JPS63260946A - 固相ペプチド合成用支持体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、Ｍｅｒｒ　ｌ　ｆ　ｉｅ　ｌｄ合成の既知
の一般的原理に従って固相におけるペプチド及びペプチ
ドアミドの合成のための支持体として使用するための新
規な合成樹脂に関する。この発明の合成樹脂は、前記の
Ｍｅｒｒｉｆｉｅｌｄ合成のために使用することができ
そして場合によっては０〜５ｍｏβ％、好ましくは１〜
’ｌ　ｍｏ　Ｒ％のジビニルベンゼンにより架橋されて
いるポリスチレンの骨格構成から成り、該骨格構造のベ
ンゼン環において次の弐（Ｉ）：ＲＯ３ Ｉ （式中、Ｘは一〇−又は−Ｎｌ＋−であり、そしてＲは
Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基である）で表わされる基により
直換されていることを′（〒徴とする。この発明の樹脂
中のＸは好ましくは一〇−であり、そして記号Ｒは好ま
しくは直鎖Ｃ３〜Ｃ４−アルキル基特にメチル基である
。

この発明はまた、前記の樹脂の製造方法、並びにペプチ
ド及びペプチドアミド、特にＮ−末端アミノ基及び／又
は他の官能基において保護されているそれらの製造のた
めの該樹脂の使用に関する。

この発明はまた、基−ＸＨが−ＮＨ□である場合それが
保護された形にある対応する樹脂、場合によっては保護
されているアミノ酸、ペプチド又はペプチドアミド残基
が付加されている樹脂、並びに上記の方法により、特に
例中に記載されている方法により製造される遊離ペプチ
ド及びペプチドアミドに関する。

〔従来の技術〕

ペプチド化合物のＭｅｒｒｉｆｉｅｌｄ合成の原理は１
９６２年に公表され、一般に知られている。この方法に
おいては、一端（通常Ｎ−末端）で保護されたアミノ酸
が適切に官能化された基材ポリマー（はとんどの一般的
形態においてはクロロメチル化ポリスチレン）に結合（
付加）される。この結合は、一方において、ペプチドの
合成の種々の反応条件下（特にＮ−末端アミノ保護基の
除去）においてそのまま維持されるために十分に強くあ
るべきであり、しかし他方、生成物を損傷しない条件下
でポリマー支持体から最終ペプチドが切り離さね２るこ
とが可能でなければならない。次に、実際の合成は支持
体に付加されたアミノ酸において行われる。この工程に
おいては通常、Ｎ−末端保護基が除去され、この遊離さ
れたアミノ基がＮ−末ｏ：；１が保護された適切なアミ
ノ酸誘導体によりアシル化され（すなわち、新たなペプ
チド結合が形成され）、そして所望の長さのアミノ酸配
列が得られるまで末端保護基の除去及び他のアミノ酸残
基に上るアシル化を反復する。次に、この配列を適当な
試薬により最終ペプチドとして支持体から切り離す（取
り出す）。この理想的な反応過程は、実際に実施される
場合には多（の不利な点及び誤りの原因に悩まされ、そ
して最近の２０年にわたり、ペプチドに関する文献はこ
れらの点に積極的に関心を寄仕ている。最も１１雄な問
題の１つは、支持体上で合成された配列には二次生成物
が必然的に伴い、そしてすでに形成された不完全構造体
く例えば短縮された配列を有する二次生成物）が合成の
その後のすべての段階において同時に反応し、そして次
の段階に持ち込まれ、その結果最後には、構造の類似す
る支配的な量の二次生成物と一緒にごくわずかな量の目
的生成物がしばしば得られ、該目的生成物を前記二次生
成物から？Ｊｆ雑な方法で分離しなければならないこと
である。実質上常に保護されなければならない（アシル
化１桑作におＬＪる相対的にエネルギソシュな条件のた
め）他の側鎖官能基を、使用されるアミノ酸が含有する
場合、この状況は特に困難である。これらの保護基は今
度は、Ｎ−末０：１１ｉ基が遊離される場合、そのまま
維持される様に十分に耐性でなければならない。他の問
題点はペプチドアミド類により提起される。

なぜなら、それらと支持体との結合は（通常のペプチド
のエステル結合とは異り）やはりペプチド結合であって
、完全なアミノ酸配列のアミノ酸間の結合に類似し°ζ
いるからである。従って、他のペプチド結合を維持しな
がらペプチドアミドを支持体から選択的に切り離すこと
について困難が生ずる。これらの（そしてさらに他の）
理由のため、固相合成（Ｍｅｒｒｉｆｉｅｌｄ合成）は
最近、最大３０個のアミノ酸を有するペプチドを合成す
る場合にのみ幾つかの利点を有する方法であると考えら
れている。

その適用範囲を拡大するため、例えばＥ、Δｔｈｅｒｔ
ｏｎ等、Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ　ｏｆ　ｔｈｅ　７ｔ
ｈ　Ａｍｅｒｉｃａｎ　ＰｅｐｔｉｄｅＳｙｍｐｏｓｉ
ｕｍ＋　１６３　１９５頁、Ｐｉｅｒｃｅ　Ｃ１＋ｅｍ
ｉｃａｌ　Ｃｏｍ−ｐａｎｙ、　ｌ？ｏｃｌｆｏｒｄ、
　　ＩＬ、　ＵＳＡ　（１９８１）により、保護された
官能基（Ｎ−末端アミノ基を包含する）を有する全アミ
ノ酸部分配列を組立ブロックの形で支持体に付加し、そ
して組立ブロックの形の他の保護されたペプチド断片と
連結することがＱｇされている。従って、支持体上の固
相合成によりこれらの必要な組立ブロック（ペプチド断
片）を製造することも可能なはずである。しかしながら
、これは全く新たな問題を提起する。このため、Ｎ−末
端保護基及び他の官能基の保護基（これは必然的に前者
とは異る）が影響を受けないような穏和でありぞして／
又は選択的な条件下で幾つかの保護されたアミノ酸残基
から成る合成されたペプチド断片が樹脂への付着から解
放されることを許容する樹脂が必要である。種々の提案
及び部分的解決の詳細な検討をＡ　Ｌｈｅｒ　ｔｏｎ等
の上記の発表に見ることができる。これらの著、には彼
ら自身の最良の解決策として、ノルバリンを介して２−
又は３−メトキシ−４−ヒドロキシメチルフェノキシ酢
酸に結合しているポリアミド塩基樹脂の使用を提案して
いる。次に、第一の（保護された）アミノ酸のＣ−末端
がエステル結合によりヒドロキシメチル基に付加され、
合成の終点におけるこの結合の開裂（樹脂からの切り離
し）が塩化メチレン中１％トリフルオロ酢酸を用いて行
われる。しかしながら、技術の現状において最良の一つ
であると考えることができるこの方法でさえ、普遍的に
応用することができない。なぜなら、著者自身が述べて
いるように、合成の終りにおける除去条件下で側鎖の二
つの非常に重要な保１！基、すなわちリジンのε−アミ
ノ基のｔｅｒ　ｔ−ブトキシカルボニル保護基及びチロ
シンのヒドロキシ基を保護するｔｅｒＬ−ブチル基が容
易に除去され、これらの保３１基の使用が問題となるか
らである。さらに、この樹脂は、ペプチドアミドの直接
固相合成のためには適切でない。このすべてがおそらく
、この方法の明瞭な利点にもかかわらず該方法が今まで
広く使用されていない理由を説明しているであろう。

〔発明が解決しようとする課題〕

驚くべきことに、この発明の合成樹脂は今までの提案が
有する既知の欠点を有さず、そしてそれ故に保護された
及び保護されていないペプチド及びペプチドアミドの固
相合成の広い適用を可能にすることが今や見出された。

好ましくは、最も使用されている支持体ポリマー、すな
わちポリスチレンが合成樹脂の合成のためのポリマー骨
格として使用される。

以下余白 〔課題を解決するだめの手段〕 詳しくは、その骨格にフェニル基を含有する任意の合成
樹脂を基本ポリマーとして使用することができる。ペプ
チドの固相合成のための支持体として２０年間にわたり
一般に使用されておりそしてその目的のための種々の商
業的調製物の形で入手可能なスチレンのポリマーが好ま
しい。有機溶剤中での不溶性及び安定性を増強するため
、５ｍｏβ％以下の、そして好ましくは約１〜２モル％
のジビニルベンゼンにより架橋されたポリスチレン樹脂
が好ましい。この様な基本ポリマーはそれらのフェニル
基（ベンゼン環）においてクロロメチル化又はブロモメ
チル化により置換され、そして次にそれぞれ塩素又は臭
素を置換することによりメチレン基において実際のアン
カー基が導入される。さらに、ハロメチル化、特にクロ
ロメチル化されたポリスチレンは、“Ｍｅｒｒｉｆ　１
ｅｌｄ”樹脂の名称のもとにペプチドの固相合成におい
て広く使用されている一般的な市販の製品である。

以下余白 〔具体的な記載〕 上に定義した新規な合成樹脂の製造のためのこの発明の
方法は、適当なポリスチレン、例えば、０〜５ｍｏβ％
のジビニルベンゼンで架橋されておりそして骨格構造の
ベンゼン環においてり四ロメチル化又はブロモメチル化
されている前記のポリスチレンを、 ａ）次の式（■）： ”０＼ （式中、Ｍはアルカリ金属であり、そしてＲはｒｉｉｉ
記の意味を有する） で表わされる化合物； ｂ）遷元剤：及び、Ｘが−Ｎｌ！−である場合には、 ｃ）？ミノ基を導入する試薬； と次々に反応せしめることを含んで成る。

段階ａ）の反応は、好ましくは塩に対する良好な溶解力
を有する高極性溶剤、例えば二極性非プロトン性溶剤、
例えばジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ヘキサ
メチルリントリアミド、Ｎ。

