JPH02128321A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH02128321A JPH02128321A JP63280789A JP28078988A JPH02128321A JP H02128321 A JPH02128321 A JP H02128321A JP 63280789 A JP63280789 A JP 63280789A JP 28078988 A JP28078988 A JP 28078988A JP H02128321 A JPH02128321 A JP H02128321A
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- Japan
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- recording medium
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体に関し、特に
、磁性層形成後に実用性能向上のため設ける保護層およ
びトップコート層の欠陥を大幅に減少せしめる磁気記録
媒体の製造方法および製造装置に関するものである。
、磁性層形成後に実用性能向上のため設ける保護層およ
びトップコート層の欠陥を大幅に減少せしめる磁気記録
媒体の製造方法および製造装置に関するものである。
従来の技術
Ｇｏ、Ｎｉ、Ｆｅまたはそれらを主成分とする合金を、
真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング
等の真空中での成膜法により、ポリイミドフィルム等の
高分子フィルムや非磁性金属などからなる基板上に形成
した強磁性金属薄膜型磁気記録媒体は、従来の塗布型磁
気記録媒体に比して記録密度を飛躍的に向上せしめるこ
とが可能である。
真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング
等の真空中での成膜法により、ポリイミドフィルム等の
高分子フィルムや非磁性金属などからなる基板上に形成
した強磁性金属薄膜型磁気記録媒体は、従来の塗布型磁
気記録媒体に比して記録密度を飛躍的に向上せしめるこ
とが可能である。
ところで、この高記碌密度化のための条件としては、記
録再生欠陥を極力減少させるとともに、磁気ヘッド、磁
気記録媒体間のスペーシングロスを極力減少せしめるこ
とが重要であり、また磁気記録としては耐久性をも兼ね
備えていることが必要である。従来これらの条件を満足
するために、磁性層形成後に保護層を形成しさらにトッ
プコート層として滑剤層を設けることが知られている。
録再生欠陥を極力減少させるとともに、磁気ヘッド、磁
気記録媒体間のスペーシングロスを極力減少せしめるこ
とが重要であり、また磁気記録としては耐久性をも兼ね
備えていることが必要である。従来これらの条件を満足
するために、磁性層形成後に保護層を形成しさらにトッ
プコート層として滑剤層を設けることが知られている。
第４図は従来のプラズマＣＶＤ法による保護膜と湿式塗
布法による滑剤層を形成した磁気記録媒体の断面を示し
、１は基板、２は真空成膜法により形成された強磁性体
金属薄膜層、３はバックコーティング層、４はプラズマ
ＣＶＤ法により形成された保護層、６は湿式塗布法によ
り形成された滑剤層である。
布法による滑剤層を形成した磁気記録媒体の断面を示し
、１は基板、２は真空成膜法により形成された強磁性体
金属薄膜層、３はバックコーティング層、４はプラズマ
ＣＶＤ法により形成された保護層、６は湿式塗布法によ
り形成された滑剤層である。
以下第４図および第６図を参照しながら、上述した従来
の磁気記録媒体の製造方法および製造装置の一例を説明
する。
の磁気記録媒体の製造方法および製造装置の一例を説明
する。
まず、第６図に基づいて、従来のプラズマＣＶＤ法によ
る保護層４を付与する装置について説明する。１０ａは
保護層４形成前の磁気記録媒体であり繰り出しローラ１
１に巻かれている。１２゜１４はパスローラであり、磁
気記録媒体１ｏの強磁性薄膜層２と接触し回転している
。１３は装置本体と絶縁されたメインローラで、前記強
磁性金属薄膜層２との間に電圧を印加し、密着させなが
ら搬送するものである。１６は巻きとりローラで、保護
層４を形成済の磁気記録媒体１ｏｂを連続的に巻き取っ
