JPS63255930A - Semiconductor device - Google Patents
Semiconductor deviceInfo
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- JPS63255930A JPS63255930A JP62091282A JP9128287A JPS63255930A JP S63255930 A JPS63255930 A JP S63255930A JP 62091282 A JP62091282 A JP 62091282A JP 9128287 A JP9128287 A JP 9128287A JP S63255930 A JPS63255930 A JP S63255930A
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- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体チップがパッケージにマウントされた半
導体装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor device in which a semiconductor chip is mounted in a package.
半導体装置は集積回路を形成した半導体チップとそのパ
ッケージからなり、パッケージとしては、セラミックス
製のものやモールドした樹脂製のものが知られている。A semiconductor device consists of a semiconductor chip forming an integrated circuit and its package, and packages made of ceramics or molded resin are known.
そして、セラミックス製パッケージを用いたものでは、
パッケージに印刷、焼成して形成されたメタル電極と半
導体チップのパッドが、ワイヤボンディング法あるいは
フリップチップボンディング法により接続される。And, for those using ceramic packages,
Metal electrodes formed by printing and firing on the package and pads of the semiconductor chip are connected by wire bonding or flip chip bonding.
かかる従来の半導体装置を第4図に示す。同図(a>の
半導体装置はワイヤボンディング法に係るもので、セラ
ミックス板が積層されて形成されたパッケージ1と、パ
ッケージ1の略中心部に形成された凹部3にマウントさ
れる半導体チップ2とを涌えている。セラミックパッケ
ージ1の凹部3の周辺は段状に高くなってあり、この段
部上面にメタル電極4がパターン形成されており、メタ
ル電極4はパッケージ1の外側面に沿って延びる外部端
子5aに接続されている。半導体チップ2は集積回路が
形成された回路形成面が上方に位置するようにパッケー
ジ1の凹部3上にマウント(ダイポンド)され、回路形
成面の端部の電極パッド5bとパッケージ1のメタル電
極4とかホンディングワイヤ6で接続され、半導体装置
が組み立てられる。Such a conventional semiconductor device is shown in FIG. The semiconductor device shown in the same figure (a>) is related to the wire bonding method, and includes a package 1 formed by laminating ceramic plates, and a semiconductor chip 2 mounted in a recess 3 formed approximately at the center of the package 1. The periphery of the recess 3 of the ceramic package 1 is raised in a stepped manner, and a metal electrode 4 is patterned on the upper surface of this step, and the metal electrode 4 extends along the outer surface of the package 1. The semiconductor chip 2 is mounted (die mounted) on the recess 3 of the package 1 so that the circuit formation surface on which the integrated circuit is formed is located upward, and the semiconductor chip 2 is mounted (die mounted) on the recess 3 of the package 1, and the electrodes at the ends of the circuit formation surface are connected to the external terminals 5a. The pad 5b is connected to the metal electrode 4 of the package 1 or the bonding wire 6, and a semiconductor device is assembled.
この第4図(a>の半導体装置では、半導体チップ2の
パッド5bとパッケージ1のメタル電極4の接続部(ワ
イヤポンディング部)が上面に現れている。従って、接
続の状態は容易に確認することができ、テスタ等を用い
て電気特性を検査することも容易である。In the semiconductor device shown in FIG. 4 (a), the connection part (wire bonding part) between the pad 5b of the semiconductor chip 2 and the metal electrode 4 of the package 1 is exposed on the top surface. Therefore, the state of the connection can be easily confirmed. It is also easy to inspect the electrical characteristics using a tester or the like.
しかしながら、第4図(a)に図示する従来装置では、
半導体デツプ2とメタル電極4の接続がポンディングワ
イヤ6でなされているため、インダクタンス(L)分が
現れて高周波特性が悪くなる。従って、高周波領域での
インピーダンスマツチングをとることが難しくなるので
、Qa Asの如き化合物半導体を用いた高速・高周波
デバイスには適さない。However, in the conventional device shown in FIG. 4(a),
Since the semiconductor depth 2 and the metal electrode 4 are connected by the bonding wire 6, an inductance (L) appears and the high frequency characteristics deteriorate. Therefore, it becomes difficult to achieve impedance matching in a high frequency range, and therefore it is not suitable for high speed/high frequency devices using compound semiconductors such as QaAs.