Ｎ′−プロピレン尿素、又は脂肪族アミド、例えば特に
ジメチルホルムアミド、あるいはさらに前記の溶剤の混
合物の存在下で、そして好ましくは水分を厳重に排除し
て行われる。好ましくは、式（ＩＩ）のアルカリ金属塩
の溶液が使用され、そしてこの目的のためにセシウム塩
（Ｍがセシウム）が特に適当である。反応はＯ℃〜５０
℃の温度において、好ましくは室温の範囲内で行うこと
ができ、反応時間は数時間にわたり、例えば８〜７２時
間である。この時間中、反応混合物は好ましくは機械的
に撹拌又は振とうされる。出発物質として使用される２
、４−ジアルコキシ−４′−ヒドロキシベンゾフェノン
はそれ自体既知の方法で、例えば対応するレヅルシノー
ルジエステルを塩化ｐ−ヒドロキシベンゾイルにより塩
化アルミニウム触媒のもとでＣ−アシル化するか、ある
いはこのアシル化の変法によって得ることができ、この
ものから１」的とする塩が、対応するアルカリ金属水酸
化物、例えば水酸化セシウノ、との常用の反応により得
られる。

段階ｂ）は、それ自体既知の方法で、還元剤、例えばオ
キソ基をヒドロキシ基に還元するだめの通常の還元剤に
より行われる。適当な還元剤は例えばジボラン又はコン
プレックスヒドロキシド、例えば特にアルカリ金属ポロ
ヒドリド（例えばすトリウムボロヒドリド、リチウムボ
ロヒドリド又はカリウムボロヒドリド）、並びにさらに
、アルカリ金属アルミニウムヒドリド（例えばすトリウ
ムアルミニウムヒドリド“又はリチウムアルミニウムヒ
ドリド）であり、これらは便利な非反応性有機）８剤、
特に開鎖式又は環状エーテル（例えばそれぞれジイソプ
ロピルエーテル又は１．２−ヅメ１−キシ−もしくは−
ジエトキシーエタン、あるいはジオキサン又はテトラヒ
ドロフラン）中で、試薬に依存して０℃〜約ｉｏｏ’ｃ
の温度において行われる。反応時間は使用される試薬及
び反応条件に依存し、そして原則として１〜４８時間で
あり、振とう又は１覚拌が固体成分と液体成分との間の
接触を促進する。必要であれば、この反応工程は新たな
還元剤を用いて反復することができ、過剰の試薬は反応
の終了において例えばアセトンのごときケトンによって
破壊するのが好ましい。

段階ｂ）に従って得られた“ヒドロキシ樹脂”を“アミ
ノ樹脂°に転換するために用いられる任意段階Ｃ）は、
例えばアンモニアを用いて行われる。この目的のため、
例えばアンモニアガスが、極性）８剤、例えば段階ａ）
又はｂ）において記載した溶剤のいずれか中“ヒドロキ
シ樹脂”の撹拌された懸濁液にＱ　’ｃ〜室温において
導入される。

この工程はまた特に、上昇した圧力のもとて５０℃以下
の温度で振とうしながら行うこともできる。

段階Ｃ）において使用されるアミノ基を導入するための
試薬として、塩基による処理によってそこからアルコー
ル成分を除去することができ、そして酸性条件下で安定
であるカルバメートが特にｂ−ｒましい。この様なカル
バメートの例として、β−位に活性な、特に電子吸引性
の置換基を担持する置換されたカルバメートが挙げられ
る。β−（低級アルカン−もしくはアレーン−スルボニ
ル）−エチルカルバメート、例えばβ−（メタンスルホ
ニル）−エチルカルバメート又はβ−（ベンゼンスルボ
ニル）−エチルカルバメート、β−にドロー、シア／　
−ｔ＋　Ｌ　＜　ハハローフェニル）−エチルカルバメ
ート、例えばβ−（ｐ−ニトロフェニル）−エチルカル
バメート、β−ジー（ｐ−ニトロフェニル）−エチル力
ルバメー１−　又ハβ−（ペンタフルオロフェニル）−
エチルカルバメート、あるいは特に９−フルオレニルメ
チルカルバメートが適当である。上記のカルハメ−１・
を用いる反応において、不活性行ａ溶剤、例えばハ［１
炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロホルム又は１．
２−ジクロロエタン、あるいはエーテル、例えばジイソ
プロピルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジフト−１
ｚシエタン、ジエトニトシエタン、テトラヒドロフラン
又はジオキサン中“ヒドロキシ樹脂”の懸濁液が、２０
℃〜８０℃、好ましくは約５０℃の温度において、カル
バメート及び強酸、例えば有機スルホン酸、好ましくは
低級アルカンスルホン酸又はアレーンスルホン酸、例え
ばメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸又はｐ−ｌ・
ルエンスルホン酸と共に、数時間、例えば２〜４８時間
撹拌される。こうして、−Ｘ−Ｈ基の代りに−Ｎｌｌ−
Ｗ基を有する上に定義した構造を有する合成樹脂が得ら
れ、ここでＷはアミノ保護基であって、このアミノ保護
基は塩基で処理することによって除去され得るもの、例
えば置換されたエトキシカルボニル基である。次に、“
アミノ樹脂”を遊離せしめるため、保護基を、不活性有
機溶剤中、好ましくは上記のエーテル又はジー低級アル
キルアミド、例えばジメチルホルムアミド又はジメチル
アセタミド中第三又は好ましくは第二開鎖式又は環状ア
ミン、例えばトリエチルアミン、トリブチルアミン、ジ
エチルアミン、ピペリジン、ピロリジン又はモルホリン
の溶液により、０℃〜５０℃の温度、好ましくはおよそ
室温において、例えば数分間、例えば１分間ないし数時
間、例えば６時間の反応時間で除去する。さらに、アミ
ンの代りにアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリ
ウム、又は水酸化アンモニウム、例えば水酸化ベンジル
トリメチルアンモニウムを使用することもでき、この場
合には一層低い温度において、短い反応時間の後、例え
ば１分間未満の後、開裂がすでに完了する。

前にすでに述べたように、この発明はまた、ペプチド及
びペプチドアミド、特にＮ−末端アミノ基及び／又は側
鎖の官能基において保護されているそれらの固相合成の
ために、本発明の合成樹脂を使用することにも関する。

この発明に従えば、ペプチド化合物は上に定義した合成
樹脂を用いて次の様にして製造される。

ａ）合成樹脂を、次の式： ％式％ （式中、Ｙは一〇−又は−ＮＨ−であり、ＷｌはＮ−末
端アミノ保護基であり、そしてＡＭ’　は１〜２５個の
アミノ酸残基から成るアミノ酸配列のアシル基であって
、この配列は所望により官能基において保護されている
） で表わされる化合物と、又はその反応性官能誘導体と反
応せしめることによりｎｉｉ記樹脂の−Ｘ−基にＷ”Ｉ
Ｍ’　−残基を付加し； ｂ）Ｎ−末端保護基Ｗｌを除去し： Ｃ）遊離したＮ−末端アミン基を、次の式：％式％ （式中、Ｗ２及びＭ２は前記の基Ｗ＋及びＭｌと類似の
意味を有する） で表わされる酸と、又はその反応性官能誘導体と反応せ
しめることによりアシル化し； ｄ）段階ｂ）に従う除去及び段階Ｃ）に従うアシル化の
交互の操作を、目的とするアミノ酸配列が得られるまで
必要なだけ反復し；そしてｅ）生じたベプチじ又はペプ
チドアミドを、所望により保護基の除去の後又は保護基
の除去と同時に、酸分解により前記樹脂から切り離す。

Ｃ−末端が保護されたアミノ酸又はアミノ酸配列を本発
明の樹脂に付加する場合、その条件は常に、反応に関与
する官能基を考慮して選択される。

好適に使用される支持体樹脂はＸが一〇−である式（１
）の“ヒドロキシ樹脂”であり、アミｌＳ形の最終生成
物が望まれる場合には、この樹脂を保護されたアミノ酸
アミド又はアミド形の保護されたアミノ酸配列と、例え
ばＷｌ及びＡＭ’が前に定義した通りである式Ｗ’　　
ＡＭ’　　Ｎｌｈの化合物と反応せしめることができ、
この反応において樹脂のヒドロキシ基−Ｘ　Ｈがアミド
性Ｃ−末端アミド基と交換される。この付加反応は通常
は酸により触媒され、例えば有機スルホン酸、好ましく
は低級アルカンスルホン酸又はアレーンスルポン酸、例
えばメタンスルポン酸、ヘンゼンスルホン酸又はｐ−ト
ルエンスルホン酸により触媒され、そして不活性有機溶
剤、例えば塩素化アルカン（例えば塩化メチレン、クロ
ロホルｌ、又は１．２−ジクロロエタン）及び／又は開
鎖式又は環状エーテル（例えば、それぞれジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテルもしくはジブチルエーテ
ル、又は１．２−ジメトキシエタンもしくは１．２−ジ
ェトキシエタン、あるいはジオキサン又はテトラヒドロ
フラン）の存在下で、数時間、例えば２〜４８時間にわ
たり、２０゛ｃ〜８０℃の温度、好ましくは約５０℃に
て行われる。必要であれば、付加操作を反復することが
できる。次に、Ｃ−末端アミドが付加された樹脂、すな
わちヘンゼン環が次の式（■）： （式中、Ｒ，Ｗ’及びＡＭ’　は前記の意味を有する） で表わされる基により置換されている樹脂を段階ｂ）〜
ｄ）に従う所望のアミノ酸配列の合成にかける。完成さ
れたペプチドアミドの脱着は弗化水素を用いて行うこと
ができるが、しかし好ましくは穏和な酸性剤、例えばト
リフルオロ酢酸を用いて、好ましくは不活性有機稀釈剤
、例えばハロアルカン中で、又は水中で行われる。例え
ば、脱着は、トリフルオロ酢酸と塩化メチレン又は１．
２−ジクロロエタンとの例えばｌ：ｌ容量比の混合物を
用いて行われる。しかしながら、通常使用される酸分解
的に除去され得る保護基のすべてがこれらの条件下で耐
性であるとは限らない。従って、樹脂からの脱着と同様
に対応する保護基も除去され、遊離官能基を有するペプ
チドアミドが得られる。

合成の最後において遊離酸の形のペプチド（所望により
Ｎ−末端保護基及び／又は他の保護基を伴う）が所望さ
れる場合、使用される支持体はやはりＸが一〇−である
式（＋）の“ヒドロキシ樹脂”である。このものを遊離
酸の形の又は該酸の反応性官能誘導体の形の保護された
アミノ酸又は保護されたアミノ酸配列と、例えばＷｌ及
びＡＭ”が前記の意味を有する弐Ｗ’　−ＡＭ’　−０
１１の化合物と反応せしめ、この反応において樹脂のヒ
ドロキシ基がエステル化される。付加反応はペプチド合
成において一般的なアシル化条件下で行われる。