ている。１６はプラズマ発生用ノズル、１７は電極、１
８はガス導入口、１９はプラズマ用電源であり、これら
各種構成要素１６〜１９で保護層４形成のための処理ユ
ニットを形成する。
る保護層４を付与する装置について説明する。１０ａは
保護層４形成前の磁気記録媒体であり繰り出しローラ１
１に巻かれている。１２゜１４はパスローラであり、磁
気記録媒体１ｏの強磁性薄膜層２と接触し回転している
。１３は装置本体と絶縁されたメインローラで、前記強
磁性金属薄膜層２との間に電圧を印加し、密着させなが
ら搬送するものである。１６は巻きとりローラで、保護
層４を形成済の磁気記録媒体１ｏｂを連続的に巻き取っ
ている。１６はプラズマ発生用ノズル、１７は電極、１
８はガス導入口、１９はプラズマ用電源であり、これら
各種構成要素１６〜１９で保護層４形成のための処理ユ
ニットを形成する。
４０はバイアス用電源でありメインローラ１３と磁気記
録媒体１０の強磁性金属薄膜層２間に電圧を印加してお
り、プラズマ用電源１９とともに真空槽外に設けられて
いる。
録媒体１０の強磁性金属薄膜層２間に電圧を印加してお
り、プラズマ用電源１９とともに真空槽外に設けられて
いる。
続いて以上のように構成された装置を用いた従来のプラ
ズマＣＶＤ法による磁気記録媒体の製造方法について説
明する。
ズマＣＶＤ法による磁気記録媒体の製造方法について説
明する。
繰り出しローラ１１から繰り出された保護層４形成前の
磁気記録媒体１０１Ｌは、パスローラ１２を経たのち、
メインローラ１３と強磁性金属薄膜層２の間に電圧を印
加された状態で、メインローラ１３に密着して連続的に
送られる。一方保護層４形成用のプラズマのイオン電流
がガス導入口１８からの反応ガスとプラズマ用電源１９
からの印加電圧により発生しプラズマ用ノズル１６より
送られ磁気記録媒体１０ａの強磁性金属薄膜層２に到達
し、保護層４が形成される。そしてこの保護層４が形成
された磁気記録媒体１０ｂは、ノくスローラ１４を経て
、巻き取りローラ１６に巻きとられていく。
磁気記録媒体１０１Ｌは、パスローラ１２を経たのち、
メインローラ１３と強磁性金属薄膜層２の間に電圧を印
加された状態で、メインローラ１３に密着して連続的に
送られる。一方保護層４形成用のプラズマのイオン電流
がガス導入口１８からの反応ガスとプラズマ用電源１９
からの印加電圧により発生しプラズマ用ノズル１６より
送られ磁気記録媒体１０ａの強磁性金属薄膜層２に到達
し、保護層４が形成される。そしてこの保護層４が形成
された磁気記録媒体１０ｂは、ノくスローラ１４を経て
、巻き取りローラ１６に巻きとられていく。
前記プラズマＣＶＤ法により保護層４の形成された磁気
記録媒体は、プラズマＣＶＤ装置より一たん、装脱され
、湿式塗布装置にて滑剤層が形成される。
記録媒体は、プラズマＣＶＤ装置より一たん、装脱され
、湿式塗布装置にて滑剤層が形成される。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記従来の方法では、保護層４形成時にプ
ラズマ用ノズルよりもれた活性種、イオン等は磁気記録
媒体１０ａの強磁性金属薄膜層２に弱く付着し、巻き取
られたときにバックコーテイング面付着する。またノズ
ルよりもれた活性種。
ラズマ用ノズルよりもれた活性種、イオン等は磁気記録
媒体１０ａの強磁性金属薄膜層２に弱く付着し、巻き取
られたときにバックコーテイング面付着する。またノズ
ルよりもれた活性種。
イオン等は真空槽全体に飛散し、磁気記録媒体に付着す
る。この付着物は磁気記録媒体との付着力が弱く、滑剤
層形成後の巻取時、またＶＴＲによる走行時にも、転写
、欠落を起こし、特にＶＴＲでの再生時にはこの付着物
がヘッドにも付着し、出力変動を起こすのみでなくヘッ
ド目づまシをも発生させ、磁気記録媒体として重大な欠
陥を有することとなる。
る。この付着物は磁気記録媒体との付着力が弱く、滑剤
層形成後の巻取時、またＶＴＲによる走行時にも、転写
、欠落を起こし、特にＶＴＲでの再生時にはこの付着物
がヘッドにも付着し、出力変動を起こすのみでなくヘッ
ド目づまシをも発生させ、磁気記録媒体として重大な欠
陥を有することとなる。
本発明は上記課題に鑑み保護層形成時の、活性種、イオ
ンのもれによる弱い結合力の付着物、特に巻取り時のバ
ックコーティング面への転写を低減させることにより、
ＶＴＲでの再生時のヘッド付着を低減させ、出力変動、
