)、・nb型:NzO,Bを含有、(窒素原子
の存在形態を示す。) 天然ダイヤは、上記の全ての型のダイヤが存在するが、
合成ダイヤは、Ib 、 Ila 、 Ilb型が存在
する。これらの単結晶に励起光を当てても、本発明の波
長領域で強い発光は生じない。この為、下記の事を行な
う。
によって下記の如く分類される6 (N:窒素濃度) ・Ia:N〉10′?原子/(d(A型、B型及び孤立
分散型混在)、・IIa型:Nり0 (A、B型及び孤
立分散型)、−1b型:N>10′?原子/crI(孤
立分散型)、・nb型:NzO,Bを含有、(窒素原子
の存在形態を示す。) 天然ダイヤは、上記の全ての型のダイヤが存在するが、
合成ダイヤは、Ib 、 Ila 、 Ilb型が存在
する。これらの単結晶に励起光を当てても、本発明の波
長領域で強い発光は生じない。この為、下記の事を行な
う。
以下、従来行なわれている可視域のカラーセンターにつ
いて簡単に述べる。
いて簡単に述べる。
電子線照射を行なう事により、GRI(880〜101
050nセンターが生じる。さらに照射した単結晶に熱
処理を行なう事により、A型の窒素を含有する結晶では
H3(480〜600nm)センター、B型ではH4(
490〜630nm)+ 79−1孤立分子& 型テは
N V (640−840tun)センターが生ずる。
050nセンターが生じる。さらに照射した単結晶に熱
処理を行なう事により、A型の窒素を含有する結晶では
H3(480〜600nm)センター、B型ではH4(
490〜630nm)+ 79−1孤立分子& 型テは
N V (640−840tun)センターが生ずる。
IIa型。
nb型では、H3,H4,NYセンターが生ぜず、他の
センターが生ずるが、これらのセンターによる発光波長
域は可視域のはずれ又は近可視である。
センターが生ずるが、これらのセンターによる発光波長
域は可視域のはずれ又は近可視である。
本発明の発光波長域は、470〜650nmであり、上
記H3,H4センターの発光波長域に相当する。
記H3,H4センターの発光波長域に相当する。
H3,H4カラーセンターを得る為に、従来、ダイヤモ
ンド単結晶としては、天然Ia型が用いられていた。し
かし、天然単結晶は、■A型、B型。
ンド単結晶としては、天然Ia型が用いられていた。し
かし、天然単結晶は、■A型、B型。
孤立分散型が共存する為、H3,H4,NVセンターが
混在して出来る。■窒素濃度が結晶内で均一ではない。
混在して出来る。■窒素濃度が結晶内で均一ではない。
■各結晶により、窒素濃度が異なる事より、安定した発
光を得られない欠点があった。
光を得られない欠点があった。
合成ダイヤIb型を用いると、上記の欠点は無くなるが
、A型、B型の窒素を含有していない為、H3,H4セ
ンターが出来ないと言う欠点が新たに生ずる。この為、
超高圧高温処理によって、孤立分散型の窒素をA、B型
に変換し、前述の電子線照射した後、熱処理を行ないH
3,H4カラーセンターを作る試みがなされている。
、A型、B型の窒素を含有していない為、H3,H4セ
ンターが出来ないと言う欠点が新たに生ずる。この為、
超高圧高温処理によって、孤立分散型の窒素をA、B型
に変換し、前述の電子線照射した後、熱処理を行ないH
3,H4カラーセンターを作る試みがなされている。
しかし、A型に変換する技術は極めて難しく、完全に変
換しない場合も多い。この為本発明では、全く別の機構
によって、H3,H4と同一波長域の発光を見い出し、
さらに発光効率の最も高くなる素子の作製に成功した。
換しない場合も多い。この為本発明では、全く別の機構
によって、H3,H4と同一波長域の発光を見い出し、
さらに発光効率の最も高くなる素子の作製に成功した。
本発明では、窒素含有量の多いIb型単結晶に、Bを添
加する事により、照射及び熱処理を行なわなくとも47
0〜600nmに新しい発光が生ずる事が判明した。さ
らに、発光強度を上げるには、弱い電子線照射によって
生じた格子欠陥が寄与している事を見い出した。
加する事により、照射及び熱処理を行なわなくとも47
0〜600nmに新しい発光が生ずる事が判明した。さ
らに、発光強度を上げるには、弱い電子線照射によって
生じた格子欠陥が寄与している事を見い出した。
実験条件を変え、発光強度スペクトルを測定した所、下
記の条件を満たす素子が最も効率良く発光する事を見い
出した。
記の条件を満たす素子が最も効率良く発光する事を見い
出した。
■窒素濃度 101s〜5 X 1017原子/ 7■
B濃度 1017 〜2 X 1017原子/811
1■格子欠陥濃度1010〜1017個/cd又、結晶
中に析出不純物が存在すると、発光強度が低下する事を
見い出し、その上限値は、0.5体積%である事が判明
した。
B濃度 1017 〜2 X 1017原子/811
1■格子欠陥濃度1010〜1017個/cd又、結晶
中に析出不純物が存在すると、発光強度が低下する事を