使用される反応性官能誘導体は例えば付加されるべき酸
の無水物、例えば対称無水物であり、例えば有機第三級
塩基、例えば後で記載する塩基中で用いられる。他の適
当な官能誘導体は付加されるべき酸の活性エステルであ
り、このものもまた後に記載する有機第三級塩基の存在
下で反応する。

好ましい活性エステルは特に、電子吸引性置換基を有す
るフェノールのエステル、及びＮ−ヒドロキシイミドの
エステルである。しかしながら好ましくは、付加される
べき化合物は遊離酸の形で使用され、そして縮合剤とし
てのカルボジイミド、例えばジイソプロピルカルポジ・
イミド又は特にシンクロヘキシルカルボジイミドの助け
によりアシル化される。反応は有機塩基、特に第三級塩
基（例えば、ピリジン、キノリン、４−ジメチルアミノ
ピリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、Ｎ、Ｎ’−ジメチルピペラジン、又はトリエチルア
ミンもしくはジイソプロピルエチルアミン）の存在下で
、そして不活性有機溶剤、例えば塩素化アルカン（例え
ば塩化メチレン又はクロロホルム）及び／又は開鎖式も
しくは環状エーテル（例えばそれぞれ、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテルもしくはジブチルエーテル
又は１．２−ジメト」−シエタンもしくは１．２−ジェ
トキシエタン、あるいはジオキサン又はテトラヒドロフ
ラン）中で行われる。活性化されたＮ−ヒドロキシ化合
物、例えば１−ヒドロキシベンゾトリアゾールが好適に
添加される。反応時間はｉ則として、０℃〜４０℃の温
度において数時間、例えば２〜４８時間であり、所望に
よりアシル化反応は反復することができる。不所望の二
次生成物を防止する手段として、得られる樹脂を塩基、
例えば前に記載した塩基のいずれかの存在下で塩化ベン
ゾイル（又は類似の単純な酸誘導体）で処理し、こうし
てなお遊離している樹脂のヒドロキシル基をブロックす
るのが有利である。次に、付加されたＣ−末端エステル
を有する樹脂、ずなわらベンゼン環が次の式（■）； （式中、Ｒ、Ｗ’及びＡＭ’　は前記の意味を有する） で表わされる基により置換されている樹脂を、段階ｂ）
〜ｄ）に従って所望のアミノ酸配列の合成にかける。保
護基、特に酸感受性保ｇｌ基を有しない最終生成物が所
望の場合、完成されたペプチド酸の脱着（方法ｅ）は弗
化水素を用いて行うことができるが、しかしながら好ま
しくは、穏和な酸、例えばハロアルカンのごとき不活性
有機溶剤により好適に稀釈されたトリフルオロ酢酸を用
いて行う。その後の合成に使用されるべきペプチド断片
の場合に通常好ましいように、Ｎ−末端アミノ基及び／
又は他の官能基が維持されているペプチド（アミノ酸配
）列が所望の場合、樹脂からの最終生成物の脱着は特に
穏和な酸分解条件下で、例えば中性有機溶剤により稀釈
されていてもよい有機酸、特にアルカンカルボン酸、好
ましくは蟻酸又はプロピオン酸、特゛に酢酸を用いて行
われ、特に好ましいものとして、酢酸と塩化メチレン又
はクロロホルムとの約ｌ：ｌ〜約１　：１９、特ニ１　
：　９の容量比での混合物が挙げられる。さらに、太き
く稀釈されたトリフルオロ酢酸、例えば、塩化メチレン
もしくはクロロホルム、又はピリジニウム塩、例えば塩
酸ピリジニウム、極性の塩−もしくはペプチド−溶解性
溶剤、例えばジメチルアセタミド又はジメチルホルムア
ミド中０．１〜２％の溶液の形のトリフルオロ酢酸も適
当である。ｎＱ着は通常、０℃〜５０℃の温度において
、好ましくは室温の範囲内で行われ、反応時間は数分間
〜数時間（例えば２〜８時間）である。

支持体樹脂としてＸが−Ｎ　Ｈ−である式＜１）の“ア
ミノ樹脂”を使用し、そしてこれをｋ　乱酔の形の又は
酸の反応性官能誘導体の形の保護されたアミノ酸又は保
護されたアミノ酸配列と、例えばｗｌ及びＡＭ’が前記
の意味を有する式Ｗ＋　−ＡＭ０　−０１１の化合物と
反応せしめることによってもペプチドアミドを得ること
ができる。これは、付加されたＣ−末端アミドを有する
樹脂、すなわちベンゼン環が式（ＩＩＩ）の基により置
換されている樹脂をもたらす。反応は好ましくは、遊離
酸又はその反応性官能誘導体による“ヒドロキシ樹脂”
のエステル化について前に記載した反応条件のもとで行
われる。次に、段階ｂ）〜ｄ）による所望のアミノ酸配
列の合成、及び完成したペプチドアミドのＣ）による脱
着が正確に前記の様にして行われる。

アミノ酸配列が樹脂から脱着され得るその相対的容易さ
は、Ｎ−末端のアミノ保護基の特定の選択により決定さ
れ、このアミノ保護基の除去は、前記アミノ酸配列が前
記樹脂に付着したままである（そして他の保護基も維持
される）程厳格でなければならず、しかしながらそれに
もかかわらず該除去は定量的でなければならない。この
Ｎ−末端アミノ保護基Ｗ１又はＷ２は好ましくは、塩基
性条件下で除去され得る基、特にオキシカルボニル型の
基である。好ましいＮ−末端アミノ保ΔＷ基Ｗ＋及びＷ
２は、β−位において活性な、特に電子吸引性の置換基
を担持する置換された工１・；１−ジカルボニル基、例
えば対応するカルバメートの場合に前記したものである
。β−（メタンスルホニル）−工トキシカルボニル基、
β−（ｐ−ニトロフェニル）−工ｌ・キシカルボニル基
、及ヒβ−ジー（ｐ−ニトロフェニル）−エトキシカル
ボニル基が特に好ましく、そして９−フルオレニルメ１
＝ｔ−ジカルボニルＭ　（Ｆｍｏｃ）が特に好ましい。

これらの保護基は、無機又は有機塩基、特に第三級又は
第二級アミン、例えば“アミノ樹脂゛の製造について前
記したものにより除去することができる。

段階ｂ）に従うＮ−末端アミノ保護基、特にＦｍｏｃ基
の除去の条件は、“アミン樹脂”の製造と関連して前に
記載されており、そして−最に知られている。

特にＭｅｒｒｉｆ　１ｅｌｄ支持体上での、段階Ｃ）に
従う遊乱化されたＮ−末端アミノ基のアシル化は、同和
合成のために共通な一饅的条件のもとにｊテわれる。多
くの既知の変法の内、Ｎ−末端において１’　ｍ　ｏ　
ｃにより又は同等の塩基感受性保護基により保護されて
おり、側鎖のすべての官能基が保護された形にあるアミ
ノ酸（又はアミノ酸配列）を用いて、あるいは核酸の反
応性官能誘導体例えば対称無水物又は活性エステルを用
いて行われる変法が特に注目される。遊離酸を使用する
場合、使用される縮合剤はジシクロへキシルカルボジイ
ミド（又は類似の試薬）であり、好ましくは１−ヒドロ
キシヘンシトリアゾールとの組合わせにおいて、そして
第三級有機塩基、例えば第三級脂肪族もしくは環状アミ
ン又はヘテロ芳香族塩基、例えば（−リエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリ
ン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−エチルピペリジン、Ｎ
−メチルモルポリン、Ｎ、Ｎ’−ジメチルピペラジン、
又はピリジン及びその類似体、キノリン又は４−ジメチ
ルアミノピリジンの存在下で使用される。対称無水物又
は活性エステルを用いるアシル化はまた前記の第三級塩
基の存在下で、そして好ましくはさらに１−ヒドロキシ
ベンゾ！・リアゾールの存在下で行われる。適当な活性
エステルは電子吸引性置換基を担持するフェノール、例
えばｐ−二Ｉ・ロフェノール、ペンタフルオロフェノー
ル又は２，４．５−トリクロロフェノールとのエステル
、あるいはＮ−ヒドロキシアミド、例えばＮ−ヒドロキ
シサクシンイミド又はＮ−ヒドロキシ−ノルポル・Ｊ−
ンーもしくは５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸
イミドとのエステルである。上記の変法のアシル化条件
は一般に知られている。所望により、アシル化工程は反
復することができ、そして／又は正しくない配列の形成
を防止するため、残留する未アシル化出発月料を常法に
従って単純なカルボン酸誘導体、例えば無水西￥ｆＩＪ
、又は塩化アセチルによりアシル化し、そして合成のそ
の後の段階においてアミノ酸残基によりさらに不所望の
アシル化が起らないようにする。

この発明の合成のための適当なアミノ酸残基は、特にペ
プチド組立ブロックの形のＬ−糸系統天然α−アミノ酸
、及びその密′接に関連する類個体、例えば特に“非天
然”Ｄ−糸系統エナンチオマーに由来するものである。

好ましいα−アミノ酸は、例えばグリシン、アラニン、
バリン、ロイシン、イソロイシン、フェニルアラニン、
アスパラギン酸、グルタミン酸、アルギニン、ヒスデシ
ン及びリジン、そしてさらにα−アミノ酪酸、ノルバリ
ン、イソバリン、ノルロイシン、オルニチン及びシトル
リン、並びにアスパラギン、グルタミン、チロシン、ト
リプトファン、メチオニン、スレオニン、セリン、しか
しさらにプロリン及びヒドロキシプロリン（α−アミノ
基がアルキル基と結合して環を形成している）、そしζ
さらにシスティン及びシスチン（後者は、配列中の相互
に分離された位置に存在することができる、相互に一緒
に結合した２体のシスティンの一対として存在する）で
ある。さらに、鎖の任意の位置に、例えば末端Ｃ−原子
に（例えばβ−アラニン、Ｔ−アミノ酪酸又はδ−アミ
ノバレリアン酸におけるごとく）アミノ基を担持する、
ＣＩ”’　Ｃ？　−アルカンカルボン酸、特に線状のそ
れ、に由来する他のアミノ酸も適当であり、これらはさ
らに他の第一アミノ基を担持する（例えば、Ｔ−ジアミ
ノ酪酸におけるように）ことができ、又は他の官能基、
例えばヒドロキシ、メルカプト、ジスルフィド、グアニ
ジノ、カルボキシ又はカルボキサミド基により、あるい
は環状ヒドロカルビルへテロシクリル基、例えばフェニ
ル、ｐ−ヒドロキシフェニル、インドリル又はイミダゾ
リルにより置換されていることができる。これらのアミ
ノ酸が不斉炭素原子を含有する場合、これらのアミノ酸
はうセミ体の形で、又は好ましくは光学活性の形で使用
することができる。