ヘッド目づまりの大幅に低減した磁気記録媒体の製造方
法および製造装置を提供しようとするものである。
ンのもれによる弱い結合力の付着物、特に巻取り時のバ
ックコーティング面への転写を低減させることにより、
ＶＴＲでの再生時のヘッド付着を低減させ、出力変動、
ヘッド目づまりの大幅に低減した磁気記録媒体の製造方
法および製造装置を提供しようとするものである。
課題を解決するための手段
上記課題を解決するため本発明の磁気記録媒体の製造方
法は、非磁性基板上に強磁性金属薄膜層を形成した磁気
記録媒体を一定方向に走行させ、その上にプラズマＣＶ
Ｄ法によって保護層を形成し、その直後にトップコート
層としての滑剤層を真空蒸着法によって連続的に形成す
ることを特徴とする特 また本発明の磁気記録媒体の製造装置は、非磁性体基板
上に強磁性金属薄膜層を形成し之磁気記録媒体を一定方
向に移送するための移送装置と、前記磁気記録媒体の移
送経路上で前記強磁性金属薄膜層上に保護層を形成する
プラズマＣＶＤ装置と、この保護層を形成した直後にト
ップコート層としての滑剤層を連続して形成する真空蒸
着装置を前記移送経路上で前記プラズマＣＶＤ装置の後
方に配設したことを特徴とする。
法は、非磁性基板上に強磁性金属薄膜層を形成した磁気
記録媒体を一定方向に走行させ、その上にプラズマＣＶ
Ｄ法によって保護層を形成し、その直後にトップコート
層としての滑剤層を真空蒸着法によって連続的に形成す
ることを特徴とする特 また本発明の磁気記録媒体の製造装置は、非磁性体基板
上に強磁性金属薄膜層を形成し之磁気記録媒体を一定方
向に移送するための移送装置と、前記磁気記録媒体の移
送経路上で前記強磁性金属薄膜層上に保護層を形成する
プラズマＣＶＤ装置と、この保護層を形成した直後にト
ップコート層としての滑剤層を連続して形成する真空蒸
着装置を前記移送経路上で前記プラズマＣＶＤ装置の後
方に配設したことを特徴とする。
作用
本発明によれば、磁気記録媒体にプラズマＣｖＤ法で保
護層を形成した直後に真空蒸着によって滑剤層を形成す
ることにより、磁気記録媒体が巻取られる前に保護層が
滑剤層で覆われ、保護層の分子が滑剤に包み込まれて安
定状態を保つため、保護層形成時に発生した付着物は、
巻取時にほとんどバックコーティング面に転写すること
がなく、またヘッドにも付着しないので、出力変動やヘ
ッド目づまりが防止される。
護層を形成した直後に真空蒸着によって滑剤層を形成す
ることにより、磁気記録媒体が巻取られる前に保護層が
滑剤層で覆われ、保護層の分子が滑剤に包み込まれて安
定状態を保つため、保護層形成時に発生した付着物は、
巻取時にほとんどバックコーティング面に転写すること
がなく、またヘッドにも付着しないので、出力変動やヘ
ッド目づまりが防止される。
実施例
以下本発明の一実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第１図は本発明の実施例における装置構成の概要を示す
。本実施例で製造する磁気記録媒体２０の基本構造は第
４図に示す従来のものと同一であり、３〜２０μｍのＰ
］ＥＴフィルムを基板１とし、表面に０．１〜０．２μ
ｍのＧｏ−Ｎｉ 合金の斜方蒸着により強磁性金属薄膜
層を形成し、走行性改善のため、裏面に樹脂とカーボン
の混合体からなるバックコーティング層３を形成した磁
気記録媒体２０であり前記強磁性金属薄膜層２上に、保
護層４および滑剤層５が形成される。
。本実施例で製造する磁気記録媒体２０の基本構造は第
４図に示す従来のものと同一であり、３〜２０μｍのＰ
］ＥＴフィルムを基板１とし、表面に０．１〜０．２μ
ｍのＧｏ−Ｎｉ 合金の斜方蒸着により強磁性金属薄膜
層を形成し、走行性改善のため、裏面に樹脂とカーボン
の混合体からなるバックコーティング層３を形成した磁
気記録媒体２０であり前記強磁性金属薄膜層２上に、保
護層４および滑剤層５が形成される。
第１図において、２０＆は保護層４および滑剤層６形成
前の磁気記録媒体であり、繰り出しローラ２１に巻かれ
るとともにこの繰り出しローラ２１からその張力が６０
０Ｈ幅換算でＯ，Ｓ〜２０Ｋｏｆに制御され送り出され
ている。２２．２４はパスローラであり磁気記録媒体２
０と密着して回転する。２３はメインローラであり、表
面に誘電体膜が設けられている。また前記ローラ２３は
その本体へバイアス電源３０よ＃）ｎｃ−ｏ、ｏｓ〜−
３Ｋ Ｖの電圧が印加される一方、磁気記録媒体２ｏを
