JPS63251936A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS63251936A JPS63251936A JP62086028A JP8602887A JPS63251936A JP S63251936 A JPS63251936 A JP S63251936A JP 62086028 A JP62086028 A JP 62086028A JP 8602887 A JP8602887 A JP 8602887A JP S63251936 A JPS63251936 A JP S63251936A
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- Japan
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- film
- magnetic recording
- sputtering
- moving
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒
体の製造方法に関するものである。
体の製造方法に関するものである。
従来の技術
近年、磁気記録の高密度化の進歩は著しいものがあり、
磁気ヘッド・磁気記録媒体の組み合わせに新しい技術開
発を必要とするに至っている。即ち、記録単位が小さく
なるにつれて、磁束量が減少することから、磁束微分形
の記録再生の実用水準の０７Ｎを保持するのに、高い磁
束密度をもった材料の活用が不可欠となってきている〔
特公昭５Ｂ−９１号公報、特開昭６１−１３９９１９号
公報〕。かかる磁気記録媒体は、回転支持体で冷却しな
がらポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム等の高
分子フィルム上に電子ビーム蒸着法。
磁気ヘッド・磁気記録媒体の組み合わせに新しい技術開
発を必要とするに至っている。即ち、記録単位が小さく
なるにつれて、磁束量が減少することから、磁束微分形
の記録再生の実用水準の０７Ｎを保持するのに、高い磁
束密度をもった材料の活用が不可欠となってきている〔
特公昭５Ｂ−９１号公報、特開昭６１−１３９９１９号
公報〕。かかる磁気記録媒体は、回転支持体で冷却しな
がらポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム等の高
分子フィルム上に電子ビーム蒸着法。
イオンブレーティング法、スパッタリング法等で強磁性
金属薄膜を形成することによって得られるものである〔
特公昭６１−４７２２１号公報、特開昭５７−２１０４
５２号公報、特開昭６０−５９５３４号公報、特開昭６
１−２４０４３７号公報〕。
金属薄膜を形成することによって得られるものである〔
特公昭６１−４７２２１号公報、特開昭５７−２１０４
５２号公報、特開昭６０−５９５３４号公報、特開昭６
１−２４０４３７号公報〕。
磁気記録媒体のうち、磁気テープの製造は電子ビーム蒸
着法、磁気ディスクの製造はスパッタ法が中心に検討さ
れている。又スパッタリング法としては、ＲＦマグネト
ロン放電、ＤＣマグネトロン放電、対向ターゲット型等
の応用が検討されている〔例えば特開昭６１−２６３６
３６〜２６３６３８号公報〕。
着法、磁気ディスクの製造はスパッタ法が中心に検討さ
れている。又スパッタリング法としては、ＲＦマグネト
ロン放電、ＤＣマグネトロン放電、対向ターゲット型等
の応用が検討されている〔例えば特開昭６１−２６３６
３６〜２６３６３８号公報〕。
第２図はスパッタリング法を応用した場合の磁気記録媒
体製造装置の要部構成図である。第２図で１は高分子フ
ィルム、２は回転支持体、３は巻出し軸、４は巻取り軸
、５は強磁性合金の板状ターゲットで、６は磁界発生器
、７は真空槽、８は真空排気系、９はフリーローラーで
ある。ターゲットに切り込みを入れて、磁界の洩れを増
大させてスパッタ速度を早める等の工夫もみられるが、
一定の時間で二ロージッンと呼ばれる、スパッタリング
の集中する領域が生じるので、スパッタ速度の変化に対
して条件の調整が微妙に行われているのが実状である。
体製造装置の要部構成図である。第２図で１は高分子フ