固相合成の特定の特徴は、アミノ酸残基中の反応に関与
しない官能基（そしてさらに、液相合成においては遊離
のままであることができる官能基）が原則として保護さ
れた形であることを要求する。

保３Ｉ基の選択は合成の条件及び製造されるべき最終生
成物の用途に依存する。幾つかの官能基が保護されるべ
き場合、有利な組み合わせを選択しなければならない。

特に、Ｎ−末端保護基、例えばｒ１ｍｏｃ基の除去の間
にアミノ酸側鎖の官能基の保ｉ（！　２ｇ’が耐性であ
るように、そしてその後の合成のための保護されたベプ
チＩ゛組立ブロックが最終生成物として望まれる場合、
合成の終りにおける樹脂からの脱着のために使用される
穏和な酸性条件下で安定であるように注意すべきである
。

存在する他のアミノ基、例えばりジン残基中のε−アミ
ノ基を保護するため、ペプチド化学における一般的な、
弱塩基性条件下で安定な任意のアミノ保護基を使用する
ことができる。適当な保護基は既知の参照文献、例えば
１ｌｏｕｂｅｎ−ＷｅｙＬ　Ｍｅｔｈｏ−ｄｅｎ　ｄｅ
ｒ　Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ　Ｃｈｅｍｉｅ、第四版、
Ｖｏｌ　１５／１、　ＩＥ、Ｗｕｎｓｃｈ（）＆ｉ集）
　、５ｙｎＬｔ＋ｅｓｅ　ｖｏｎ　Ｐｅｐｔｉｄｅｎ（
Ｇｅｏｒｇ　Ｔｈｉｅｍｅ　Ｖｅｒｌａｇ、スタソトガ
ルト、１９７４）に総合的に記載されている。

従って例えば、還元により又は強い塩基性条件下で除去
することができるアミノ保ｇｉｎ、例えば特に、ベンジ
ルオキシカルボニル基、及び芳香族成分においてハロゲ
ン原子、二１・０基、低級アルコキシ基及び／又は低級
アルキル基により置換されているベンジルオキシカルボ
ニル基、例えばｐ−クロロ−もしくはｐ−プロモーベン
ジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル又はｐ
−トリルメトキシカルボニル基、そしてさらにイソニコ
チニルオキシカルボニル基、並びにさらにスルホニル基
、例えばｐ−トルエンスルホニル、ヘンゼンスルホニル
、０−二トロベンゼンスルホニル及び他の置換されたベ
ンゼンスルホニル基、又はさらにアシル基、例えばホル
ミル、トリフルオロアセチル又はフタロイル基が好まし
い。有利なアミノ保護基は、３個の炭化水素基により置
換されたシリル基、例えばトリフェニルシリル、ジメチ
ル−ｔｅｒ　ｔ−ブチル−シリル又は特にトリメチルシ
リルをβ−位にをするエトキシカルボニル基である。こ
の様なβ−（トリーヒドロカルビルシリル）−エトキシ
カルボニル基、例えばβ−（トリー低級アルキルシリル
）−エトキシカルボニル基、例えば特にβ−（トリメチ
ルシリル）−エトキシカルボニル基は、酸性加水分解及
び水素化分解の条件下では耐性であるが、しかし弗素イ
オンの作用による非常に特異的な、非常に穏和な条件下
で除去され得る。この観点におい°ζ、前記保護基はカ
ルボキシ保護基として後に記載するβ−シリルエチルエ
ステル基に類似した挙動をする。

酸分解により除去され得る基、例えば特にｔｅｒ　ｔ−
ブト・）−ジカルボニル基及び類似の基、例えばＬｅｒ
　ｔ−アミルオキシカルボニル、インプロポキシカルボ
ニル、ジイソプロピルメトキシカルボニル、アリルオキ
シカルボニル カルボニル、シクロへキシルオキシカルボニル、ｄ−イ
ソボルニルオキシカルボニル及びアダマンチルオキシカ
ルボニル、そしてさらにアラルキルタイプの基、例えば
ベンズヒドリル及びトリフェニルメチル（トリチル）、
そしてさらに、２−７リールー２−フ゛ロボー１ージカ
ルボニルタイプルコキシカルボニル基、例えば２−フェ
ニル−又は２−ｐ−ビフェニリル−２−プロボー１；ジ
カルボニル基が特に好ましい。

例えば天然アミノ酸アルギニン中に存在するグアニジノ
官能基の保護基として上記のアミン保護ノＮの１つを使
用することが可能である。スルホニル基、特に低級アル
カンスルホニル基、例えばメタン−、エタン−もしくは
・イソプロパン−スルホニル基、又はアレーンスルボニ
ル基、例えば置換されたベンゼンスルボニル基が特に好
ましく、ここで好ましい置Ｈｉｌは低級アルキル、例え
ばメーｙ−ル、低級アルコキシ、例えばメトキシ、融合
した低級アルコキシ、例えばｌ−オキサ−１，４−ブチ
レン、ニトロ、又はハロゲン、例えば塩素もしくは臭素
である。２，３．５−１リメチル−４−メトキシヘンゼ
ンスルホニル基及び２，２．５。

７−ペンタメチル−クロマン−６−スルホニル基が特に
好ましい。

ヒドロギシ保３１，Ｂとして、その目的のためにペプチ
ド化学において一般的である任，０，の基を使用するこ
とが可能である。例えば前に引用した１１ｏｕｂｅｎ−
Ｗｅｙ　ｌを参照のこと。酸分解により除去することが
できる基、例えば２−テトラヒドロピラニル基 ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルが好ましい。しかしなが
ら、還元により又は塩基性条件下で除去され得るヒドロ
キシ保護基、例えば芳香族成分中でノ＼ｌ：１ゲン、ニ
トロ及び／又は低級アルコキシにより置換されていても
よいベンジル又はヘンシルオキシカルボニル基、低級ア
ルカノイル栽、例えばアセチル、又はアロ・イル法、例
えばベンゾイル基を使用することもできる。

カルボキシ保ａ１基として、その目的のために一般的な
任意の基を使用することができる。前記の１１ｏｕｂｅ
ｎ−Ｗｅｙｌを参照のこと。すなわち、カルボキシ基は
例えばヒドラジド形成により、又はエステル化により保
護される。例えば、エステル化のためには場合によって
は置換されている低級アルカノール、例えばメタノール
、エタノール、シアンメチルアルコール、２．２．２−
１−リクロロエタノール、ベンゾイルメチルアルコール
、又は特にＬｅｒ　ｔ−ブチルアルコール、しかしさら
に場合によっては置を負されているベンジルアルコール
である。置換されたアルカノールの特に有利な類は、そ
のβ−位に置換シリル基、例えばトリフェニルシリル、
ジメチル−ｔｅｒｔ　　７’チル−シリル、又は特にト
リメチルシリルを担持するエタノールである。これらの
”ｒルコールはカルボキシ基の保護のために特に適当で
ある。なぜなら、対応するβ−シリルエチルエステル、
例えばβ−（トリメチルシリル）エチルエステルは通常
のアルキルエステルと同じ安定性を有するが、しかし弗
素イオンにより選択的に除去することができ、この際他
のすべての保８ＭＳが維持されるからである。

メルカプト保Ａ１．Ｍとして、この目的のためにペプチ
ド化学において一般的な任意の基を使用することができ
る。メルカプト基は特に適当なアシル化又はアルキル化
により保護される。例えば、アシル化のためにはアセチ
ルもしくはベンジル基、低級アルキル−（例えばエチル
−）カルバモイル基、又は場合によっては前記の様に置
換されているベンジルオキシカルボニル ル二Ｖル化のためには例えば、ｔａｒ　Ｌ−ブチル、−
イソブ１ーキシメチル、ベンジルチオメチルもしくはテ
トラヒドロピラニル基、又は場合によってはハ１コゲン
、低級アルコキシ又はニトロにより置換されているアリ
ールメチル基、例えばベンジル、ｐ−メトキシベンジル
、ジフェニルメチル、ジメ；・キシベンズヒドリル、又
はトリチル、そしてさらにフェニルシクロヘキシル、ｐ
−メトキシフェニルシクロヘキシル、又は２−チェニル
シクロへキシルが適当である。アシル基が例えばアセチ
ル又はベンゾイルであるアシルアミノメチル基も非常に
有利である。アセチルアミノメチル基が特に好ましい。

好ましくは、側鎖の保護基は、それらがｉ（Ｕの条件下
で除去され得るように選択される。酸分解により除去す
ることができ、そしてすでに注目されている基、特にｔ
ａｒ　Ｌ−ブチルに由来する基が特に好ましい。従って
、これらの保３Ｈ１のすべての除去は単一の操作によっ
て有利に行われる。

保護基は一般に既知の方法で除去される。例えば、酸分
解又は酸性加水分解はトリフルオロ酢酸、塩基又は弗化
水素により、そして容易に除去され得る保３１ｇの場合
はさらに低級脂肪族カルボン酸、例えば蟻酸及び／又は
酢酸により、ハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレン
、又は水及び場合によってはポリハロゲン化低級フルカ
ノール又は低級アルカノン、例えば１．１，１，３，３
．３−ヘキサフルオロプロパン−２−オール又はへキサ
フルオロアセ１−ンの存在下で行われる。１元により除
去され得る基例えばベンジル基を含有する基は好ましく
は水素化分解により、例えばパラジウムにより触媒され
た水素化により行われる。イソニコチニルオキシカルボ
ニル基は好ましくは亜鉛還元によって除去される。β−
シリルエトキシカルボニル基は弗素イオンにより開裂さ
れる。