見い出し、その上限値は、0.5体積%である事が判明
した。
孤立分散型、窒素原子濃度は、1017〜5×1013
の範囲が望ましい。101m原子/ crl以下では、
発光中心の数が少なく、発光強度が弱い。また濃度が5
xlQI9原子/cd以上では、励起光の吸収が多すぎ
て、発光強度が弱くなる。また、Bの原子濃度は10′
6〜2X1019の範囲が望ましい。1016原子/
c++1以下では発光中心の数が少なく、強度が弱い。
の範囲が望ましい。101m原子/ crl以下では、
発光中心の数が少なく、発光強度が弱い。また濃度が5
xlQI9原子/cd以上では、励起光の吸収が多すぎ
て、発光強度が弱くなる。また、Bの原子濃度は10′
6〜2X1019の範囲が望ましい。1016原子/
c++1以下では発光中心の数が少なく、強度が弱い。
また濃度が2×1013原子702以上では近紫外の別
の発光が強くなり、該発光強度は減少する。格子欠陥濃
度についていえば、1010〜1017個/cutの範
囲が望ましい。濃度が1010個/cal以下では発光
強度が助長されず強度が弱い。また10′7個/cd以
上では、可視域内に別のセンターGRIが出来、該発光
強度の低下が生ずる。
の発光が強くなり、該発光強度は減少する。格子欠陥濃
度についていえば、1010〜1017個/cutの範
囲が望ましい。濃度が1010個/cal以下では発光
強度が助長されず強度が弱い。また10′7個/cd以
上では、可視域内に別のセンターGRIが出来、該発光
強度の低下が生ずる。
また、電子線の加速電圧は0,5〜4 Mevが望まし
い。0.5Mev以下では格子欠陥が生じない。また4
May以上では前記のカラーセンターの破損が生じ、発
光強度が低下する。電子線の照射は1012〜1017
電子/CIl!が望ましい。この範囲で照射すると格子
欠陥濃度が1010〜1017個/cI11の濃度のも
のを得ることができる。
い。0.5Mev以下では格子欠陥が生じない。また4
May以上では前記のカラーセンターの破損が生じ、発
光強度が低下する。電子線の照射は1012〜1017
電子/CIl!が望ましい。この範囲で照射すると格子
欠陥濃度が1010〜1017個/cI11の濃度のも
のを得ることができる。
合成ダイヤモンドは、合成方法によって■砥粒用結晶(
膜成長法)、■大型単結晶(温度差法)が出来る。共に
Ib型ではあるが、上述の析出不純物量で著しく相違が
ある。前者は、約2体積%の溶媒及びグラファイトを析
出不純物として結晶内に含むが、後者は、0.5体積%
以下である。
膜成長法)、■大型単結晶(温度差法)が出来る。共に
Ib型ではあるが、上述の析出不純物量で著しく相違が
ある。前者は、約2体積%の溶媒及びグラファイトを析
出不純物として結晶内に含むが、後者は、0.5体積%
以下である。
本発明では、後者の方法で合成した単結晶が、発光素子
に適している事を開示した。
に適している事を開示した。
前述の単結晶の内、窒素濃度が1018〜5 X 10
17原子/Cl1l、 B濃度が1017 〜2 X
1017原子/cm2のものが最も効率良く発光する事
を見い出した。上述の窒素濃度の単結晶を合成するには
、Fe−Ni、 Fe−Co。
17原子/Cl1l、 B濃度が1017 〜2 X
1017原子/cm2のものが最も効率良く発光する事
を見い出した。上述の窒素濃度の単結晶を合成するには
、Fe−Ni、 Fe−Co。
Fe−Ni−Co合金が好ましい事が判明した。特にF
eが60〜80重量%の組成が最も好ましい事が判かっ
た。
eが60〜80重量%の組成が最も好ましい事が判かっ
た。
さらに溶媒中にあらかじめ含まれる窒素濃度も単結晶中
の窒素濃度と相関が有る事が判かり、特に10〜300
PPMの値に有るものが好ましい事が判明した。単結晶
中のB濃度は溶媒にあらかじめ添加する量によって決ま
り、前述の溶媒では5〜11000PPのBを均一に添
加する事が良い事が判かった。
の窒素濃度と相関が有る事が判かり、特に10〜300
PPMの値に有るものが好ましい事が判明した。単結晶
中のB濃度は溶媒にあらかじめ添加する量によって決ま
り、前述の溶媒では5〜11000PPのBを均一に添
加する事が良い事が判かった。
あらかじめBを均一に添加しない場合には、単結晶中の
Ba度が均一にならない場合も生じた。
Ba度が均一にならない場合も生じた。
又、格子欠陥濃度を上述の1010〜10′7個/Cl
11にするには、0.5〜4 Mevの加速電圧で、1
012〜1019電子/dで行なう事が好ましいことを
見い出した。
11にするには、0.5〜4 Mevの加速電圧で、1
012〜1019電子/dで行なう事が好ましいことを
見い出した。
尚、格子欠陥濃度はESRによって、不対電子対の磁気
吸収ピークを測定する事によって推定した。又、発光強
度スペクトルは、次の様にして測定した。先ず、Ar+
レーザーの458nmの発光線を励起光に選び、単結晶