一方、第4図(b)に図示する半導体装置は、いわゆる
フリップチップタイプであり、上面にメタル電極4が形
成された基板7上に、回路形成面が下方に位置するよう
に反転された半導体チップ2が載置されている。半導体
チップ2のパッド5bにはあらかじめ半田バンプ8が形
成されており、この半田バンプ8を熱溶融させて基板7
のメタル電極4とのボンディングが行われる。On the other hand, the semiconductor device shown in FIG. 4(b) is a so-called flip-chip type semiconductor device, in which a semiconductor device is placed on a substrate 7 on which a metal electrode 4 is formed on the upper surface, and is inverted so that the circuit formation surface is located downward. Chip 2 is placed. Solder bumps 8 are formed in advance on the pads 5b of the semiconductor chip 2, and the solder bumps 8 are thermally melted to form the substrate 7.
Bonding with the metal electrode 4 is performed.
この第4図(b)に図示の従来装置においては、半導体
チップ2とメタル電極4の接続が半田バンプ8を介して
直接になされているため、寄生の1分が少なくなり、高
周波特性が良好である。しかしながら、回路形成面が下
方に位置するように半導体チップ2が反転されるため、
ホンディングの際に目視チェックができず、半導体チッ
プ2の位置合わせが困難となっている。また、ホンディ
ング後における検査が不可能となっている。さらに回路
形成面が下方に位置することからチップを塁仮にタイボ
ンドできず、放熱性も劣る問題点がある。In the conventional device shown in FIG. 4(b), since the semiconductor chip 2 and the metal electrode 4 are directly connected via the solder bumps 8, parasitics are reduced by 1 minute, and high frequency characteristics are good. It is. However, since the semiconductor chip 2 is turned over so that the circuit formation surface is located downward,
Visual checking is not possible during bonding, making it difficult to align the semiconductor chip 2. In addition, inspection after hoarding is not possible. Furthermore, since the circuit formation surface is located at the bottom, the chip cannot be tied-bonded to the base, and there are also problems in that heat dissipation is poor.
そこで本発明は、高周波特性が良好で、しかもボンディ
ングおよび検査等の際にチップと基板の接続部を目視で
きる半導体装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor device which has good high frequency characteristics and allows the connecting portion between a chip and a substrate to be visually observed during bonding, inspection, and the like.
[問題点を解決するための手段〕
本発明に係る半導体装置は、集積回路が形成された回路
形成面が上方に位置するようにパッケージの凹部に半導
体チップをマウントし、パッケージのメタル電極と半導
体チップのパッドとを接続するために、導電路が下面に
形成されると共に半導体チップの覗き窓が形成された絶
縁板を用いたことを特徴とする。[Means for Solving the Problems] In the semiconductor device according to the present invention, a semiconductor chip is mounted in a recessed part of a package so that the circuit formation surface on which an integrated circuit is formed is located upward, and the metal electrode of the package and the semiconductor The present invention is characterized in that an insulating plate is used in which a conductive path is formed on the lower surface and a viewing window for the semiconductor chip is formed in order to connect the pads of the chip.
(作用〕
本発明に係る半導体装置は、以上の通りに構成されるの
で、絶縁板は半導体チップのパッドとパッケージのメタ
ル電極とを接続すると共に、ボンディングの目視チェッ
クが可能なように作用する。(Function) Since the semiconductor device according to the present invention is configured as described above, the insulating plate connects the pads of the semiconductor chip and the metal electrodes of the package, and also functions to enable visual checking of bonding.
[実施例]
以下、添付図面を参照して、本発明のいくつかの実施例
を説明する。[Embodiments] Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
第1図は本発明に係る半導体装置の断面図であり、同図
(b)は同図(a>に比べて半導体チップ20が肉厚と
なったものを示している。第2図(a)、(b)は第1
図に示す絶縁板30の底面図および平面図でおり、同図
(c)、(d>はその実装工程を示す平面図である。そ
して、第3図は組み立てられた半導体装置の斜視図であ
る。FIG. 1 is a cross-sectional view of a semiconductor device according to the present invention, and FIG. ), (b) is the first
FIG. 3 is a bottom view and a plan view of the insulating plate 30 shown in the figure, and FIGS. be.
