JPS63263645A - 光デイスクの製造方法 - Google Patents
光デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS63263645A JPS63263645A JP9793187A JP9793187A JPS63263645A JP S63263645 A JPS63263645 A JP S63263645A JP 9793187 A JP9793187 A JP 9793187A JP 9793187 A JP9793187 A JP 9793187A JP S63263645 A JPS63263645 A JP S63263645A
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- JP
- Japan
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- recording material
- optical
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は例えば読み出し専用の光ディスク及び複l1
lI元ディスクを製造する方法に関し、さらに詳しくは
、マスクを用いて露光することによる多量生産法に関す
るものである。
lI元ディスクを製造する方法に関し、さらに詳しくは
、マスクを用いて露光することによる多量生産法に関す
るものである。
元ディスクは情報を記録するものである。情報はディス
ク上にあるら旋状のみぞに配列された大きさのいろいろ
異った個別的な光学的すきま、又は、切れ目の分布とし
て記録されている。この光学的すきまは1円形から楕円
形Kまでその形が変わる。このような光学的すきまの実
質的な部分は1ミクロン(10メートルノ以下の最小寸
法をもっている。
ク上にあるら旋状のみぞに配列された大きさのいろいろ
異った個別的な光学的すきま、又は、切れ目の分布とし
て記録されている。この光学的すきまは1円形から楕円
形Kまでその形が変わる。このような光学的すきまの実
質的な部分は1ミクロン(10メートルノ以下の最小寸
法をもっている。
第2図(1)〜−は例えば雑誌(色材、5s(s)35
7−387.1986)に示された従来の光ディスクの
製造方法を工程順に各1穆における基゛板等の様子を表
わす断面図により示すものである。
7−387.1986)に示された従来の光ディスクの
製造方法を工程順に各1穆における基゛板等の様子を表
わす断面図により示すものである。
まず基板+1+を用意し、洗浄した基板11)の上にレ
ジスト(20り塗布する(11)。゛レジスト(20り
をレーザ(30りで露光を行ない(ii+)エツチング
し必要部分のレジスト(201) 以外即ち露光部を
除去するOv)。
ジスト(20り塗布する(11)。゛レジスト(20り
をレーザ(30りで露光を行ない(ii+)エツチング
し必要部分のレジスト(201) 以外即ち露光部を
除去するOv)。
基板表面に金属薄膜(11りを蒸着により形成しくV)
、さらに金属薄膜(11りの上にメンキして金属(12
りを厚付は金属a3を形成する(vDoこの金型0(+
50)を基板Tllからはずし、スタンパa3とする輸
1;。
、さらに金属薄膜(11りの上にメンキして金属(12
りを厚付は金属a3を形成する(vDoこの金型0(+
50)を基板Tllからはずし、スタンパa3とする輸
1;。
樹脂α4をスタンパ0で成形するvll)。成形した樹
脂Iの表面に蒸着によシ反射層+isを形成する。関。
脂Iの表面に蒸着によシ反射層+isを形成する。関。
最後に記録面の傷防止のために保護コートt19を塗付
して元ディスク(+00)を得る(×)。ディスクを大
量に生産するためにはスタンパが多数必要になる。
して元ディスク(+00)を得る(×)。ディスクを大
量に生産するためにはスタンパが多数必要になる。
この従来の製造方法ではスタンパを作るために蒸着やメ
ッキ工程が必要であシ、さらに複製の行程でも蒸着工程
が必要で、多数の装置や時間を必要とした。
ッキ工程が必要であシ、さらに複製の行程でも蒸着工程
が必要で、多数の装置や時間を必要とした。
一方最小寸法が1ミクロン以下のすきまを有する光ディ
スクは、写真的プリント法によってうま(複製すること
ができなかった。又投射プリント法も光ディスクの大き
さく直径約30 cm etc、)を全域にわたって十
分に解像しうるような光学的投射装置がないために成功
していない。
スクは、写真的プリント法によってうま(複製すること