に当てた。該励起光によって、発光した光を、分光器に
入れ、波長を変化させながら、フォトマルチプライヤ−
に入れ、電気信号に変え、スペクトルを測定した。上述
の如き方法によって作製した発光素子1を、第1図に示
す様に、半透明ミラー4及び、グレーティング3よりな
るキャビティにセットし、励起光源6として、Ar−レ
ーザーの458nmの輝線を用いた所、レーザー発振し
た。又、ダイヤ表面での反射ロスを少なくする為、2の
コーティングを施した。
吸収ピークを測定する事によって推定した。又、発光強
度スペクトルは、次の様にして測定した。先ず、Ar+
レーザーの458nmの発光線を励起光に選び、単結晶
に当てた。該励起光によって、発光した光を、分光器に
入れ、波長を変化させながら、フォトマルチプライヤ−
に入れ、電気信号に変え、スペクトルを測定した。上述
の如き方法によって作製した発光素子1を、第1図に示
す様に、半透明ミラー4及び、グレーティング3よりな
るキャビティにセットし、励起光源6として、Ar−レ
ーザーの458nmの輝線を用いた所、レーザー発振し
た。又、ダイヤ表面での反射ロスを少なくする為、2の
コーティングを施した。
(C) 実施例
(実施例−1)
合成大型単結晶(温度差法)の窒素含有量を変えて、下
表(第1表)の実験を行ない、発光強度(ルミネッセン
ス強度)測定を行なった。尚、析出不純物量は、全て0
.5体積%以下であった。
表(第1表)の実験を行ない、発光強度(ルミネッセン
ス強度)測定を行なった。尚、析出不純物量は、全て0
.5体積%以下であった。
1(+″・′
又、窒素濃度は1130CII+−’における赤外吸収
係数より推定した。(高圧討論会(26回)要旨集P1
56〜157.1985 ) 86度は、2次イオン質量分析器(カメ力製 SIMS
)によって、概知試料濃度と比較し求めた。
係数より推定した。(高圧討論会(26回)要旨集P1
56〜157.1985 ) 86度は、2次イオン質量分析器(カメ力製 SIMS
)によって、概知試料濃度と比較し求めた。
欠陥密度は、前述の如く、ESRによって求めた。
以下の実施例も、同一方法で測定した。
(実施例−2)
合成大型単結晶(温度差法)のB濃度を変えて、下表(
第2表)の実験を行ない発光強度を測定した。
第2表)の実験を行ない発光強度を測定した。
尚、析出不純物は、全て0.5体積%以下であった。゛
又、Nα13試料を用い、第1図に示す如きレーザー発
振装置によって、レーザー発振を行っり所、490〜6
20nmの範囲の任意の波長で連続発振した。
又、Nα13試料を用い、第1図に示す如きレーザー発
振装置によって、レーザー発振を行っり所、490〜6
20nmの範囲の任意の波長で連続発振した。
(実施例−3)
合成大型単結晶(温度差法)に、電子照射条件を変えて
、下表(第3表)の様な格子欠陥濃度の素子を作り発光
強度測定を行なった。
、下表(第3表)の様な格子欠陥濃度の素子を作り発光
強度測定を行なった。
尚、析出不純物は、全て0.5体積%以下であった。
(実施例−4)
大型単結晶(温度差法)、砥粒用単結晶の中から析出不
純物の異った下表(第4表)の様な試料を選び、電子線
照射を加えて欠陥を作った。該試料の発光強度測定を行
なった所、下記の結果を得た。
純物の異った下表(第4表)の様な試料を選び、電子線
照射を加えて欠陥を作った。該試料の発光強度測定を行
なった所、下記の結果を得た。
尚、Nα31の発光強度を1とした。
ハ0発明の詳細
な説明した様に、本発明により、従来の機構とは異った
発光源により、安定した発光特性を示し、かつ発光波長
域も広いレーザー素子が作製可能となった。
発光源により、安定した発光特性を示し、かつ発光波長
域も広いレーザー素子が作製可能となった。
又、第1図に示す様なレーザー発振装置に組み込む事に
より、590〜650nmの範囲で、任意の波長で連続
発振した。
より、590〜650nmの範囲で、任意の波長で連続
発振した。
上述のレーザー光を用いる事により、高精度な分光分析
、距離測定及び化学反応の促進において大きな効果をも
たらした。
、距離測定及び化学反応の促進において大きな効果をも
たらした。
第1図はレーザー発振装置の概略図を示す。
1はレーザー素子、2はコーテイング膜、3はグレーテ
ィング、4は半透過鏡、5はビームスプリッタ−16は
アルゴンレーザー、7は励起光、8は発振したレーザー
光をそれぞれ示す。
ィング、4は半透過鏡、5はビームスプリッタ−16は
アルゴンレーザー、7は励起光、8は発振したレーザー
光をそれぞれ示す。
Claims (2)
- (1)合成Ib型ダイヤモンド中に10^1^3〜5×
10^1^3原子/cm^2の孤立分散型窒素原子及び
10^1^6〜2×10^1^3原子/cm^2のB原
子が共存し、格子欠陥濃度が10^1^0〜10^1^
7個/cm^2であり、かつ結晶中の析出不純物が0.
5体積%以下であり、励起光により470〜650mm
