JPS63259831A - 薄膜型磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
薄膜型磁気デイスクの製造方法Info
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- JPS63259831A JPS63259831A JP9382387A JP9382387A JPS63259831A JP S63259831 A JPS63259831 A JP S63259831A JP 9382387 A JP9382387 A JP 9382387A JP 9382387 A JP9382387 A JP 9382387A JP S63259831 A JPS63259831 A JP S63259831A
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- Japan
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- layer
- disk
- protective layer
- lubricating
- thin film
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- Pending
Links
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は薄膜型磁気ディスクの製造方法に関し、ざらに
詳しくは、基板面に下地層を介し、或は直接設けられた
磁性層の面に、面を覆って順次取付けられる保ＨＦｎお
よび潤滑層の取付は方法に関する。
詳しくは、基板面に下地層を介し、或は直接設けられた
磁性層の面に、面を覆って順次取付けられる保ＨＦｎお
よび潤滑層の取付は方法に関する。
磁気ディスク装置は］ンピコータシステムの記憶装置と
してその重要性が年々高まってきており、その記憶量増
大のため、記録密度の向上がはかられ、薄膜型磁気ディ
スクの開発が進められている。
してその重要性が年々高まってきており、その記憶量増
大のため、記録密度の向上がはかられ、薄膜型磁気ディ
スクの開発が進められている。
磁気ディスク（以下ディスクという）は磁気ヘッド（以
下ヘッドという）と組合わせて用いられるが、通常ＣＳ
Ｓ （Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）方式
が採用されている。これは、ディスクを回転させると、
それに伴う空気の流れによってヘッドが浮上し、ディス
クの回転を停止するとヘッドがディスク面に着陸する方
式である。したがって、ヘッドとディスク面とは滑り易
く、かつ離れ易く、ヘッドの浮上、着陸が容易で、非使
用時にはヘッドとディスク面とが長期間接触していても
、何等問題を起さないことが要求される。
下ヘッドという）と組合わせて用いられるが、通常ＣＳ
Ｓ （Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）方式
が採用されている。これは、ディスクを回転させると、
それに伴う空気の流れによってヘッドが浮上し、ディス
クの回転を停止するとヘッドがディスク面に着陸する方
式である。したがって、ヘッドとディスク面とは滑り易
く、かつ離れ易く、ヘッドの浮上、着陸が容易で、非使
用時にはヘッドとディスク面とが長期間接触していても
、何等問題を起さないことが要求される。
しかし、Ｃ８Ｓ方式を採用した場合、薄膜型ディスクは
、塗布型ディスクに比べて傷つぎ易く、ヘッドとディス
クの間の摩擦係数の上昇が早く、極端な場合にはディス
クの回転が困難となる。また、傷により正確な読み出し
ができなくなり、エラーの原因となることもある。その
ため、通常、最上層にスパッタリングによってカーボン
の保護層を設りているが、上記の問題を解決するに到ら
ず、薄膜型ディスクの耐久性の向上は、重要な課題とな
っており、これを目的とした多くの研究がなされている