図示の通り、セラミック板が積層されて形成されたパッ
ケージ10と、パッケージ10にマウントされる半導体
チップ20と、半導体チップ20を覆う絶縁板30とに
よって半導体装置が構成されている。パッケージ10は
半導体チップ20のマウント用の凹部11が略中央部分
に形成され、この凹部11の周辺に段状に高くなる段部
12゜13が形成されるようにセラミック板が積層され
ている。As shown in the figure, a semiconductor device includes a package 10 formed by stacking ceramic plates, a semiconductor chip 20 mounted on the package 10, and an insulating plate 30 covering the semiconductor chip 20. In the package 10, a recess 11 for mounting a semiconductor chip 20 is formed approximately in the center, and ceramic plates are stacked so that stepped parts 12 and 13 are formed around the recess 11.
ここで、段部12の上面にはメタル電極14が印刷、焼
成等によってパターン形成されると共に、パッケージ1
0の外側面には外部端子15が同様に形成され、この外
部端子15とメタル電極14は互いに電気的に接続され
ている。Here, a metal electrode 14 is patterned on the upper surface of the stepped portion 12 by printing, baking, etc., and the package 1
An external terminal 15 is similarly formed on the outer surface of 0, and the external terminal 15 and metal electrode 14 are electrically connected to each other.
半導体チップ20は集積回路が形成された回路形成面を
有し、その反対面でパッケージ10の凹部11上にAn
5n合金等によってマウントされている。このマウン
トに際しては、半導体チップ20の回路形成面が上方に
位置するように凹部11内にセットされる。The semiconductor chip 20 has a circuit formation surface on which an integrated circuit is formed, and an anode is formed on the recess 11 of the package 10 on the opposite surface.
It is mounted using 5n alloy or the like. During this mounting, the semiconductor chip 20 is set in the recess 11 so that the circuit forming surface thereof is located upward.
絶縁板30はセラミックスなどの絶縁材からなり、これ
が矩形平板状に成形され、下面には導電路31が形成さ
れると共に中央には覗き窓32が開口されている。導電
路31は第2図(a>に示すように、覗き窓32から外
方に放射状に延びるようにパターン形成されている。後
)ホするようにこの導電路31は、半導体チップ20の
パッド21とパッケージ]Oのメタル電極14とを接続
するものである。また、覗き窓32は上方から半導体チ
ップ20を目視するものである。The insulating plate 30 is made of an insulating material such as ceramics, and is formed into a rectangular flat plate, with a conductive path 31 formed on the lower surface and a viewing window 32 opened in the center. The conductive path 31 is patterned to extend radially outward from the viewing window 32 as shown in FIG. 21 and the metal electrode 14 of the package]O. Further, the viewing window 32 is used to visually observe the semiconductor chip 20 from above.
覗き窓32の形状および大きさは、第2図(c>、(d
)に示すように、好ましくは半導体チップ20の回路形
成面のパッド21が見えるように形成される。これによ
り、ボンディング時における絶縁板30の位置決めと、
ボンディング後における検査のための接触針の挿入等が
可能となっている。また、絶縁板30の上面全体は第2
図(b)のように金属からなるシールド膜33が被覆さ
れている。この金属性シールド膜33の被覆により、下
面の導電路31との間でマイクロ・ストップストリップ
線路が形成されるよう作用するので、高周波特性が大幅
に改善される。The shape and size of the viewing window 32 are shown in FIG.
), it is preferably formed so that the pads 21 on the circuit forming surface of the semiconductor chip 20 are visible. This allows positioning of the insulating plate 30 during bonding,
It is possible to insert a contact needle for inspection after bonding. Further, the entire upper surface of the insulating plate 30 is
As shown in Figure (b), a shield film 33 made of metal is coated. The coating with the metallic shielding film 33 acts to form a micro-stop strip line between the conductive path 31 on the lower surface, and thus the high frequency characteristics are greatly improved.
