JPS6325242A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［ＩＥ業上の利用分野］ この発明は、光ファイバ母材の製造方法に関するもので
、特に次の従来技術の項で述べる「透明ガラス棒とスー
ト堆積との組合せ方式」による製造方法に関するもので
あり、ＯＨ基による伝送損失の大幅低減を目的とするも
のである。

［従来の技術］ 透明ガラス棒とスート堆積との組合せ方式の、光ファイ
バ母材の製造方法について、筒中に説ＩＪ１する。

（１）第２図のように、透明なガラス棒からなる中心部
材１０を準備する。

これは後で光ファイバのコアとなるべきもので、たとえ
ば、 ■Ｇｅドープシリカ、 ■純粋シリカ、 ■微量のＦドープシリカ。

などからなる。

また、第３図のように、後にコアとなるべき部分１２と
、クラ−、ドとなるべき部分の一部１４゜とからなるも
のもある。

この中心部材ｌＯは、たとえばＶＡＤ法などにより作製
する。

（２）中心部材１０の周囲にスートを堆積する。

第４図は、その状況を示し、１６はダミーガラス棒、１
８はバーナ、２０はスートである。

スート２０は、後でクラッドとなるべきものである。

（３）次に堆積したスート２０を加熱して、全体に透明
なガラス棒（プリフォーム）を得る。

（４）必要に応じて、上記の（２）　（３）の工程を繰
返す。

［発明が解決しようとする間ｍ点］ 中心部材１０の表面は、ゴミなどにより汚れている。そ
れをそのまま使用して、その上にスートを堆積させると
、焼結後に気泡が生じ、損失増の原因になる。

ゴミを除去する手段として、酸水素炎でファイヤポリッ
シュする方法が知られている。

しかしこの方法では、中心部材１０の内部にＯＨ５基を
拡散させてしまい、かえって損失を増加させる。第５図
に、その場合の中心部材１０のＯＨ基濃度分布を示す。

［問題点を解決するための手段］ この発明は、水素を含まない燃焼ガスの火炎によって、
前記中心部材１０の表面をファイヤポリッシュすること
によって、上記の問題の解決を図ったものである。

［その説明コ 第１図に、ファイヤポリッシュの状況を模型的に示した
。

２２はガラス旋盤、２４はバーナ、２６は燃焼ガス、２
８は酸素ガス、３０は火炎である。

このファイヤポリッシュは、Ｈ２濃度の極めて小さい、
清冷な、湿気の少ない雰囲気３２内で実旅することが望
ましい。

その理由は、雰囲気３２中にＨ２が含まれていると、燃
焼中の熱で、Ｈ２が中心部材ｌＯの内部に拡散して、損
失増の原因になるからである。

Ｈを含まない燃焼ガスの例としては、ＣＯやＣ５２があ
る。これらは、燃焼時に、 ｃｏ＋１７２０２→Ｃ０２ Ｃ５２＋３０２→ＣＯ２＋２Ｓ０２ のように、Ｈ２Ｏを発生させないので、Ｈ２またはＯＨ
基の拡散が生じない。

［実施例］ 中心部材にＷＡＤ法で作ったガラス棒を用い、本発明の
方法により母材を作り、それから光ファイバを製作した
ところ、ＯＨ基吸収による損失のピーク（波長λ＝　１
．３８μ量）は、１ｄＢ／ｋｍ以下であり、波長入＝　
　１．５５ル■では、０．２　ｄＢ／に層以下という、
低損失のものが得られた。

［発明の効果］ 燃焼時にＨ２Ｏが発生しない燃焼ガスを使用しているの
で、ＯＨ基の拡散がなく、ＯＨによる損失増がない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の詳細な説明図、 第２図と第３図は中心部材１０の説’Ｊ１図、第４図は
中心部材１０上にスー）２０を堆積する状況の説明図、 第５図は中心部材の表面を酸水素炎でファイヤポリッシ
ュしたときの、中心部材の０Ｈｃｉ度分布図。 ｌＯ：中心部材 １２：コアとなるべき部分 １４：クラッドとなるべき部分

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）円柱状の透明ガラス棒を中心部材として準備し、
   その周囲にスートを堆積させる工程を含む光ファイバ母
   材の製造方法において、 前記スートの堆積前に、水素を含まない燃焼ガスの火炎
   により、前記中心部材の表面をファイヤポリッシュする
   ことを特徴とする、光ファイバ母材の製造方法。
2. （２）燃焼ガスが、ＣＯであることを特徴とする、特許
   請求の範囲第１項に記載の光ファイバ母材の製造方法。
3. （３）燃焼ガスが、ＣＳ＿２であることを特徴とする、
   特許請求の範囲第１項に記載の光ファイバ母材の製造方
   法。