。
、塗布型ディスクに比べて傷つぎ易く、ヘッドとディス
クの間の摩擦係数の上昇が早く、極端な場合にはディス
クの回転が困難となる。また、傷により正確な読み出し
ができなくなり、エラーの原因となることもある。その
ため、通常、最上層にスパッタリングによってカーボン
の保護層を設りているが、上記の問題を解決するに到ら
ず、薄膜型ディスクの耐久性の向上は、重要な課題とな
っており、これを目的とした多くの研究がなされている
。
その解決方法の一つに保１１ｉｆｆを覆って、さらに潤
滑層を設ける方法が検討されている。しかし、潤滑層を
設けることによってヘッドがディスク面に吸７４する、
いわゆるスディック現象が発生し易くなり、また、潤滑
性についても、充分な効果が発揮されていないのが現状
である 本発明者らは上記の問題を解決すべく、潤滑剤の塗布方
法について研究を重ねた結果、潤滑剤を塗布する前に、
保護層の表面が空気中の水分や炭化水素等を吸着し、潤
滑剤が均一塗布されなくなったり、潤滑剤の吸着が充分
に行なわないことが、潤滑性に悪影響を与える主原因で
あることを知見した。
滑層を設ける方法が検討されている。しかし、潤滑層を
設けることによってヘッドがディスク面に吸７４する、
いわゆるスディック現象が発生し易くなり、また、潤滑
性についても、充分な効果が発揮されていないのが現状
である 本発明者らは上記の問題を解決すべく、潤滑剤の塗布方
法について研究を重ねた結果、潤滑剤を塗布する前に、
保護層の表面が空気中の水分や炭化水素等を吸着し、潤
滑剤が均一塗布されなくなったり、潤滑剤の吸着が充分
に行なわないことが、潤滑性に悪影響を与える主原因で
あることを知見した。
本発明は上記の知見に基づいて達成されたちの′で、ヘ
ッドの浮上、着陸がスムームに行なわれ、長期にわたっ
て使用可能な薄膜型ディスクの製造方法を提供すること
を目的とする。
ッドの浮上、着陸がスムームに行なわれ、長期にわたっ
て使用可能な薄膜型ディスクの製造方法を提供すること
を目的とする。
本発明は上記の目的を達成すべくなされたもので、その
要旨は、磁性層を被覆して保護層および潤滑層を順次設
ける薄膜型磁気ディスクの製造方法において、保護層と
して、カーボン層をスパッタリングによって形成した後
、これを直ちに、フロン類の蒸気に接触させ、上記カー
ボン層にフロン類を吸着させた後、パーフルオロポリエ
ーテル類を塗布して潤滑層を形成する薄膜型磁気ディス
クの’Ｍ造方法にある。
要旨は、磁性層を被覆して保護層および潤滑層を順次設
ける薄膜型磁気ディスクの製造方法において、保護層と
して、カーボン層をスパッタリングによって形成した後
、これを直ちに、フロン類の蒸気に接触させ、上記カー
ボン層にフロン類を吸着させた後、パーフルオロポリエ
ーテル類を塗布して潤滑層を形成する薄膜型磁気ディス
クの’Ｍ造方法にある。
本発明の方法によってつくられた薄膜型ディスクは、最
外面に保護層に強固に含浸、吸着された潤滑層が形成さ
れているので、潤滑性は良好でスティック規象を発生せ
ず、ヘッドの浮上、着陸が容易で、摩擦係数の１胃もほ
とんどない。
外面に保護層に強固に含浸、吸着された潤滑層が形成さ
れているので、潤滑性は良好でスティック規象を発生せ
ず、ヘッドの浮上、着陸が容易で、摩擦係数の１胃もほ
とんどない。
本発明に用いられる潤滑剤としては、Ｆ−ＣＦ３
（０−０２ｒ ４ ） 、 ” （０−ＣＦ
２ ） 。
（０−０２ｒ ４ ） 、 ” （０−ＣＦ
２ ） 。
０ＣＦ２−ＯＣＦ３で代表されるパーフルオロポリエー
テル類である。このパーフルオロポリエーテル類の溶媒
として用いられるフロン類としては、フロン１１ （Ｃ
ＣＲｇ Ｆ） 、７Ｄ：／ ７１２（ＣＣ１２Ｆ−ＣＣ
９２Ｆ）、フロン１１３（ｃｃＲ２Ｆ・ＣＣｊＦ２）が
挙げられるが、沸点が４７．３℃で取扱い易く、かつ気
散させ易いことがらフロン１１３が好ましい。
テル類である。このパーフルオロポリエーテル類の溶媒
として用いられるフロン類としては、フロン１１ （Ｃ
ＣＲｇ Ｆ） 、７Ｄ：／ ７１２（ＣＣ１２Ｆ−ＣＣ