この発明はまた、この発明の樹脂を用いる合成法の中間
体及び最終生成物に関する。この発明はまた、−Ｘ　−
ＩＩ基の代り−Ｎｌ１−Ｗ、−Ｘ−静−Ｗ又は−Ｘ−Ａ
Ｍ−１１の基を担持し、ここでＸが一〇−又は−Ｎ　ｌ
−１−であり、ＷがＮ−末端アミノ保護基であり、そし
てＡＭが１〜１８０個のアミノ酸残基から成るアミノ酸
配列であり、これは所望により官能基において保護され
ている、最初に記載した構造の合成樹脂、特に例１に記
載したものに関する。この発明はまた、式Ｗ−ＡＭ’　
−Ｘｌｌで表わされ、式中−Ｘ−が−〇−又は−Ｎ　［
１−であり、Ｗが末端アミノ保護基であり、そしてＡＭ
’、が場合によっては官能基において保護されている２
〜１８０個のアミノ酸残基から成るアミノ酸配列のアシ
ル基であるペプチド及びペプチドアミド、並びに式ＩＩ
−ＡＭＱ−ＸｌｌのＮ−末端アミノ基を有する類似の化
合物、特に下記の例において記載するペプチド及びペプ
チドアミドに関する。

例えばアミノ酸、ペプチド及び保護基等の記載のために
使用される略号は一般的な略号、例えば前に引用した１
ｌｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌに記載されている略号である。

特にことわらない限り、アミノ酸残基の名称及び略号は
天然り一系列のα−アミノ酸の残基を意味する。特にこ
とわらない限り、有機基又は化合物について使用する“
低級”なる語は、その基又は化合物が最大７個、しかし
好ましくは最大４個の炭素原子を有することを意味する
。

次に、例によりこの発明を具体的に説明するが、これに
よりこの発明の範囲を限定するものではない。略号は次
の意味を有する。

Ｂｏｃ　＝ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルＢｕｔ　＝Ｌ
ｅｒｔ−ブチル（エーテル中）ＴＬＣ−薄層クロマトグ
ラフィ− ＤＣＣＩ＝ジシクロへキシル力ルポジイミドロｉ＾＝ジ
メチルアセタミド ＤＭＦ　＝ジメチルホルムアミド ＤＭＳＯ＝ジメチルスルホキシド ＨＤＣ＝　１　、２−エチレンジクロリドＦＡＢ−ＭＳ
＝ファスト・アトム・ボンバードメント（Ｆａｓｔ　Ａ
ｔｏｍ旦ｏｍｂａｒｄｍｅｎｔ）マススペク；・ルＦｍ
ｏｃ＝９−フルオレニルメトキシカルボニル＋１０Ｂｔ
＝ｌ−ヒドロキシベンゾトリアゾール＋１ＰＬＣ＝高圧
液体クロマトグラフィー［ＧＦ−２−インシュリン様増
殖因子−２旧Ｆ＝マクロフア一ジ遁走阻止因子 Ｍｔｒ　−２、３、５−トリメチル−４−メトキシベン
ゼンスルホニル ＯＢｕ　ｔ　＝　ｔｅｒ　ｔ−ブチル（エステル中）Ｔ
ＦＡ　＝　トリフルオロ酢酸 ＴＩＩＦ　＝テトラヒドロフラン Ｔｒｔ　＝　トリチル 以下余白 □（ンη□ｈ　ｌ工４−ジノｌ−＝１ニジー・１′−ヒ
トし２．１−シー２　、４　’−ジヒドロキシー４−メ
トキシーヘンヅフェノンの製造ＣＲ１１ｙ、　Ｓ、　、
　Ｇｒｏｖｅｒ、　Ｐ、に、及びＡｎａｎｄ　Ｎ１Ｌｙ
ａ　　：　Ｉｎｄｉａｎ　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｒ　ＣＩ
ｉｅｍｉＣｌｌｅ　　９　＋６１９−６２３　（１９７
１））と同様にして、レゾルシノールジメチルエーテル
及び４−ヒトｍ７キシ安息香酸からｔＪｉ記化金化合物
成する。

５．００　ｇ　（１９，３ｍｍｏ　Ｅ　）の（１）を４
０　ｍｌのエタノール及び１６ｒｎｌの水中に）訃濁し
、そして４．５　ｍｌの水中３．２５　ｇ　（Ｌ９ｍｍ
ｏ　Ａ　）の水酸化セシウム−水和物の）８液を加える
。溶液を真空゛濃縮し、４　Ｑ　＋ｎｌの水／Ｌｅｒｔ
−ブチルアルコール（１：　１）に入れ、そして凍結乾
燥する。わずかに黄味がかった凍結乾燥物を２０１１ぼ
のｔａｒ　ｔ−ブチルアルコールから、拮晶化して塩（
ＩＡ）を白色粉末として得る。

以下余白 炎人　４＝−（２，ｊニジメ日・ス仝ｙｆＬ遼四月二２
０．０　ｇ　（１３，４ｍｍｏβ）のクロロメチル−ポ
リスチレン−１％ジビニルヘンゼン（Ｐ　Ｖ　Ｂ）（メ
リフィールドポリマー、フル力、スイス、０．６７ｍｍ
ｏＩＣ１／ＩＫ＞を高真空下で５０℃？ニア　ｆ　ＩＩ
；胃１）卜乾燥する。２６．１　ｇ　（６７ｍｍｏ　１
　）の（ＩＡ）を約５００１１Ｌ／のピリジンに懸濁し
、次に高真空下で蒸発濃縮し、これを３凹繰り返し、そ
して残渣を約７００１１Ｌ／の乾燥ＤＭＦに）容解し、
そして高真空下−（：　Ｖ’Ｊ　４００１ｌＩＮ　ｌン
濃縮する。樹脂を加え、そして反応９７７合物を室温に
て２０時間水分を排除しながら振とぅする。樹脂を濾過
し、そして１００＋１σずつの次の溶剤：３Ｘ、（ソプ
ロピル下ルコール、３　Ｘ　Ｄ　Ｍ　Ｆｌ、３×水、３
ＸＩ）ＭＦ、５ｘ水、４×イソプロピルアルコールによ
り洗浄する。樹ｊ１ηを高真空下で、ｌ　ＯｏＣ−４５
℃に′ζ、一定重量になるまで乾燥する。ＩＲスペクト
ルは予ｆｆｊＪＩｌりのＣ＝０バンドを示す。

例」エ　４−（２，４−ジ・メキシフェニルーヒドｌ二
［」主［ Ｔ　ＩＩ　Ｆ　ｒｉ　Ｉ　Ｍリチウムボロヒドリド１４
．５ｎ４を、５０　＋ｎｌの乾燥テＩ・ラヒドロフラン
（ＴＩＩＦ）中７．０７ｇの（２）（約４　、３ｍｍｏ
βのケトン部分）の：懸濁液に加え、そして反応混合物
を１時間、水分を排除して還流する。混合物を約０°Ｃ
〜５°Ｃに冷却した後、２４１１ぼのメタノール、及び
よく撹拌しながら（ｉ　ａｆのアセ１−ンの滴を加える
。濾過された樹脂を３０＋ｎｊずつの次の溶剤：３×メ
タノール、１×水、■×塩酸水溶液（ｐＨ約３、ａ）、
２×水、４×メタノールで洗浄する。樹脂を高真空下４
０°Ｃ〜４５°Ｃにて一定重量に達するまで乾燥する。

元素分析：　３．６７％のＯ＝　２．３１ｍｍｏ　７！
Ｏ／　ｇ　６１　Ｒスペクトル：Ｃ＝０ハンドなし。

以下余白 例ヨ’＋、　　Ｎ−Ｆｍｏｃ−Ｐｒｏｌ　　−４（２ヨ
ー土二］乞仁上０．４６ｇ　（約０．２６ｍｍｏ　Ｅ　
）の（３）　、０．３１　ｇ　（０，９２ｍｍｏ　ｌ　
）のＦｍｏｃ−Ｐｒｏ　−ＮＩ＋２　、ジクロロメタン
中１Ｍベンゼンスルホン酸溶液７６．５μｆ　（７６，
５ｐ　ｍｏ　（！　）、及び１０−のジオキサンの混合
物を３時間ｌ１１２Ｍ：　Ｌ、、そしてさらに７６．５
１１ＩのＩＭベンゼンスルボンＭ？容液を添加した後、
５０°Ｃにてさらに２０時間撹開する。樹脂を濾過し、
そして５Ｑ＋ｕＺずつの次の溶２Ｆｚ　：　５　ｘメタ
ノール、１２×ジクじ１０メタン、３×メタノール、３
×ジクロロメタンを用いて洗浄する。樹脂を高真空下で
４０°Ｃ〜５０°Ｃにて、一定重量に達するまで乾燥す
る。約２０■のサンプルを用いて、３００μｌずつの２
０％ピペリジンによる２分間ずつ４回の処理によりｌ’
　ｍ　ｏ　ｃ　＆を除去し、そしてジメチルアセタミド
（ＤＭＡ）により６回洗浄する。分光光度計分析（３０
０ｎｍ）は樹脂当り０．２３ｍｍｏ　ｌ　／　ｇのＦｍ
ｏｃの比負荷を与える。

−匹五Ｎ　−（Ｉｌｏｃ−Ｐｒｏ−Ｇｌｕ（ＯＢｕｔ）
−１１ｅ−Ｐｒｏ　　−子自動ペプチド合成機中で、０
．４２　ｇ　（９７μｍｏ　！！　）の（４）を次の様
に反応せしめることにより（５）を生成せしめる。Ｆｍ
ｏｃ基の除去とＰｍｏｃ−１１ｅ　、　Ｐｍｏｃ−Ｇｌ
ｕ（ＯＢｕｔ）及び［１ｏｃ−Ｐｒｏとの縮合（カップ
リング）とを交互に次々と行い、各場合に未反応のアミ
ノ基をアセチル化によりブロックする。

賭及びｌ？ｌｌ１ｏｃの盆去ユ脱ブロッキング）＝室温
にてｌ　Ｏｎｌずつの次の溶剤を用いる：１×イソプロ
ピルアルコール（１分間）、４×脱気したＤＭＡ（０，
５分間）、■×イソプロピルアルコール（１分間）、３
×脱気したＤ　Ｍ　Ａ　（０，５分間）、ｄＸＤＭＡ中
２０％ピペリジン（２分間）、２×水／ジオキサン（１
：　１）（１分間）、５×脱気Ｄ　Ｍ　Ａ　（０，５分
間）、３×蒸留Ｄ　Ｍ　Ａ　（０，５分間）。