次に、以上の実施例の組み立て工程を説明する。Next, the assembly process of the above embodiment will be explained.
まず、メタル電極の材料をセラミックス板に印刷しなが
ら、焼成して積層することにより、第1図および第2図
の如きセラミックス製のパッケージを製造する。次に、
第2図(C)のように集積回路の形成面が上方に位置す
るよう、半導体チップ20をパッケージ10の凹部11
にダイボンドする。First, a ceramic package as shown in FIGS. 1 and 2 is manufactured by printing a metal electrode material on a ceramic plate and then firing and laminating the materials. next,
The semiconductor chip 20 is placed in the recess 11 of the package 10 so that the surface on which the integrated circuit is formed is located upward as shown in FIG. 2(C).
Die bond to.
次に、第2図(d)のにように、導電路31が半導体チ
ップ20のパッド21とパッケージ10のメタル電極1
4とに掛は渡されるよう、絶縁板30を半導体チップ2
0.1よびパッケージ10の段部12上に載置する。こ
の場合においては、絶縁板30の覗き窓32から半導体
チップ20を目視することができるので、絶縁板30を
正確かつ容易に位置決めすることができる。そして、絶
縁板30を介して接続部を加熱すると、導電路3]と半
導体デツプ20のパッド21、導電路31とパッケージ
10のメタル電極14とが溶融結合し、半導体装置の組
立てが終了する。Next, as shown in FIG. 2(d), the conductive path 31 is connected to the pad 21 of the semiconductor chip 20 and the metal electrode 1 of the package 10.
4 and the semiconductor chip 2 so that the insulating plate 30 is passed between
0.1 and placed on the stepped portion 12 of the package 10. In this case, since the semiconductor chip 20 can be visually observed through the viewing window 32 of the insulating plate 30, the insulating plate 30 can be accurately and easily positioned. Then, when the connection portion is heated through the insulating plate 30, the conductive path 3] and the pad 21 of the semiconductor depth 20, and the conductive path 31 and the metal electrode 14 of the package 10 are melted and bonded, and the assembly of the semiconductor device is completed.
なあ、かかる結合の際に半田が流れたりしないようにす
るため、導電路31、パッド21、メタル電極14には
半田ダム(図示せず。)があらかじめ形成されている。Incidentally, in order to prevent solder from flowing during such bonding, solder dams (not shown) are formed in advance on the conductive paths 31, pads 21, and metal electrodes 14.
以上のように組み立てが終了した半導体装置は、覗き窓
32からボンディング状態を目視によって検査できる。After the semiconductor device has been assembled as described above, the bonding state can be visually inspected through the viewing window 32.
また、覗き窓32を介して接触針を立てて電気特性の検
査上行なうことができる。ざらに、ダイボンドされた半
導体チップの裏面を介してパッケージに放熱が行われる
ので、安定した作動が可能となる。さらにまた、絶縁板
30の上面にシールド膜33が被覆され、下面の導電路
31との間でマイクロ・ストリップ線路が形成されるよ
うになっているので、高周波特性が向上する。従って、
Ga 、Asの如き化合物半導体によるGHzオーダー
の高速、高周波デバイスに特に適している。Furthermore, electrical characteristics can be inspected by placing a contact needle through the viewing window 32. Generally speaking, heat is radiated to the package through the back surface of the die-bonded semiconductor chip, allowing stable operation. Furthermore, the shield film 33 is coated on the upper surface of the insulating plate 30, and a microstrip line is formed between it and the conductive path 31 on the lower surface, so that high frequency characteristics are improved. Therefore,
It is particularly suitable for high-speed, high-frequency devices on the order of GHz using compound semiconductors such as Ga and As.
本発明は上記例に限定されるものでなく、種々の変形が
可能である。The present invention is not limited to the above example, and various modifications are possible.
例えば、絶縁板の上面にはシールド膜を形成しなくても
よく、覗き窓を2以上形成してもよい。For example, it is not necessary to form a shield film on the upper surface of the insulating plate, and two or more viewing windows may be formed.