９２Ｆ）、フロン１１３（ｃｃＲ２Ｆ・ＣＣｊＦ２）が
挙げられるが、沸点が４７．３℃で取扱い易く、かつ気
散させ易いことがらフロン１１３が好ましい。
また、基板としては、アルミニウム合金版のドーナツ形
円板、或はこの基板に下地層としてＮ１−Ｐメッキを施
したもの等、通常磁気ディスクに用いるものがいずれも
使用できる。
円板、或はこの基板に下地層としてＮ１−Ｐメッキを施
したもの等、通常磁気ディスクに用いるものがいずれも
使用できる。
これより薄膜型ディスクを製造するには、上記基板面、
或は下地面に公知の方法によって磁性層を形成し、この
磁性層の面に、公知のスパッタリング法によってカーボ
ンよりなる保護層を形成ずる。この保護層を形成した後
、直ちにこれをフロン蒸気内に入れ、上記保護層にフロ
ン類を含浸、吸着させる。次いで、潤滑剤を塗布する。
或は下地面に公知の方法によって磁性層を形成し、この
磁性層の面に、公知のスパッタリング法によってカーボ
ンよりなる保護層を形成ずる。この保護層を形成した後
、直ちにこれをフロン蒸気内に入れ、上記保護層にフロ
ン類を含浸、吸着させる。次いで、潤滑剤を塗布する。
この塗布の方法は制限ないが、上記溶媒に潤滑剤を溶解
した溶液をスピンコードするのが、均一塗布する上から
好ましい。
した溶液をスピンコードするのが、均一塗布する上から
好ましい。
上記操作によって、潤滑剤は、保護層の面を均一、かつ
強固に覆い、潤滑層／保護層／磁性層／基板、或は潤滑
Ｂ／保護層／Ｉｌ性竹屑下地層／基板よりなる薄膜型デ
ィスクが製造される。
強固に覆い、潤滑層／保護層／磁性層／基板、或は潤滑
Ｂ／保護層／Ｉｌ性竹屑下地層／基板よりなる薄膜型デ
ィスクが製造される。
実施例１
外径９５＃、内径２５ｍのドーナツ状円板のアルミニウ
ム合金基板にＮＬ−Ｐの無電解メッキを厚さ１５μ７ｎ
施した後、平均表面粗さを５０人に仕上げた。この仕上
げた面に、Ｃｒ２０００人＋Ｃｏ−ＮＬ−Ｃｒ ５００
人、 Ｃ４００人を順次スパッタリング法によってつ（
）、磁性層、保］？４を形成した。
ム合金基板にＮＬ−Ｐの無電解メッキを厚さ１５μ７ｎ
施した後、平均表面粗さを５０人に仕上げた。この仕上
げた面に、Ｃｒ２０００人＋Ｃｏ−ＮＬ−Ｃｒ ５００
人、 Ｃ４００人を順次スパッタリング法によってつ（
）、磁性層、保］？４を形成した。
このディスクをスパッタ機からとり出し、直ちにフロン
１１３（ＣＣＲ２ＦＣ−ＣＦ２Ｃｊ）（１）Ｋ５気相に
入れ、１０分間保持して降温した。次にパー７ルオロボ
リｉ−フル（例えばＨＯＮＴＥＦＬＵＯ３，Ｆｏｍｂｌ
ｉｎ■ｌ−２５） ０．０５９をフロン１１３１０
０ｄに溶かした液を片面当り１ｍｆ！スピンコードして
ディスクをつくった。これを試料Δとする。
１１３（ＣＣＲ２ＦＣ−ＣＦ２Ｃｊ）（１）Ｋ５気相に
入れ、１０分間保持して降温した。次にパー７ルオロボ
リｉ−フル（例えばＨＯＮＴＥＦＬＵＯ３，Ｆｏｍｂｌ
ｉｎ■ｌ−２５） ０．０５９をフロン１１３１０
０ｄに溶かした液を片面当り１ｍｆ！スピンコードして
ディスクをつくった。これを試料Δとする。
比較例１
スパッタ機から取出した後、フロン蒸気相に入れず、そ
のまま空気中で３０分間冷却した他は実施例１と同じに
してディスクを作成した。これを試料Ｂとづる。
のまま空気中で３０分間冷却した他は実施例１と同じに
してディスクを作成した。これを試料Ｂとづる。
上記試料Ａ、Ｂをそれぞれスピンドルにセットし、ヘッ
ドをロードして、ディスクの回転／停止を繰返し、ヘッ
ドとディスク間の摩擦係数μを測定した。その結果、試
料Ｂでは５００回の回転／停止によりμは０．１５〜０
．３０の間で振動し、５０００回では０．２０〜０６０
間で振動した。これは、潤滑剤の塗布が均一でなく、ま
た、保護層に対する密着性も充分でないため、スティッ
ク−スリップを起したものと思われる。−・方試料Ａで
は、１ｏｏｏｏ回の回転／停止の繰返し後のμが０，３
０〜０．４０の値を示し、以降この値を保持し、スティ
ック−スリップが発生しないことを示した。