カンプリング＝０．３９ｍｍｏ　ｌのＮ−保護アミノ酸
、０．６８−のＤＭＡ中０．５７Ｍ　　ｌ−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール（ＩＩＯＢＬ）　（０，３９ｍｍｏ
　ｊ！　）及び０．１８−のＤＭＡ中２．４Ｍジシクロ
へキシルカルボジイミド（ＤＣＣＩ）　、０．２０ａｆ
のＤＭＡの添加（室温にて２０分間、４０℃にて２時間
）。

洗浄及び残留″ｔ１離アミノ基のヱ皇±土化＝　ｌ　Ｘ
　無水酢酸／ピリジン／ＤＭＡ　（１ｉ　１　：　８容
量）（５分間）、３×脱気ＤＭＡ、ｌｘイソプロピルア
ルＤ−ル（１分間）、３×脱気Ｄ　Ｍ　Ａ　（０，５分
間）。

樹脂をイソプロパツール（３Ｘ５ｎｔｆ）で洗浄シ、そ
して高真空上室温にて乾燥する。

氾１ｔ−Ｐｒｏ−Ｇｌｕ−１１ｅ−Ｐｒｏ−Ｎｌ１ｇ０
．４６ｇ　（約９０μｍｏｉりの（５）を室温にて１５
分間トリフルオロ酢酸／ジクロロメタン（１：１容量）
中で撹拌し、そして樹脂を濾取し、そして約１０＋ｎｊ
ずつのジクロロメタンで３回洗浄する。濾液を約２−に
真空濃縮し、そして撹拌しながら１０ａｆのエーテルに
満願する。沈澱を濾取し、そして真空乾燥する。薄層ク
ロマトグラフィー及びＩＩＰＬＣによれば、生ずる無色
の粉末は溶液重合法により製造された真正なテトラペプ
チドアミドと同一である。

以下余白 劃」ユＯ（Ｆｍｏｃ−Ｇｌ　）−ヒドロキシ１ヒ（６）
２．０ｇ（約１ｍｍｏｌ）の（３）　、１．１９ｇ　（
４ｍｉｎｏ　１　）のＦｍｏｃ−Ｇｌｙ−０１！　、及
び０．８７　ｇ　（４，２ｍｏｎｏ　ｌ　）のＤＣＣＩ
をθ℃〜５℃にて５分間、２０ａｆの１．２−エタンジ
クロリド（ＥＤＣ）中で撹拌し、２４■（０，２ｍｍｏ
　ｎ　）の４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）を
加え、そしてさらに２０分間約５℃に置いた後、１１０
μｇ　（Ｉ　ＩＩＩｍｏｌ）のＮ−メチルモルボリンを
加える。混合物を室温にて４時間撹拌する。濾過された
樹脂をペプチド合成機中で２０−ずつの３×メタノール
、３ＸＥＤＣ，３ＸＤＭＡにより０．５分間ずつ洗浄す
る。樹脂中になお存在するヒドロキシ基をブロックする
ため、樹脂を室温にて２時間、１．２艷のピリジン及び
６−のＤＭＡ中１．２３　ｇ　　（５，４ｍｎ＋ｏ　Ｉ
Ｉ　）の無水安息香酸と共に撹拌し、そして２０−ずつ
の２×イソプロピルアルコール、３×脱気ＤＭＡ、’ｌ
ｘイソプロピルアルコール、６ＸＥＤＣ，２Ｘイソプロ
ピルアルコ−／Ｌ７．３　ｘｊ５１気ＤＭＡ、　３　Ｘ
イソプロピルアルコールにより０．５分間ずつ洗浄する
。高真空下４５℃にて乾燥した標記化合物は０．２６ｍ
ｍｏ　１　／　ｇのＦｍｏｃを含有する。

（６）と同様にして樹脂化合物（７）を得る。

このものは０．３３＋＋ｍｏ　ｊ！　／　ｇのＰｍｏｃ
を含有する。

１．１０　ｇ　（０，３６ｍｍｏ　ＩＩ　）の例９から
の（７）をペプチド合成機中で、例６と同様にして洗浄
工程及びＦｍｏｃ除去工程を用いて反応せしめる。アミ
ノ酸１０〜１８　（すなわち、ニグリンＣの４６〜５４
）を、１．８−のＤＭＡ中２．４．５−）ジクロロフェ
ニルエステル（１，０８ｅｍｏ　１　）の形で、ＤＭＡ
中０．５７Ｍ　ｌｌ０Ｂｔ（１、０８ｍｍｏ　ｊ！　）
及び０．２８５Ｍジイソブ口ピルエチルアミン（０，５
４ｍｍｏ　１　）　１．８９ｍ／の添加を伴ッテ、室温
にて２時間カップリングせしめる。この工程を、アミノ
酸１１　、１２　、１６及び１８（すなわち、ニグリン
Ｃの４７　、４８　、５２及び５４）について反復する
。アミノ酸１〜９　（すなわち、ニグリンＣの３７〜４
５）は対称無水物（１、０８ｍｍｏ　ＩＩ　）の形でカ
ップリングのために用いる。２．１６ｍｍｏ　ｌのＦｍ
ｏｃ−アミノ酸を１０１１１Ｉのジクロロメタンに溶解
しくＦｍｏｃ−Ｇｌｙ−Ｏｆｆの場合は１１１１ｉのＤ
ＭＡを伴う）、２４５ｕｖ（１，１２ｍｍｏｆｆのりＣ
Ｃｌを室温にてｌｌ？１押しながら添加し、全体を室温
υこで１５分間保持し、沈澱したジシクロ・＼４−シル
尿素を濾去し、’１．５　ｎＪ！のＤＭＡ　（藤留した
もの）、８濾液に加え、そしてジクロロメタンを真空除
去する。各場合に、この混合物を合成樹脂に添加し、ぞ
して５８μｌ（０，３６ｍｍｏ　１　＞のジイソプロピ
ルエチルアミンを添加した後、室温にて１時間保持する
。

合成が完結し、そして末端Ｆｍｏｃ基が例５に記載した
ようにして除去されたとき、樹脂を５　ｍｌずつのイソ
プロピルアルコールにより５回洗浄し、そして高真空上
室温にて乾燥する。

例狙ユ皿笠麦茸１−＼れた　β−Ａｌａ”　　−ニゲＩ
Ｆ１．５５ｇ　（約８７μｍｏｂ＞の例１Ｏからの（８
）を室温にて１．５時間、２０−のジクロロメタン／酢
酸（９：１容量）と共にに撹拌し、樹脂を濾取し、そし
てＬｏｎｅずつの３×ジクロロメタン、４×メタノール
、４×ジクロロメタンにより洗浄する。最初の濾過を洗
浄液と一緒にし、そして真空濃縮し、約５ｍＺの酢酸を
添加し、そして全体を凍結乾燥して無色粉末状の標記化
合物を得る。廿匹＝Ｎｕｃｌｅｏｓｉｌ　　５　Ｃ１８
＋　　２５　Ｘ　４．６　ａｓ　；グラジェント）８出
：１００％△１０％Ｂ−０％Ａ／１００％Ｂ、６０分間
；Ａ−水０．１％ＴＦＡ、１３−アセ１〜二ｔ・リルＯ
，１％′ＦＦ八において、保持時間５２分である。分鬼
叫肛匹−１Ｌ■を５００μノのトリフルオロエタノール
／７セトニトリル（１：　１）に溶解し、上記のカラム
及びグラジェント潴出を用いて分離を行い、そして主画
分を集め、そして蒸発により濃縮する。こうして６．８
　ｎｖの生成物を得る。この生成物はＩＩＰＬＣによれ
ば９０％より多くの標記化合物を含有する。

１．２０ｇ　（０，３１ｍｍｏ＃　）の例８からの（６
）をペプチド合成機中で、例６に記載したように洗浄工
程及びＰｍｏｃ除去工程を用いて反応せしめる。すべて
のアミノ酸は、カンプリング（１時間）のため、対称無
水物（３当量：例１０に記載したようにして製造）の形
で用いる。アミノ酸１４　、１７及び１８（すなわち、
ＩＣＦ−２の３６　、３９及び４０）については、カッ
プリング工程を反復する（１時間）。

合成が完了したとき、樹脂を３回５−ずつのインプロパ
ツールで洗浄し、そして高真空下で乾燥する。

以下余白 う引ＩＪ、Ｆｍｏｃ−へｓ　　（Ｏｌｌｕｔ）−Ａｒ　
　（Ｍｔｒ）−Ｇｌ　　−Ｐｈｅ−Ｔ　　ｒ（Ｂｕｔ）
１．６５ｇ　　（約１５４μｍｏｆｆ）の例１２からの
（９）を、例１１と同様にして３３ｍ１のジクロロメタ
ン／酢Ｍ　（９：　１容量）により開裂せしめ、そして
洗浄する。凍結乾燥により無色粉末を得る。精製のため
、この生成物を自動向流分配装置（５ＩＩＪ／相）にお
いて、メタノール／水／クロロホルム／四塩化炭素混合
物（２７０００：　６７５　　：　９００　　二１５７
５）を用いて１．０５０段階にわたって分配する。両分
４６〜７５は純粋な（ＴＬＣ、ＩＩＰＬＣによる）標記
化合物を含有しており、これらを−緒にし”ζ蒸発によ
り濃縮し、残渣をエーテルと共にすりつぶし、そして濾
過する。ＴＬＣ（シリカゲル上での４種類の系）及び＋
１ＰＬｃ　（例１１に記載した系：保持時間５７分間）
によれば、得られた無色粉末は均一である。

Ｉ’ＡＢ−ＭＳ　（ファスト・アトム・ボンバード・マ
ス・スペクトル）：正しい質量ピーク（２４８０）を示
す。

チレン〕 ４．１ｇ（約１　、８９ｍｍｏ　ｅ　）のヒドロキシ樹
脂（３）を８０１ＴＬ／のジオキサンに）脈濁する。１
．３５　ｇ　（５，６５ｍｍｏ　ｌ　）の９−フルオレ
ニルメチルカルバメート（Ｃａｒｐｉｎｏ、　Ｌ、Ａ、
等、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、　４Ｂ、　６６１　（１９
８３）に従って製造〕及び１．２−エタンジクロリド９
１Ｍベンゼンスルホン酸（０，４７ｍｍｏｆ　）　０．
４７ｍ／を加え、そして混合物を５０℃にて３時間保護
する。

