JPS63248449A - ドラフトチヤンバ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はドラフトチャンバに係り、特に半導体製造工程
に於けるシリコンウェハ等の化学洗浄及びエツチングに
用いられる薬液槽が設置されるドラフトチャンバに関す
る。

〔従来の技術〕

半導体の製造工程にはシリコンウェハを化学洗浄し、及
びエツチングする工程がある。例えば化学洗浄プロセス
に於いてシリコンウェハは高温加熱（８０℃〜１２０℃
）された過酸化水素、アンモニア、塩酸、硫酸などを組
成とする溶液等の薬液槽にそれぞれｌＯ〜２０分間浸さ
れて処理されている。またフッ酸や硝酸を成分とする溶
液の薬液槽に数分間浸してエツチング処理される。

ところで、このようなシリコンウェハの処理工程は塵埃
の付着等を防止する為、クリーンルーム内に設置される
ドラフトチャンバ内で行われる。

従来のこの種のドラフトチャンバは、薬液槽から発生す
る有害ガスがクリーンルームに漏出することを防止する
為に、排気用のダクトが設置され、ファン駆動により外
部に有害ガスを排気するようにしている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、従来のドラフトチャンバは、ドラフトチャンバ
内に有害ガスが拡散混合した状態で排気するため大容量
のファンによって有害ガスと共にクリーンルーム内の空
調、清浄空気も大量に排出する結果を生じている。その
ため無駄が多く、又ファン駆動のための動力が大きくな
るという不具合があった。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、薬液
槽から発生する有害ガスをクリーンルームに漏出するこ
となく少ない排風量で効率よく排出することが出来るド
ラフトチャンバを提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は前記目的を達成するために、クリーンルーム内
に設置され、複数の液槽を有すると共に前面にキャリア
の操作用窓を有し、前記液槽にキャリアを順次浸漬する
処理を行うためのドラフトチャンバにおいて、前記液槽
のうち少なくとも有害ガスを発生する薬液槽の液面上方
でドラフトチャンバの前方から後方に向かう略水平方向
の第１の空気流を発生する第１の空気流発生手段と、前
記ドラフトチャンバの天井から下方に向かう第２の空気
流を発生する第２の空気流発生手段とを備え、前記薬液
槽から発生する有害ガスのクリーンルームへの漏出を防
止するを特徴としている。

〔作用〕

本発明によれば、前記第１の空気流発生手段から発生す
る略水平方向の第１の空気流により薬液槽から発生する
有害ガスをチャンバ内へ極力拡散しないように直接排出
し、この第１の空気流によるエアシールを越えて拡散す
る夕景の有害ガスはドラフトチャンバの天井から下方に
向かう第２の空気流（ダウンフロー）によってその拡散
が抑制され、有害ガスが操作用窓側を介してクリーンル
ームに漏出することを防止するようにしている。

〔実施例〕

以下添付図面に従って本発明に係るドラフトチャンバの
好ましい実施例を詳説する。

第１図は本発明に係るドラフトチャンバの一実施例を示
す正面図であり、第２図は第１図に於けるＡ−Ａ線に沿
う断面図、第３図は第１図に於けるＢ−Ｂ線に沿う断面
図、第４図は第１図に於けるＣ−Ｃ線に沿う断面図、及
び第５図は第１図に於けるＤ−Ｄ線に沿う断面図である
。

このドラフトチャンバはクリーンルーム内に設置される
もので、その前面には第１図に示すように操作パネル１
０、ウェハキャリアの操作用窓が設けられている。この
操作用窓には四枚の透明引戸１２が設けられると共に、
左右の透明引戸には更にキャリア供給用小引戸１４及び
キャリア取出用小引戸１６が設けられている。