ィルム、２は回転支持体、３は巻出し軸、４は巻取り軸
、５は強磁性合金の板状ターゲットで、６は磁界発生器
、７は真空槽、８は真空排気系、９はフリーローラーで
ある。ターゲットに切り込みを入れて、磁界の洩れを増
大させてスパッタ速度を早める等の工夫もみられるが、
一定の時間で二ロージッンと呼ばれる、スパッタリング
の集中する領域が生じるので、スパッタ速度の変化に対
して条件の調整が微妙に行われているのが実状である。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記した構成では、記録密度が増大してき
た時に、変調ノイズが場所により不均一になることがあ
り、改善が望まれていたのと、高速化にも限度がある点
、板状に加工できない材料が強磁性金属薄膜として用い
られない等の問題点もあり改善が望まれていた。
た時に、変調ノイズが場所により不均一になることがあ
り、改善が望まれていたのと、高速化にも限度がある点
、板状に加工できない材料が強磁性金属薄膜として用い
られない等の問題点もあり改善が望まれていた。
本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、高密度記
録再生特性（Ｃ／Ｎ）の良好でかつ均一な磁気記録媒体
を高速で製造することの出来る磁気記録媒体の製造方法
を提供するものである。
録再生特性（Ｃ／Ｎ）の良好でかつ均一な磁気記録媒体
を高速で製造することの出来る磁気記録媒体の製造方法
を提供するものである。
問題点を解決するための手段
上記した問題点を解決するため、本発明の磁気記録媒体
の製造方法は、移動する基板に強磁性金属薄膜をスパッ
タ蒸着する際、ターゲットが移動する蒸着膜で構成した
ものである。
の製造方法は、移動する基板に強磁性金属薄膜をスパッ
タ蒸着する際、ターゲットが移動する蒸着膜で構成した
ものである。
作用
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記した構成によ
り、ターゲットの強磁性部が薄いために、電子トラップ
のための磁界が、変化せずかつ、強いため、均一に条件
を保てるのと、右速化が図れる。又、蒸着膜に構成元素
を個別に制御してとり込めばよいため、板に加工できな
い材料でも、スパッタターゲットとすることができるこ
とになる。
り、ターゲットの強磁性部が薄いために、電子トラップ
のための磁界が、変化せずかつ、強いため、均一に条件
を保てるのと、右速化が図れる。又、蒸着膜に構成元素
を個別に制御してとり込めばよいため、板に加工できな
い材料でも、スパッタターゲットとすることができるこ
とになる。
実施例
以下、図面を参照しながら、本発明の一実施例に係る磁
気記録媒体の製造方法について説明する。
気記録媒体の製造方法について説明する。
第１図は、本発明を実施するのに用いたスパッタ蒸着装
置の要部構成図である。第１図に於て、１０はポリエチ
レンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド等の
高分子フィルムで１１は回転支持体で１２はフィルムの
送り出し軸、１３は巻取り軸、１４はエンドレスターゲ
ットで、チタン箔や非磁性のステンレス箔などから構成
し高分子フィルムと対向する面に、強磁性金属薄膜を蒸
着したものである。１６は回転ローラ式のガス導入ノズ
ルで、１６．１７は蒸着材科人、Ｂで、１８は蒸発源容
器、１９は真空槽で上室２ｏと下室２１に分は上、下別
々に真空槽内部を排気するようにしたもので、図では２
２の真空排気系のみ示している。２３はかくへきてベル
トの一部とで、上。
置の要部構成図である。第１図に於て、１０はポリエチ
レンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド等の
高分子フィルムで１１は回転支持体で１２はフィルムの
送り出し軸、１３は巻取り軸、１４はエンドレスターゲ
ットで、チタン箔や非磁性のステンレス箔などから構成
し高分子フィルムと対向する面に、強磁性金属薄膜を蒸
着したものである。１６は回転ローラ式のガス導入ノズ
ルで、１６．１７は蒸着材科人、Ｂで、１８は蒸発源容
器、１９は真空槽で上室２ｏと下室２１に分は上、下別