一定速度（０，１〜２ｏｏｍ／分）で搬送するよう回転
制御されている。２６は保護層４および滑剤層６形成後
の磁気記録媒体２０ｂを連続的に巻き取るローラであり
、張力は５００ｆｆ幅換算で０．５〜２０〜ｆに制御さ
れ、テーパ張力の制御も可能である。２６は保護層４形
成用プラズマ用ノズルで、２７はプラズマ発生用電極で
ありプラズマ発生用電源２９と接続されている。このプ
ラズマ発生用電源２９はＤＣ，ムＣＲＦあるいはそれら
の重畳で実効値０．０６〜７ＫＶの電圧を印加できる。
前の磁気記録媒体であり、繰り出しローラ２１に巻かれ
るとともにこの繰り出しローラ２１からその張力が６０
０Ｈ幅換算でＯ，Ｓ〜２０Ｋｏｆに制御され送り出され
ている。２２．２４はパスローラであり磁気記録媒体２
０と密着して回転する。２３はメインローラであり、表
面に誘電体膜が設けられている。また前記ローラ２３は
その本体へバイアス電源３０よ＃）ｎｃ−ｏ、ｏｓ〜−
３Ｋ Ｖの電圧が印加される一方、磁気記録媒体２ｏを
一定速度（０，１〜２ｏｏｍ／分）で搬送するよう回転
制御されている。２６は保護層４および滑剤層６形成後
の磁気記録媒体２０ｂを連続的に巻き取るローラであり
、張力は５００ｆｆ幅換算で０．５〜２０〜ｆに制御さ
れ、テーパ張力の制御も可能である。２６は保護層４形
成用プラズマ用ノズルで、２７はプラズマ発生用電極で
ありプラズマ発生用電源２９と接続されている。このプ
ラズマ発生用電源２９はＤＣ，ムＣＲＦあるいはそれら
の重畳で実効値０．０６〜７ＫＶの電圧を印加できる。
２８はガス導入口でＨ２ムｒ、０Ｍ系等の反応性ガスあ
るいは、ケトン系、アルコール系等の気化したガスを０
．５〜０．００１Ｔｏｒｒの分圧で導入している。また
３１は蒸発源であり滑剤として脂肪酸、脂肪酸エステル
、脂肪酸アミド等が充填されている。３２は蒸発源３１
の滑剤を溶融し蒸発させるための蒸発源加熱装置であり
蒸発源の温度を検出することによりその加熱強度が制御
されている。３３は防着板であり、滑剤の蒸発粒子が真
空槽内の磁気記録媒体あるいは、それを搬送する構成要
素部品の汚染を防止している。３４は蒸発レートモニタ
であり、滑剤粒子の蒸発量を検出し蒸発源の温度を制御
している。３６はシャッタであり、所定の蒸発速度に達
してから開放され磁気記録媒体の保護層上に滑剤の蒸着
が開始される。
るいは、ケトン系、アルコール系等の気化したガスを０
．５〜０．００１Ｔｏｒｒの分圧で導入している。また
３１は蒸発源であり滑剤として脂肪酸、脂肪酸エステル
、脂肪酸アミド等が充填されている。３２は蒸発源３１
の滑剤を溶融し蒸発させるための蒸発源加熱装置であり
蒸発源の温度を検出することによりその加熱強度が制御
されている。３３は防着板であり、滑剤の蒸発粒子が真
空槽内の磁気記録媒体あるいは、それを搬送する構成要
素部品の汚染を防止している。３４は蒸発レートモニタ
であり、滑剤粒子の蒸発量を検出し蒸発源の温度を制御
している。３６はシャッタであり、所定の蒸発速度に達
してから開放され磁気記録媒体の保護層上に滑剤の蒸着
が開始される。
以上のように構成された本発明の磁気記録媒体の製造方
法および製造装置について第１図を用いてその動作を説
明する。
法および製造装置について第１図を用いてその動作を説
明する。
保護層および滑剤層形成前の磁気記録媒体２０１Ｌは、
バイアス電源３０より電圧が印加されたメインローラ２
３に強磁性金属薄膜層２の背面において密着し、繰り出
しローラ２１から巻き取りローラ２６に向けて連続的に
搬送されている。一定保護層４形成用のプラズマのイオ
ン電流は、ガス導入口２８から反応性ガスとプラズマ用
電源２９がらの印加された電圧により発生し、保護層４
形成用プラズマノズル２６に対向位置する磁気記録媒体
２０＆の強磁性金属薄膜層２に到達して、保護層４が成
膜される。保護層４が形成されたメインローラ２３上で
の直後に滑剤層６が形成される。
バイアス電源３０より電圧が印加されたメインローラ２
３に強磁性金属薄膜層２の背面において密着し、繰り出
しローラ２１から巻き取りローラ２６に向けて連続的に
搬送されている。一定保護層４形成用のプラズマのイオ
ン電流は、ガス導入口２８から反応性ガスとプラズマ用
電源２９がらの印加された電圧により発生し、保護層４
形成用プラズマノズル２６に対向位置する磁気記録媒体
２０＆の強磁性金属薄膜層２に到達して、保護層４が成
膜される。保護層４が形成されたメインローラ２３上で