又、ドラフトチャンバ内には、第２図に示すようにＮ　
Ｈ４０Ｈ＋　Ｈ２０２薬液槽２０、リンス槽２２、ＨＦ
薬液槽２４及びリンス槽２６の４漕が順次配列されてい
る。

薬液槽２０にはヒータ３４が配設され、２０．２４の薬
液槽には薬液供給装置（図示せず）より薬液が供給され
、リンス槽２２．２６には超純水が供給されるようにな
っている。又各液種の廃液は、液槽底面より自動排水弁
３２を介して廃液されるようになっている（第４図、第
５図参照）。

更に、ドラフトチャンバ内には、ウェハキャリアをキャ
リア供給部２７から前記各液槽を介してウェハ取出部２
８まで搬送するキャリア搬送装置３０が設けられている
。尚、このキャリア搬送装置３０は、第４図に示すよう
にウェハキャリアを各液槽に浸漬するために上下方向に
移動できるように構成されている。

さて、このドラフトチャンバの床面にはシールエアファ
ン４０が配設され、天井には第１給気フアン５０（第５
図）及び第２給気フアン６０（第４図）が配設されてい
る。

シールエアファン４０は、第３図及び第４図に示すよう
にプレフィルタ付き吸気口４２からクリーンルーム内の
清浄空気を吸入し、ＨＥＰＡフィルタ４４からダクト４
６及び４８を介して吹出口４８Ａ及び４８Ｂよりシール
エアを送出する。尚、ダクト４８は、第３図からも明ら
かなように薬液槽２０．２４のみに対応して設けられ、
従って薬液層２０．２４の上方のみにシールエアが送出
される。又、上記シールエアは吹出口４８Ａ及び４８Ｂ
からそれぞれ上下二層流として送出され、上段側の流速
を速＜シ（約１ｍ／ｓ）、下段側の流速を０．２ｍ／Ｓ
程度になるようにしている。これは、薬液蒸発量の軽減
化を図ると共に、槽縁の配管類への気流の衝突乱流を防
止しミスト飛散の恐れをなくすためである。

一方、第１給気フアン５０は、第５図に示すようにプレ
フィルタ付き吸気口５２からクリーンルーム内の清浄空
気を吸入し、天井のダクト５４及びＨＥＰＡフィルタ５
６を介して天井から下方に向かう空気流（ダウンフロー
）を送出している。

又、第２給気フアン６０は、第４図に示すようにプレフ
ィルタ付き吸気口６２からクリーンルーム内の清浄空気
を吸引し、天井のダクト６４及びＨＥＰΔフィルタ６６
を介してダウンフローを送出している。ここで、ＨＥＰ
Ａフィルタ５６から吹き出させるダウンフローの流速は
０．釦／Ｓとし、これにより前記シールエアの気流を乱
さないようにしている。又、ＨＥＰＡフィルタ６６から
吹き出されるダウンフローの流速は最大０．５ｍ／ｓ　
　とし、奥側のダウンフローよりも若干速くし、有害ガ
スがキャリアの操作用窓からクリーンルームに逃げるの
を防止している。

一方、ドラフトチャンバの背面には、第４図及び第５図
に示すように排気用のダクト７２．７４が設けられ、更
に薬液槽２０．２４が設けられている部分には前記吹出
口４８Ａ、４８Ｂに略対向する位置に吸気ロアロＡを有
するダクト７６が設けられている（第１図及び第４図参
照）。又、リンス槽２２．２６には、第５図に示すよう
にダクト７４に連通するダクト７８が設けられている。

尚、ダクト７２．７４及び７８の吸気口にはそれぞれダ
ンパ７２Ａ、７４Ａ及び７８Δが設けられている。

これらのダクトは順次合流し、第２図に示すように排気
管８０に接続される。尚、この排気管８０には排気ファ
ン（図示せず）が配設されている。

又、９０はコントロールユニット、９２は蛍光灯、９４
は溶液用フィルタである。

前記の如く構成された本発明に係るドラフトチャンバに
よれば薬液槽２０．２４から発生する有害ガスは、吹き
出し口４８Ａ、４８Ｂからガイドダクト７６の吸気ロア
ロＡに向かう略水平方向のシールエアによってシールさ
れ、このシール外に流出した有害ガスはＨＥＰＡフィル
タ５６及び６６から送出される２層のダウンフローによ
ってその拡散が防止される。