々に真空槽内部を排気するようにしたもので、図では２
２の真空排気系のみ示している。２３はかくへきてベル
トの一部とで、上。
下室間の差圧保持を行えるようにしたものである。
２４．２５は回転ローラーで２６．２７は磁界発生器で
マグネトロン放電をスパッタリングに応用するためのも
のである。第１図で、回転支持体の直径を６０濡とし、
ベルトを厚み２６μｍのチタン箔で構成し、ム０ム１．
ムＯＡ２の長さを夫々２２備とし、回転支持体との至近
距離を５備として、磁界強度は、エンドレスベルト表面
で、１６Ｑ（Ｏｓ）とした。回転ローラ式のノズルは、
直径２眞の円筒を８等分して、ｏ、３φの孔を高分子フ
ィルムの幅方向に１６ケずつ配列したものを用いた。ス
パッタリングのやり方は一蒸着謙をチタン箔上にＯ，２
５μから１μｍの範囲に保つように、蒸着条件と、スパ
ッタリング条件を調整して行い、エンドレスベルトの周
速は１ ｍ／ｍ１ｎ一定とした。
マグネトロン放電をスパッタリングに応用するためのも
のである。第１図で、回転支持体の直径を６０濡とし、
ベルトを厚み２６μｍのチタン箔で構成し、ム０ム１．
ムＯＡ２の長さを夫々２２備とし、回転支持体との至近
距離を５備として、磁界強度は、エンドレスベルト表面
で、１６Ｑ（Ｏｓ）とした。回転ローラ式のノズルは、
直径２眞の円筒を８等分して、ｏ、３φの孔を高分子フ
ィルムの幅方向に１６ケずつ配列したものを用いた。ス
パッタリングのやり方は一蒸着謙をチタン箔上にＯ，２
５μから１μｍの範囲に保つように、蒸着条件と、スパ
ッタリング条件を調整して行い、エンドレスベルトの周
速は１ ｍ／ｍ１ｎ一定とした。
厚み１０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを
用い、その上に直径１００人のＡｌ２Ｏ３微粒子を、平
均１ｏシ（ｌ１ｍ）２配し、その表面に、ＣｏＮｉ（Ｎ
ｉ２０ｗｔ％）を０．１５μｍｘバッタ蒸着した。比較
例は、厚さ１０鵡の板状ターゲットを用い、ムｒガス圧
２Ｘ１０”（ＴＯｒｒ）で、１３．５６（ＭＨ２）の高
周波電力を１．６５（ＫＷ）投入したグロー放電に磁界
強度として３ｏ（０θ）を組み合わせたマグネトロン放
電によりスパッタ蒸着を行った。その時フィルムの送り
速度は４．２（ｍ／ｍ１ｎｌであった。一方実施例は、
人ｒ１０□＝１ｏ／１の混合気体を回転ローラ式ノズル
から導入し、４．５Ｘ１０ （Ｔｏｒｒ）で１３．５
６ （ＭＨｚ ）。
用い、その上に直径１００人のＡｌ２Ｏ３微粒子を、平
均１ｏシ（ｌ１ｍ）２配し、その表面に、ＣｏＮｉ（Ｎ
ｉ２０ｗｔ％）を０．１５μｍｘバッタ蒸着した。比較
例は、厚さ１０鵡の板状ターゲットを用い、ムｒガス圧
２Ｘ１０”（ＴＯｒｒ）で、１３．５６（ＭＨ２）の高
周波電力を１．６５（ＫＷ）投入したグロー放電に磁界
強度として３ｏ（０θ）を組み合わせたマグネトロン放
電によりスパッタ蒸着を行った。その時フィルムの送り
速度は４．２（ｍ／ｍ１ｎｌであった。一方実施例は、
人ｒ１０□＝１ｏ／１の混合気体を回転ローラ式ノズル
から導入し、４．５Ｘ１０ （Ｔｏｒｒ）で１３．５
６ （ＭＨｚ ）。
１．６５ ＫＷのマグネトロン放電により、スパッタ蒸
着を行った。フィルムの送り速度は７倍強の３゜ｒｎ
７ｍ ｉ ｎであった。
着を行った。フィルムの送り速度は７倍強の３゜ｒｎ
７ｍ ｉ ｎであった。
夫々に、パーフロロオクタン酸を４０人真空蒸着して、
８ミリ幅の磁気テープとして、市販の８ミリビデオ［”
ＶＸ−ｓｏｌ、机下電器製〕を改造して、記録波長を０
．６６μｍとした時の０７Ｍｆｔ比較した。実施例は比
較例に比べて３．９（ｄＢ）良好な０７Ｎを示しだ。こ
れは、雑音が改良されているためである。この両者比較
より、本発明は、高速性に優れ、Ｃ／Ｎにおいても良好
で、その有価値性が理解される。
８ミリ幅の磁気テープとして、市販の８ミリビデオ［”
ＶＸ−ｓｏｌ、机下電器製〕を改造して、記録波長を０
．６６μｍとした時の０７Ｍｆｔ比較した。実施例は比
較例に比べて３．９（ｄＢ）良好な０７Ｎを示しだ。こ
れは、雑音が改良されているためである。この両者比較
より、本発明は、高速性に優れ、Ｃ／Ｎにおいても良好
で、その有価値性が理解される。