の直後に滑剤層６が形成される。
この滑剤層５形成用滑剤は蒸発源３１に充填されており
、加熱装置３２によって加熱溶融され、蒸発レートモニ
タ３４により規定の蒸発レートに達したときに、シャッ
タ３６が解放され、強磁性金属薄膜層２上に保護層４を
形成した直後に滑剤層５が形成される。以上のように保
護層形成直後に滑剤層を形成することにより、磁気記録
媒体２０が巻き取りローラ２５に巻き取られる前に保護
層４が滑剤層６で覆われるため、保護層４形成時の活性
種やイオンのもれによる付着物はバックコーティング層
３面にほとんど転写することなく保護層４と滑剤層６を
形成することができる。
、加熱装置３２によって加熱溶融され、蒸発レートモニ
タ３４により規定の蒸発レートに達したときに、シャッ
タ３６が解放され、強磁性金属薄膜層２上に保護層４を
形成した直後に滑剤層５が形成される。以上のように保
護層形成直後に滑剤層を形成することにより、磁気記録
媒体２０が巻き取りローラ２５に巻き取られる前に保護
層４が滑剤層６で覆われるため、保護層４形成時の活性
種やイオンのもれによる付着物はバックコーティング層
３面にほとんど転写することなく保護層４と滑剤層６を
形成することができる。
次に前述した実施例の効果について第２図および第３図
を用いて説明する。
を用いて説明する。
第２図、第３図とも、本発明および従来例の方法により
保護層４として約１００人の厚さのダイヤモンド状炭素
膜をガス導入圧力ｏ、１Ｔｏｒｒ印加電圧はバイアスと
合計でＩＫＶで形成し、滑剤層としてステアリン酸を約
３０人の厚さに設けた磁気記録媒体１０．２０について
、ビデオテープレコーダを用いて記録再生したときのヘ
ッド目づまりと、ヘッド汚染度合を示したものである。
保護層４として約１００人の厚さのダイヤモンド状炭素
膜をガス導入圧力ｏ、１Ｔｏｒｒ印加電圧はバイアスと
合計でＩＫＶで形成し、滑剤層としてステアリン酸を約
３０人の厚さに設けた磁気記録媒体１０．２０について
、ビデオテープレコーダを用いて記録再生したときのヘ
ッド目づまりと、ヘッド汚染度合を示したものである。
なお具体的な条件として、９０分程度の長さで８朋幅の
磁気記録媒体１ｏ、２０を約１４Ｈ／秒で走行させ相対
速度３．ａｍ／秒、トラックピッチ約２０μｍで映像信
号を回転シリンダ型ビデオテープレコーダにて記録し、
約２００時間再生したときのデータを示すものである。
磁気記録媒体１ｏ、２０を約１４Ｈ／秒で走行させ相対
速度３．ａｍ／秒、トラックピッチ約２０μｍで映像信
号を回転シリンダ型ビデオテープレコーダにて記録し、
約２００時間再生したときのデータを示すものである。
第２図はヘッド目づまり時間の積算値を示し、第３図は
ヘッドの汚染度合を示す図である。なおヘッド目づまり
時間とはｅｄＢ以上出力低下した時間のことであり、ヘ
ッド汚染度合とはヘッド表面あるいは周辺に磁気記録媒
体より欠落した滑剤層６、バックコーティング層３等が
付着滞留した量を指数化したものである。
ヘッドの汚染度合を示す図である。なおヘッド目づまり
時間とはｅｄＢ以上出力低下した時間のことであり、ヘ
ッド汚染度合とはヘッド表面あるいは周辺に磁気記録媒
体より欠落した滑剤層６、バックコーティング層３等が
付着滞留した量を指数化したものである。
第２図より１００時間以上以上後のヘッド目づまりは大
幅に低減しており（１／１ｏ以下）実用限界を余裕をも
ってクリアできることが確認された。また従来例の方法
により製作された磁気記録媒体はヘッド目づまりが発生
、増加するあたりから出力変動が現われ、走行回数と増
加ともにその振幅も増大する。
幅に低減しており（１／１ｏ以下）実用限界を余裕をも
ってクリアできることが確認された。また従来例の方法
により製作された磁気記録媒体はヘッド目づまりが発生
、増加するあたりから出力変動が現われ、走行回数と増
加ともにその振幅も増大する。
第３図より、ヘッド汚染は１ｏ数回の走行程度で飽和し
以降極めて安定である。しかし従来例の方法によるもの
は１００回走行程度まで増加し以降増減をくり返してい
る。
以降極めて安定である。しかし従来例の方法によるもの
は１００回走行程度まで増加し以降増減をくり返してい
る。
以上の実験結果から明らかなように、本発明によれば、
保護層４成膜時に保護層４上に付着した付着物が巻き取
り時にバックコーティング面に転写し、これがビデオテ
ープレコーダでの走行時に徐々に欠落、ヘッドに付着し