尚、本実施例では前後２層のダウンフローをそれぞれ別
々の給気ファンによって発生するようにしたが、これに
限らず１台の給気ファンから発生する空気流を所要風量
（風速）となるように分岐させて２層のダウンフローを
発生させるようにしてもよい。また、キャリヤの搬送な
ど科学処理操作を完全に自動化した装置にあっては前面
操作扉は開けないので、天井からの空気流を総合しても
よい。そのため送気ファン、ＨＥＰＡフィルタを各１個
を使用する構成にしてもよい。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明に係るドラフトチャンバによ
れば、略水平方向のシールエアと天井からのダウンフロ
ーによって薬液槽から発生するを害ガスを効率良くその
拡散を防止するようにしたため、従来のドラフトチャン
バの約１７３　の排風量でよくなりファン駆動のための
動力を小さくすることができると共に、クリーンルーム
内の空調された清浄空気を大量に排出することがなくな
るという利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るドラフトチャンバの一実施例を示
す正面図、第２図は第１図に於けるＡ−Ａ線に沿う断面
図、第３図は第１図に於けるＢ−Ｂ線に沿う断面図、第
４図は第１図に於けるＣ−Ｃ線に沿う断面図、第５図は
第１図に於けるＤ−Ｄ線に沿う断面図である。 １２・・・透明引戸、　　１４・・・キャリア供給用小
引戸、　　１６・・・キャリア取出用小引戸、　　２０
．２４・・・薬液槽、　　２２．２６・・・リンス槽、
　３０・・・キャリア搬送装置、　　４０・・・シール
エアファン、４４．５６．６６・・・ＨＥＰＡフィルタ
、　　４６．４８．５４．６４．７２．７４．７６．７
８・・・ダクト、　５０・・・第１給気フアン、　６０
・・・第２給気フアン。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）クリーンルーム内に設置され、複数の液槽を有す
   ると共に前面にキャリアの操作用窓を有し、前記液槽に
   キャリアを順次浸漬する処理を行うためのドラフトチャ
   ンバにおいて、 前記液槽のうち少なくとも有害ガスを発生する薬液槽の
   液面上方でドラフトチャンバの前方から後方に向かう略
   水平方向の第１の空気流を発生する第１の空気流発生手
   段と、 前記ドラフトチャンバの天井から下方に向かう第２の空
   気流を発生する第２の空気流発生手段と、を備え、前記
   薬液槽から発生する有害ガスのクリーンルームへの漏出
   を防止することを特徴とするドラフトチャンバ。 （２）前記浸漬処理の対象がシリコンウエハである特許
   請求の範囲第（１）項記載のドラフトチャンバ。 （３）前記第１の空気流発生手段は、上下２層流で、下
   段の空気流の流速が上段の空気流の流速よりも遅い空気
   流を発生する特許請求を範囲第（１）項記載のドラフト
   チャンバ。（４）前記上段の空気流の流速は１ｍ／ｓ程
   度であり、下段の空気流の流速は０．２ｍ／ｓ程度とす
   ることを特徴とする特許請求の範囲第（３）項記載のド
   ラフトチャンバ。 （５）前記第２の空気流発生手段は、前記液槽の略真上
   と前記操作用窓とを流れる内外２層流で、内側の空気流
   の流速が外側の空気流の流速よりも遅い空気流を発生す
   る特許請求の範囲第（１）項記載のドラフトチャンバ。 （６）前記内側の空気流の流速は０．３ｍ／ｓ程度であ
   り、外側の空気流の流速は０．５ｍ／ｓ程度であること
   を特徴とする特許請求の範囲第（５）項記載のドラフト
   チャンバ。