ドをロードして、ディスクの回転／停止を繰返し、ヘッ
ドとディスク間の摩擦係数μを測定した。その結果、試
料Ｂでは５００回の回転／停止によりμは０．１５〜０
．３０の間で振動し、５０００回では０．２０〜０６０
間で振動した。これは、潤滑剤の塗布が均一でなく、ま
た、保護層に対する密着性も充分でないため、スティッ
ク−スリップを起したものと思われる。−・方試料Ａで
は、１ｏｏｏｏ回の回転／停止の繰返し後のμが０，３
０〜０．４０の値を示し、以降この値を保持し、スティ
ック−スリップが発生しないことを示した。
以上述べたように、本発明の方法によって、保護層面に
極めて強固、かつ均一に潤滑層を形成することが出来る
ので、スティック−スリップが発生せず、ヘッドのディ
スク面に対する浮上、着陸がスムースで、長期にわたっ
て潤滑剤の効果が保持され、耐久性のある薄膜型磁気デ
ィスクをつくることが出来る。
極めて強固、かつ均一に潤滑層を形成することが出来る
ので、スティック−スリップが発生せず、ヘッドのディ
スク面に対する浮上、着陸がスムースで、長期にわたっ
て潤滑剤の効果が保持され、耐久性のある薄膜型磁気デ
ィスクをつくることが出来る。
Claims (1)
- 磁性層を被覆して保護層および潤滑層を順次設ける薄膜
型磁気ディスクの製造方法において、保護層として、カ
ーボン層をスパッタリングによって形成した後、これを
直ちに、フロン類の蒸気に接触させ、上記カーボン層に
フロン類を吸着させた後、パーフルオロポリエーテル類
を塗布して潤滑層を形成することを特徴とする薄膜型磁
気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9382387A JPS63259831A (ja) | 1987-04-16 | 1987-04-16 | 薄膜型磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9382387A JPS63259831A (ja) | 1987-04-16 | 1987-04-16 | 薄膜型磁気デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63259831A true JPS63259831A (ja) | 1988-10-26 |
Family
ID=14093119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9382387A Pending JPS63259831A (ja) | 1987-04-16 | 1987-04-16 | 薄膜型磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63259831A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02128321A (ja) * | 1988-11-07 | 1990-05-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH03267178A (ja) * | 1990-03-16 | 1991-11-28 | Hitachi Ltd | 潤滑膜の形成方法及び磁気記録媒体の製造方法 |
-
1987
- 1987-04-16 JP JP9382387A patent/JPS63259831A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02128321A (ja) * | 1988-11-07 | 1990-05-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH03267178A (ja) * | 1990-03-16 | 1991-11-28 | Hitachi Ltd | 潤滑膜の形成方法及び磁気記録媒体の製造方法 |
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