さらに０．４７＋＋ｉ／の１Ｍベンゼンスルホン酸を添
加した後、全体を５０℃にてさらに１７時間反応せしめ
る。樹脂を濾過し、そして３０　ｏｆずつの３×イソプ
ロピルアルコール、３ＸＥＤＣ，ｌｘジメチルアセタミ
ド（ＤＭＡ）　、６Ｘイソプロピルアルコール、３ＸＤ
ＭＡにより洗浄する。次に、樹脂を室温にて２時間、２
５ｍ１のＤＭＡ及び５ｍｌのピリジン中５．０ｇの無水
安息香酸と共に保持して未反応のヒドロキシ基をブロッ
クし、そして前記の様にして洗浄する。最終洗浄は６×
イソプロピルアルコールにより行う。次に、得られるＦ
ｌｌｌＯＣ−アミノ樹脂（１０）を、重量が一定に達す
るまで高真空下で乾燥する。例５に従ってサンプルを開
裂せしめた後、分光光度計によるＦｍｏｃの測定は、樹
脂当り０．３５ｍｍｏ　ＩＩ　／　ｇのＩｌｍｏｃの比
負荷を与えた。

遊離アミノ樹脂を製造するため、ジメチルアセタミド（
ＤＭＡ）中２０％ピペリジン３０　ｍｆ　ｌＪ２．０ｇ
のＰｍｏｃ−アミノ樹脂（１０）を室温にて１時間撹拌
し、濾過し、ＤＭＡ中２０％ピペリジンの追加の３０ｍ
Ｚにより再度処理し、そして３０　ｍｌずつの３ＸＤＭ
Ａ、３ｘイソプロピルアルコール、３ＸＤＭＡ、５ｘイ
・ソプロピルアルコールにより洗浄する。樹脂を、一定
重量になるまで、高真空下で乾燥する。

０．５０ｇ　　（約１７５１Ｊ　ｍｏ　ｌ　）の例１４
からのＶｍｏｃ　−アミノ樹脂（１０）を、自動ペプチ
ド合成機中で、次の反応工程により、Ｆｍｏｃ基の除去
、並びにＦｍｏｃ−Ｇｌｙ　、　Ｆｍｏｃ−Ｐｒｏ＋　
Ｉ’ｍｏｃ−Ｇｌｙ、　Ｆｍｏｃ−Ｇｌｕ（０［１ｕｔ
）。

Ｆｍｏｃ−八５ｐ（ＯＢｕｔ）、　　Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ
、　　Ｆｍｏｃ−Ｇｌｕ（Ｏｌｌｕｔ）。

Ｆｍｏｃ−１１ｉｓ（Ｔｒｔ）及びＦｍｏｃ−Ｍｅｔの
縮合を交互に反復し１、各場合において未反応の基をア
セチル化によりブロックすることにより、反応せしめる
。

最及びＦｍｏｃの徐人（脱ブロック）＝室温にて、ｌＯ
ｄずつの１×イソプロピルアルコール（１分間）、４×
脱気Ｄ　Ｍ　Ａ　（０，５分間）　、６ＸＤＭＡ中２０
％ピペリジン（２分間）、２×脱気ＤＭＡ（０，５分間
）　、ｌ　ｘイソプロピルアルコール（１分間）、４×
脱気Ｄ　Ｍ　Ａ　（０，５分間）、３×蒸留ＤＭＡ　（
０，５分間）。

カップリング−０，５２ｍｍｏ　１の保護されたアミノ
酸２．４．５−）リクロロフェニルエステル、及ヒＤＭ
Ａ中０．５７Ｍ　　１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
（ＩＩＯＢ　ｔ）　／　０．５７　Ｍジイソプロピルエ
チルアミン０．９２＋ｎＺ（０，５２ｍｍｏ＃　）　、
０．８８ｍ７のＤＭＡ添加（室温にて３０分間）。

洗浄及び残留遊離アミノ基の１と（ｌツと化、−１ｘ無
水酢酸／ピリジン／ＤＭＡ　（１：　１　Ｆ　Ｂ容量）
（５分間）、３×脱気Ｄ　Ｍ　Ａ　（０，５分間）、ｌ
×イソプロピルアルコール（１分間）　、３×脱気ＤＭ
Ａ（０，５分間）。

末端Ｆｍｏｃ基を前記の方法により除去する。樹脂をイ
ソプロピルアルコールで洗浄し、そして室温にて高真空
下で乾燥する。

上Ｌ ０．６５ｇ　（約１５０ｍｍｏ　１　）の例１５からの
（１１）をカラム中で６０分間、約３０ｍＩのジクロロ
メタン中２％トリフルオロ酢酸により洗浄し、溶出液を
約０．３−に濃縮し、ｌ　ｍｆのＴＦＡ／水（９５：５
容量）を加え、そして全体を室温にて１５分間保持して
保護基を完全に除去する。５−のジイソプロピルエーテ
ルを添加することによりペプチドアミドを沈澱せしめる
。沈澱を濾取しそして真空乾燥する。生成物を５ａｆの
水に溶解し、濁った部分を遠心分離により除去し、そし
て上清を凍結乾燥する。無色の粉末を得る。これはＩＩ
ＰＬｃによれば９０％より多くの標記化合物を含む。匹
−保持時間６．８分ＨＮｕｃｌｅｏｓｉｌカラム７　Ｃ
Ｉ［ｌ　、　　１２０Ｘ　４．６　ｓｎ；グラジェント
：１００％Ｖ１０％Ｂ→１０％Ａ／９０％Ｂ、３０分間
ｉ　Ａ　＝　０．１％’ｒＦ　Ｖ　／水、Ｂ−〇、１％
Ｔ　Ｉ”　Ａ　／アセトニトリル検出２１５ｎｍにて。

ＦＡＲ−ＭＳ：質量ピーク９２７（Ｍ→Ｉ］゛）。

Ｔｈｒ（Ｉｌｕｔ）−Ｌｅｕ−Ｇｌｎ−円１ｅ−νａｌ
−Ｃｙｓ　　（ＳＢｕｔ）−１、００ｇ　　（約０，　
３６ｍｍｏ　Ｉ！　）の○−（１７ｍ６ｃｍＧｌｙ）−
ヒトロー１−シ樹脂（６）をペプチド合成機中で、例１
５に類似する洗浄工程及びＦｍｏｃ−除去工程を用いて
反応せしめる。

カップリング：　Ｖａｌ，　Ｇｌｕ，　Ｇｌｙ，　Ｌｅ
ｕ及びＡｒ８は１、２０ｍ／のＤＭＡ中Ｆｍｏｃ−アミ
ノ酸２，４．５−トリクロロフェニルエステル（０．７
２ｍｍｏ　！！　）の形で、ＤＭＡ中０．　５　Ｍ　Ｉ
ＩＯＢｔ／　０．　５　Ｍジイソプロピルエチルアミン
１．４４ｍ／と共に室温にて１時間カップリングせしめ
る。他のアミノ酸誘導体は対称無水物（１．０８ｍｍｏ
　ｊ！　）の形（例１Ｏと同様にしてＩＡＩ製）で室温
にて１時間カップリングせしめる。アミノ酸３　、　８
　、１０，１１，１８．２０及び２１の場合、工程を反
復する（再カップリング）。合成が完了したとき、樹脂
をイソプロピルアルコールで５回洗浄する。

末端Ｆ　ｍ　ｏ　ｃ基が維持されている。次に高真空下
で乾燥する。

１、８０ｇ　　（約０．　１９ｍｍｏ　ｌ　）の例１７
からの（１２）を室温にて１．　５時間、３５ＩＩＩＺ
のジクロロメタン／酢酸（９：ｌ容量）と混合する。樹
脂を濾取し、難溶性画分を６０°Ｃにて３×５０−ジメ
チルスルボギシド（ＤＭＳＯ）　、３　ｘ　ｌ−リフル
オロエタノール／ジクロロメタン（１：１容計）、ＩＸ
Ｎ−メチルピロリドン／ＤＭＳＯ　（　８　：　２容量
）で抽出する。−緒にした゛濾液を高真空下での蒸発に
より濃縮し、そして残渣を５０℃にて１時間、５−の水
／メタノール＜５：９５容量）と共に撹拌する。不溶性
物質を濾取し、そして高真空上室温にて乾燥する。

非常に難溶性の両分はＩＩＰＬＣ法により分析すること
ができない。ＴＬＣ　（２種類の系）：生成物の純度は
９０％より高いＣＤＭＳＯ／　Ｎ−メチルピロリドン（
２：８）に２容解〕。ＦＡＢ−ＭＳ：質量ピーク３５３
９（Ｍ−トＮａ’）。

以下余白 ４！Ｉ！ｕｉＬＯ−（Ｆｍｏｃ−Δｌａ−Ｔ　ｒ（Ｂｕ
ｔ）−Ａｒ　（Ｍｔｒ）−Ｐｒｏ−１、００ｇ　（約０
．３６ｍｍｏ　１　）のＯ−（Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ）−ヒ
ドロキシ樹脂（６）をペプチド合成機中で、例１５と同
様にして洗浄工程及びＦ　ｍ　ｏ　ｃ−除去工程を用い
て反応せしめる。

左ユプエｌｌニアミノ酸誘導体を対称無水物（１．０８
ｍｍｏ　ｌ　）の形（例１０と同様にして調製する）で
室温にて１時間カップリングせしめる。アミノ酸ＮＱ３
　、　８及び９の場合、カンプリング工程を２当量の２
　、　４　、　５　−　１−リクロロフェニルエステル
を用いて反復する。合成が完了した時、樹脂を５回イソ
プロピルアルコールにより洗浄し、末端Ｆｍｏｃ基を維
持し、そして高真空下で乾燥する。