の波長範囲で連続発光する事を特徴とするダイヤモンド
発光素子。 - (2)熱力学的にダイヤモンドが安定な領域内で、温度
差法によって上記Ib型単結晶を合成するのに、窒素濃
度が10〜300PPMのFeが60〜80重量%から
なるFe、Ni、またはCoよりなる合金溶媒を用い、
さらに該溶媒中に5〜1000PPMのBを均一に添加
して、ダイヤモンドを合成し、該ダイヤモンドに0.5
〜4Mevで10^1^2〜10^1^9電子/cm^
2の電子線照射を行なう事を特徴とするダイヤモンド発
光素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62082140A JPS63246885A (ja) | 1987-04-01 | 1987-04-01 | ダイヤモンド発光素子及び製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62082140A JPS63246885A (ja) | 1987-04-01 | 1987-04-01 | ダイヤモンド発光素子及び製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63246885A true JPS63246885A (ja) | 1988-10-13 |
Family
ID=13766121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62082140A Pending JPS63246885A (ja) | 1987-04-01 | 1987-04-01 | ダイヤモンド発光素子及び製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63246885A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02239193A (ja) * | 1989-03-13 | 1990-09-21 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ダイヤモンド半導体およびその製造方法 |
| US5420879A (en) * | 1992-09-16 | 1995-05-30 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Solid state laser |
| JP2003092455A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Japan Science & Technology Corp | 半導体レーザ |
| WO2016203950A1 (ja) * | 2015-06-19 | 2016-12-22 | 住友電気工業株式会社 | ダイヤモンド単結晶、工具およびダイヤモンド単結晶の製造方法 |
| CN108469536A (zh) * | 2018-03-20 | 2018-08-31 | 中北大学 | 基于金刚石nv色心的三轴加速度传感器 |
-
1987
- 1987-04-01 JP JP62082140A patent/JPS63246885A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02239193A (ja) * | 1989-03-13 | 1990-09-21 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ダイヤモンド半導体およびその製造方法 |
| US5420879A (en) * | 1992-09-16 | 1995-05-30 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Solid state laser |
| JP2003092455A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Japan Science & Technology Corp | 半導体レーザ |
| WO2016203950A1 (ja) * | 2015-06-19 | 2016-12-22 | 住友電気工業株式会社 | ダイヤモンド単結晶、工具およびダイヤモンド単結晶の製造方法 |
| JP2017007887A (ja) * | 2015-06-19 | 2017-01-12 | 住友電気工業株式会社 | ダイヤモンド単結晶、工具およびダイヤモンド単結晶の製造方法 |
| CN108469536A (zh) * | 2018-03-20 | 2018-08-31 | 中北大学 | 基于金刚石nv色心的三轴加速度传感器 |
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