、ついにはヘッド目づまりに至るという現象が防止され
るため、実用限界内では大きな出力変動が発生すること
がない。
保護層４成膜時に保護層４上に付着した付着物が巻き取
り時にバックコーティング面に転写し、これがビデオテ
ープレコーダでの走行時に徐々に欠落、ヘッドに付着し
、ついにはヘッド目づまりに至るという現象が防止され
るため、実用限界内では大きな出力変動が発生すること
がない。
なおこの場合に保護層上に付着した付着物の転写や欠落
が防止されるのは、この付着物が非常に分子数の少ない
物と考えられるため滑剤層形成時の滑剤に包み込まれ、
安定な状態を保っているためであると考えられる。
が防止されるのは、この付着物が非常に分子数の少ない
物と考えられるため滑剤層形成時の滑剤に包み込まれ、
安定な状態を保っているためであると考えられる。
発明の効果
以上のように本発明によれば、磁気記録媒体の金属薄膜
形成後、強磁性金属薄膜上に保護層形成直後に滑剤層を
形成する方法により、保護層形成時の付着物のバックコ
ーティング面への転写とヘッドへの付着を防止でき、そ
の結果ビデオテープレコーダでの記録再生においてはヘ
ッド目づまりが大幅に低減し、問題となる出力変動の発
生が解消するため、良好な記録再生特性をより長時間に
わたって得ることができる。
形成後、強磁性金属薄膜上に保護層形成直後に滑剤層を
形成する方法により、保護層形成時の付着物のバックコ
ーティング面への転写とヘッドへの付着を防止でき、そ
の結果ビデオテープレコーダでの記録再生においてはヘ
ッド目づまりが大幅に低減し、問題となる出力変動の発
生が解消するため、良好な記録再生特性をより長時間に
わたって得ることができる。
第１図は本発明の一実施例における装置構成の概要を示
す図、第２図は走行回数とヘッド目づまりに関する、従
来例と本発明の実施例との比較図、第３図は走行回数と
ヘッド汚染に関する比較図、第４図は磁気記録媒体の構
造を示す断面図、第６図は従来の保護層形成法による磁
気記録媒体の製造装置を示す概略図である。 １・・・・・・非磁性基板、２・・・・・・強磁性金属
薄膜層、４・・・・・・保護層、６・・・・・・滑剤層
、２ｏ・・・・・・磁気記録媒体、２１・・・・・・繰
り出しローラ、２２．２４・・・・・・パスローラ、２
３・・・・・・メインローラ、２６・・・・・・巻き取
りローラ、２７・・・・・・プラズマ発生用電極、２８
・・・・・・ガス導入口、２９°旧°“プラズマ用電源
、３１・・・・・・蒸発源、３２・・・・・・加熱装置
。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名菓 図 Ｏ本充明め覚？ｊ 再生Ｌｆ’を時間 Δ従米宏−列 再生え打埒ｙ
す図、第２図は走行回数とヘッド目づまりに関する、従
来例と本発明の実施例との比較図、第３図は走行回数と
ヘッド汚染に関する比較図、第４図は磁気記録媒体の構
造を示す断面図、第６図は従来の保護層形成法による磁
気記録媒体の製造装置を示す概略図である。 １・・・・・・非磁性基板、２・・・・・・強磁性金属
薄膜層、４・・・・・・保護層、６・・・・・・滑剤層
、２ｏ・・・・・・磁気記録媒体、２１・・・・・・繰
り出しローラ、２２．２４・・・・・・パスローラ、２
３・・・・・・メインローラ、２６・・・・・・巻き取
りローラ、２７・・・・・・プラズマ発生用電極、２８
・・・・・・ガス導入口、２９°旧°“プラズマ用電源
、３１・・・・・・蒸発源、３２・・・・・・加熱装置
。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名菓 図 Ｏ本充明め覚？ｊ 再生Ｌｆ’を時間 Δ従米宏−列 再生え打埒ｙ
Claims (2)
- （１）非磁性基板上に強磁性金属薄膜層を形成した磁気
記録媒体を一定方向に走行させ、その上にプラズマＣＶ
Ｄ法によって保護層を形成し、その直後にトップコート
層としての滑剤層を真空蒸着法によって連続的に形成す
ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - （２）非磁性体基板上に強磁性金属薄膜層を形成した磁
気記録媒体を一定方向に移送するための移送装置と、前
記磁気記録媒体の移送経路上で前記強磁性金属薄膜層上
に保護層を形成するプラズマＣＶＤ装置と、この保護層
を形成した直後にトップコート層としての滑剤層を連続
して形成する真空蒸着装置を前記移送経路上で前記プラ