また、絶縁板のm1面形状は半導体チップの厚さとパッ
ケージの凹部の深さの相対的関係に応じて、適宜に変更
することができる。Further, the shape of the m1 plane of the insulating plate can be changed as appropriate depending on the relative relationship between the thickness of the semiconductor chip and the depth of the recess of the package.
(発明の効果)
以上、詳細に説明した通り本発明に係る半導体装置は、
絶縁板の覗き窓によって半導体チップの目視が可能とな
るので、ホンディング時の位置決めが容易となり、ポン
ディング後の検査も可能となる効果がある。また、ワイ
ヤボンディングによるものに比べて高周波特性を向上さ
せることができ、絶縁板の上面にシールド膜を形成する
と更に高周波特性を向上させることができる。(Effects of the Invention) As described above in detail, the semiconductor device according to the present invention has the following features:
Since the viewing window of the insulating plate allows the semiconductor chip to be visually observed, positioning during bonding becomes easy and inspection after bonding becomes possible. Furthermore, the high frequency characteristics can be improved compared to the method using wire bonding, and the high frequency characteristics can be further improved by forming a shield film on the upper surface of the insulating plate.
第1図は本発明に係る半導体装置の実施例の断面図、第
2図は絶縁板の構造および半導体装置の実装工程の説明
図、第3図は実施例の半導体装置の斜視図、第4図は従
来装置の各側の側面図である。
10・・・パッケージ、11・・・凹部、14・・・メ
タル電極、15・・・外部端子、20・・・半導体チッ
プ、21・・・パッド、30・・・絶縁板、31・・・
導電路、32・・・覗き窓、33・・・シールド膜。
第1図
(a) (b)第
2 図
第3図FIG. 1 is a sectional view of an embodiment of a semiconductor device according to the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram of the structure of an insulating plate and the mounting process of the semiconductor device, FIG. 3 is a perspective view of the semiconductor device of the embodiment, and FIG. The figure is a side view of each side of the conventional device. DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Package, 11... Recessed part, 14... Metal electrode, 15... External terminal, 20... Semiconductor chip, 21... Pad, 30... Insulating plate, 31...
Conductive path, 32... Peep window, 33... Shield film. Figure 1 (a) (b)
2 Figure 3
Claims (1)
れると共に、凹部が略中心部に形成されたパッケージと
、 集積回路が形成された回路形成面が上方に位置するよう
に前記凹部に固設される半導体チップと、前記メタル電
極と前記半導体チップのパッドとを接続する導電路が下
面に形成されると共に、前記半導体チップの覗き窓が略
中心部に形成され、前記半導体チップの周辺部から前記
メタル電極の端部を覆うように前記パッケージ内に固設
される絶縁板と を備える半導体装置。 2、前記絶縁板の上面全体がシールド膜で被覆されてい
る特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。[Scope of Claims] 1. A package in which metal electrodes connected to external terminals are formed on the periphery and a recess is formed substantially in the center, and the circuit formation surface on which the integrated circuit is formed is located upward. A conductive path connecting the semiconductor chip fixedly installed in the recess, the metal electrode and the pad of the semiconductor chip is formed on the lower surface, and a viewing window of the semiconductor chip is formed approximately at the center. and an insulating plate fixedly installed within the package so as to cover the edge of the metal electrode from the periphery of the semiconductor chip. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the entire upper surface of the insulating plate is covered with a shielding film.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62091282A JPS63255930A (en) | 1987-04-14 | 1987-04-14 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62091282A JPS63255930A (en) | 1987-04-14 | 1987-04-14 | Semiconductor device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63255930A true JPS63255930A (en) | 1988-10-24 |
Family
ID=14022102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62091282A Pending JPS63255930A (en) | 1987-04-14 | 1987-04-14 | Semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63255930A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08124967A (en) * | 1994-10-21 | 1996-05-17 | Nec Corp | Semiconductor device |
-
1987
- 1987-04-14 JP JP62091282A patent/JPS63255930A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08124967A (en) * | 1994-10-21 | 1996-05-17 | Nec Corp | Semiconductor device |
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