又、本発明によれば、これまで良好な磁気特性を均一に
得られなかった。Ｃｏ−Ｂ（板状加工が出来ないのでス
パッタリング法ではＣＯ版板上Ｂのつぶをおいて実験室
的に小規模に行えるに過ぎなかった）についても、均一
な特性を高速で得られるのと、Ｃｏ−０ｒ、Ｇｏ−Ｗ、
ｃｏ−Ｔｉ等についても、高速化が図られ、面内、垂直
を問わずに利点を生かすことができるものである。
得られなかった。Ｃｏ−Ｂ（板状加工が出来ないのでス
パッタリング法ではＣＯ版板上Ｂのつぶをおいて実験室
的に小規模に行えるに過ぎなかった）についても、均一
な特性を高速で得られるのと、Ｃｏ−０ｒ、Ｇｏ−Ｗ、
ｃｏ−Ｔｉ等についても、高速化が図られ、面内、垂直
を問わずに利点を生かすことができるものである。
発明の効果
以上のように、本発明によれば、高密度磁気記録再生で
良好なＣ／Ｎを均一に、かつ高速で得られると共に従来
量産手段のなかった材料を薄膜化して、磁気記録に供す
ることができるといったすぐれた効果がある。
良好なＣ／Ｎを均一に、かつ高速で得られると共に従来
量産手段のなかった材料を薄膜化して、磁気記録に供す
ることができるといったすぐれた効果がある。
第１図は本発明の一実施例に係る磁気記録媒体の製造方
法を実施するのに用いたスパッタ蒸着装置の要部構成図
、第２図は従来のスパッタ蒸着装置の要部構成図である
。 １０・・・・・・高分子フィルム、１１・・・・・・回
転支持体、１４・・・・・・エンドレスターゲラ）、１
５・・・・・・ガス導入ノズル（回転ローラ式）。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名Ｔ４
−゛−エソｒレスターゲット １（Ｔ５−°−刀１人）ｉル 第２図
法を実施するのに用いたスパッタ蒸着装置の要部構成図
、第２図は従来のスパッタ蒸着装置の要部構成図である
。 １０・・・・・・高分子フィルム、１１・・・・・・回
転支持体、１４・・・・・・エンドレスターゲラ）、１
５・・・・・・ガス導入ノズル（回転ローラ式）。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名Ｔ４
−゛−エソｒレスターゲット １（Ｔ５−°−刀１人）ｉル 第２図
Claims (1)
- 移動する基板に強磁性金属薄膜をスパッタ蒸着する際、
ターゲットが、移動する蒸着膜であることを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62086028A JPS63251936A (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62086028A JPS63251936A (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63251936A true JPS63251936A (ja) | 1988-10-19 |
Family
ID=13875200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62086028A Pending JPS63251936A (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63251936A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60217531A (ja) * | 1984-04-12 | 1985-10-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1987
- 1987-04-08 JP JP62086028A patent/JPS63251936A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60217531A (ja) * | 1984-04-12 | 1985-10-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
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