以下余白 ＝イクリニ２０．　　Ｆｍｏｃ−Ａｌａ−Ｊ−八ｒ＋（
ＭＬｒ）−Ｐｒｏ−５ｅｒ（Ｂｕｔ）１．５ｇ（約０．
１９ｍｍｏ　１　）の例１９からの（１３）を室温にて
１．５時間、３Ｑｎｆのジクロロメタン／酢酸（９：１
容量）と混合する。樹脂を除去し、そして濾液を真空濃
縮し、そして高真空下で凍結乾燥する。得られる無色の
わ）末を精製のために自動向流分配機（５ｍ１／相）中
で例１３の場合と同じ混合物を用いて１３３０段分配す
る。両分６５〜Ｉｌｌが純粋な（ＴＬＣ、ＩＩＰＬＣに
よる）標記化合物を含有し、これらを−緒に蒸発濃縮す
る。残渣をエーテルと共にすりつぶし、そして濾過する
。ＴＬＣ（シリカゲル上での５種類の系）及びＩＩＰＬ
ｃによれば、無色の粉末は均一である。保持時間２４．
１分間；Ｎｕｃｌｅｏｓｉｌカラム５　Ｃｐｓ　、　４
．６　Ｘ　２５０１ｍ　；グラジェント溶出＝５０％Ａ
１５０％Ａ−０％Ａ／１００％Ｂ、３０分間；　Ａ　＝
　０．１％Ｔ　Ｆ　Ａ　／水、Ｂ−〇、１％ＴＦＡ／ア
セトニトリル、１．ＯｍＺ／分；検出　：　２１５０ｍ
・。

１．００ｇ　　（約０．３１ｍｍｏ　ｌ！、　）のＯ−
（Ｆｏ＋ｏｃ−Ｇａｂａ　）−ヒドロキシ樹脂（グリシ
ンの代りに４−アミノ酪酸を用いて例８に従って製造し
たもの）をペプチド合成機中で、例１５と同様にして洗
浄工程及びＦｍｏｃ−除去を用いて反応せしめる。

カップリング：アミノＭ、誘導体を対称無水物の形（０
，９３ｍｍｏ　ｌ　）　（例１０と同様ニジ−（調ｍ−
ｒ４）で室温にて１時間カップリングせしめる。Ｐｈｅ
及びＡ！ｉｎは２．４．５−トリクロロフヱニルエステ
ル（２当量）の形でカップリングせしめる。アミノ酸１
（八ｓｎ）については再カップリングを行う。合成が完
了した時、そして末端Ｆｍｏｃ基が除去された後、樹脂
をイソプロピルアルコールで５回洗浄し、そして高真空
下で乾燥する。

１．３８ｇ　　（約０．２６ｔａｍｏ　１　）の例２１
からの（１４）を５０℃にて１時間、ＤＭＡ中５％ピリ
ジン塩酸塩５ｍｆと混合する。樹脂を濾取し、ＤＭＳＯ
で洗浄し、濾液を高真空下で濃縮しそしてＤＭＳＯから
１回及びｊｅｒｔ−ブチルアルコールから２回凍結乾燥
する。

旧ＩＬＣによれば得られる無色粉末は９５％より高い純
度を有し、そしてＩＩＰＬｃ及びＴＬＣにおいて液相合
成により製造された真正な標品と同一である。

ＩＩＩ）ＬＣ＝保持時間２０．６分間；　Ｎｕｃｌｅｏ
ｓｉｌカラム５　Ｃｐｓ　、　４．６　Ｘ　２５０ａａ
　；グラジエン溶出：１００％Ｖ１０％Ｂ→１０％Ａ／
９０％Ｂ１３０分間；Ａ＝０．１％ＴＦＡ／水、Ｂ　＝
　０．１％ＴＦＡ／アセトニトリル、１．　ＯｎＪ　／
分；検出２１５ｎｍ０以下余白

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、固相ペプチド合成のための支持体として使用するこ
   とができそして０〜５ｍｏｌ％のジビニルベンゼンによ
   り架橋されているポリスチレンを基礎とする合成樹脂で
   あって、その骨格構造のベンゼン環において次の式（
   I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｘは−Ｏ−又は−ＮＨ−であり、そしてＲはＣ
   ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基である）で表わされる基によ
   り置換されていることを特徴とする合成樹脂。 ２、前記ポリスチレンが１〜２ｍｏｌ％のジビニルベン
   ゼンを有するコポリマーの形態にある、請求項１に記載
   の合成樹脂。 ３、式（ I ）においてＸが−Ｏ−であり、そしてＲが
   メチル基である、請求項１又は２に記載の合成樹脂。 ４、式（ I ）においてＸが−ＮＨ−であり、そしてＲ
   がメチル基である、請求項１又は２に記載の合成樹脂。 ５、固相ペプチド合成のための支持体として使用するこ
   とができ、０〜５ｍｏｌ％のジビニルベンゼンにより架
   橋されたポリスチレンを基礎としており、そして骨格構
   造のベンゼン環において次の式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｘは−Ｏ−又は−ＮＨ−であり、そしてＲはＣ
   ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基である）で表わされる基によ
   り置換されている合成樹脂の製造方法であって、固相ペ
   プチド合成のための支持体として使用することができ、
   ０〜５ｍｏｌ％のジビニルベンゼンにより架橋されてお
   り、そして骨格構造のベンゼン環においてクロロメチル
   化又はブロモメチル化されているポリスチレンをａ）次
   の式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中Ｍはアルカリ金属であり、そしてＲは前記の意味
   を有する） で表わされる化合物； ｂ）還元剤；及び、Ｘが−ＮＨ−である場合には ｃ）アミノ基を導入する試薬； と順次反応せしめることを特徴とする方法。 ６、Ｍがセシウムである式（II）の化合物を用いて反応
   を行うことを特徴とする請求項５に記載の方法。 ７、段階ｂ）においてコンプレックスヒドリド又はジボ
   ランを用いて還元を行うことを特徴とする請求項５又は
   ６に記載の方法。 ８、Ｒがメチル基である式（II）の化合物を用いて反応
   を行うことを特徴とする請求項５〜７のいずれか１項に
   記載の方法。 ９、固相合成の支持体として請求項１に記載の合成樹脂
   を使用することを特徴とするペプチド及びペプチドアミ
   ドの製造方法。 １０、Ｎ−末端及び／又は他の官能基において保護され
   ているペプチド又はペプチドアミドを製造することを特
   徴とする請求項９に記載の方法。 １１、ａ）合成樹脂を、次の式： Ｗ＾１−ＡＭ＾−Ｙ−II （式中、Ｙは−Ｏ−又は−ＮＨ−であり、Ｗ＾１はＮ−
   末端アミノ保護基であり、そしてＡＭ＾１は１〜２５個
   のアミノ酸残基から成るアミノ酸配列のアシル基であっ
   て、この配列は所望により官能基において保護されてい
   る） で表わされる化合物と、又はその反応性官能誘導体と反
   応せしめることにより前記樹脂の−Ｘ−基にＷ＾１−Ａ
   Ｍ＾１−残基を付加し； ｂ）Ｎ−末端保護基Ｗ＾１を除去し； ｃ）遊離したＮ−末端アミノ基を、次の式：Ｗ＾２−Ａ
   Ｍ＾２−ＯＨ （式中、Ｗ＾２及びＭ＾２は前記の基Ｗ＾１及びＭ＾１
   と類似の意味を有する） で表わされる酸と、又はその反応性官能誘導体と反応せ
   しめることによりアシル化し； ｄ）段階ｂ）に従う除去及び段階ｃ）に従うアシル化の
   交互の操作を、目的とするアミノ酸配列が得られるまで
   必要なだけ反復し：そして ｅ）生じたペプチド又はペプチドアミドを、所望により
   保護基の除去の後又は保護基の除去と同時に、酸分解に
   より前記樹脂から切り離す；ことを特徴とする請求項９
   又は１０に記載の方法。 １２、塩基性条件下で除去することができるアミノ保護
   基Ｗ＾１又はＷ＾２を用いてＮ−末端アミノ基を保護し
   、そして段階ｂ）に従う除去を塩基を用いて行うことを
   特徴とする請求項１１に記載の方法。 １３、塩基性条件下で除去され得るアミノ保護基Ｗ＾１
   又はＷ＾２として９−フルオレニルメトキシカルボニル
   基（Ｆｍｏｃ）を使用することを特徴とする請求項１２
   に記載の方法。 １４、段階ａ）において、Ｘが−Ｏ−である合成樹脂を
   Ｗ＾１及びＡＭ＾１が請求項１１に記載した意味を有す
   る式Ｗ＾１−ＡＭ＾１−ＯＨの酸と又はその反応性官能
   誘導体と反応せしめ、そして最終生成物を酸性形で取り
   出すことを特徴とする請求項１１〜１３のいずれか１項
   に記載の方法。 １５、段階ａ）において、Ｘが−Ｏ−である合成樹脂を
   Ｗ＾１及びＡＭ＾１が請求項１１に記載した意味を有す
   る式Ｗ＾１−ＡＭ＾１−ＮＨ＿２のアミドと反応せしめ
   、そして最終生成物をペプチドアミドの形で取り出すこ
   とを特徴とする請求項１１〜１３のいずれか１項に記載
   の方法。 １６、段階ａ）において、Ｘが−ＮＨ−である合成樹脂
   をＷ＾１及びＡＭ＾１が請求項１１の意味を有する式Ｗ
   ＾１−ＡＭ＾１−ＯＨの酸と、又はその反応性官能誘導
   体と反応せしめ、そして最終生成物をペプチドアミドの
   形で取り出すことを特徴とする請求項１１〜１３のいず
   れか１項に記載の方法。 １７、ペプチド及びペプチドアミドの固相合成における
   支持体としての、請求項１に記載の合成樹脂の使用。 １８、請求項１に記載の構造を有する合成樹脂であるが
   、しかし−Ｘ−Ｈ基の代りに−ＮＨ−Ｗ、−Ｘ−ＡＭ−
   Ｗ、又は−Ｘ−ＡＭ−Ｈ基を有し、ここで−Ｘ−は−Ｏ
   −又は−ＮＨ−であり、ＷはＮ−末端アミノ保護基であ
   り、そしてＡＭは所望により官能基において保護されて
   いる１〜１８０個のアミノ酸残基から成るアミノ酸配列
   のアシル基である、該合成樹脂。 １９、請求項１１の方法により得られるペプチド又はペ
   プチドアミドであって、式Ｗ−ＡＭ＾０−ＸＨ又は式Ｈ
   −ＡＭ＾０−ＸＨの構造を有し、ここでＸは−Ｏ−又は
   −ＮＨ−であり、ＷはＮ−末端アミノ保護基であり、そ
   してＡＭ＾０は所望により官能基において保護されてい
   る２〜１８０個のアミノ酸残基から成るアミノ酸配列の
   アシル基である、該ペプチド又はペプチドアミド。 ２０、例のいずれかに記載されている、請求項１９に記
   載のペプチド又はペプチドアミド。