ズマＣＶＤ装置の後方に配設したことを特徴とする磁気
記録媒体の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63280789A JPH0833993B2 (ja) | 1988-11-07 | 1988-11-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63280789A JPH0833993B2 (ja) | 1988-11-07 | 1988-11-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02128321A true JPH02128321A (ja) | 1990-05-16 |
| JPH0833993B2 JPH0833993B2 (ja) | 1996-03-29 |
Family
ID=17629981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63280789A Expired - Fee Related JPH0833993B2 (ja) | 1988-11-07 | 1988-11-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0833993B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0467431A (ja) * | 1990-07-06 | 1992-03-03 | Kubota Corp | 磁気記録媒体の保護潤滑膜形成方法 |
| JPH07254148A (ja) * | 1994-03-16 | 1995-10-03 | Kao Corp | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置並びに磁気記録媒体 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62219330A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Seiko Epson Corp | 薄膜メデイアの製造方法 |
| JPS6334728A (ja) * | 1986-07-28 | 1988-02-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS63259831A (ja) * | 1987-04-16 | 1988-10-26 | Showa Denko Kk | 薄膜型磁気デイスクの製造方法 |
-
1988
- 1988-11-07 JP JP63280789A patent/JPH0833993B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62219330A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Seiko Epson Corp | 薄膜メデイアの製造方法 |
| JPS6334728A (ja) * | 1986-07-28 | 1988-02-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS63259831A (ja) * | 1987-04-16 | 1988-10-26 | Showa Denko Kk | 薄膜型磁気デイスクの製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0467431A (ja) * | 1990-07-06 | 1992-03-03 | Kubota Corp | 磁気記録媒体の保護潤滑膜形成方法 |
| JPH07254148A (ja) * | 1994-03-16 | 1995-10-03 | Kao Corp | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置並びに磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0833993B2 (ja) | 1996-03-29 |
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