ができなかった。又投射プリント法も光ディスクの大き
さく直径約30 cm etc、)を全域にわたって十
分に解像しうるような光学的投射装置がないために成功
していない。
従来の元ディスクの製造方法ではスタンパを作成するた
めに、メッキ、蒸着、ディスクの複製のために蒸着等の
工程を繰り返さなければならないため、大がかりな装置
を使用し2時間が多くかかるなどという問題点があった
。
めに、メッキ、蒸着、ディスクの複製のために蒸着等の
工程を繰り返さなければならないため、大がかりな装置
を使用し2時間が多くかかるなどという問題点があった
。
又、これまで光ディスクは大きな記憶容量を持つため、
ROMなどへの応用といった高性能化への研究が多(な
されている。しかしながう、昨今の情報化時代において
は大容量の情報を半永久的に保存するのみでなく、使い
捨ての情報も必要となって(る。現在、使い捨ての情報
源として新聞や週刊誌等があるがこのようなものと同レ
ベルでビデオディスクを提供するといったようなニーズ
を考えた場合、ある程度の性能でよい代わりに安価で大
量に生産されることが必要となる。
ROMなどへの応用といった高性能化への研究が多(な
されている。しかしながう、昨今の情報化時代において
は大容量の情報を半永久的に保存するのみでなく、使い
捨ての情報も必要となって(る。現在、使い捨ての情報
源として新聞や週刊誌等があるがこのようなものと同レ
ベルでビデオディスクを提供するといったようなニーズ
を考えた場合、ある程度の性能でよい代わりに安価で大
量に生産されることが必要となる。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので1例えば読み出し専用の光ディスクを短時間で
大量簡便に複製、製造する方法を提供することを目的と
する。
たもので1例えば読み出し専用の光ディスクを短時間で
大量簡便に複製、製造する方法を提供することを目的と
する。
この発明の元ディスクの製造方法は、信号が記録された
フォトマスクを用いて少くともジアゾニウム塩化合物を
含む光記録材料が付着された基板を露光し、露光後の基
板を現像し、未露光部を発色させることにより、上記フ
ォトマスク上に記録された信号を上記基板上に複製する
ようにしたものである。
フォトマスクを用いて少くともジアゾニウム塩化合物を
含む光記録材料が付着された基板を露光し、露光後の基
板を現像し、未露光部を発色させることにより、上記フ
ォトマスク上に記録された信号を上記基板上に複製する
ようにしたものである。
この発明の光ディスクの製造方法は信号が記録されたフ
ォトマスクを用いて光記録材料が付着された基板を露光
し現像し未露光部を発色させて複製するものであり、露
光・現像という工程を施す−だけなので、簡便に短時間
で大量に製造できる。
ォトマスクを用いて光記録材料が付着された基板を露光
し現像し未露光部を発色させて複製するものであり、露
光・現像という工程を施す−だけなので、簡便に短時間
で大量に製造できる。
この発明の元ディスクの製造方法は9光記録材料である
ジアゾニウム塩化合物のみ、若しくは。
ジアゾニウム塩化合物のみ、若しくは。
ジアゾニウム塩化合物及びカプラーや塩基性物質を塗布
したディスクに対してフラッシュランプ等による露光と
続いて行なう現像のみを施すことにより、光ディスクを
複製するものである。
したディスクに対してフラッシュランプ等による露光と
続いて行なう現像のみを施すことにより、光ディスクを
複製するものである。
この発明に係わる光ディスクは露光、現像により情報が
いろいろと大きさの異った個別的な光学的すきまの分布
の形態で記録されており、このすきまの実質的な部分が
ミクロン以下の最小寸法である。記録部分と未記録部分
でレーザ光の吸収が変化する。光吸収量の変化により記
録された情報を読み取シ、再生することができる。この
光ディスクは安価に短時間で複製することができる。
いろいろと大きさの異った個別的な光学的すきまの分布
の形態で記録されており、このすきまの実質的な部分が
ミクロン以下の最小寸法である。記録部分と未記録部分
でレーザ光の吸収が変化する。光吸収量の変化により記
録された情報を読み取シ、再生することができる。この
光ディスクは安価に短時間で複製することができる。
光ディスクの製造にジアゾニウム塩を適用したのはジア
ゾフィルムが次のような特性を有していたためである。
ゾフィルムが次のような特性を有していたためである。
ジアゾフィルムは400nm範囲(青色光)を高度に吸
収するジアゾニウム塩と。
収するジアゾニウム塩と。
このジアゾニウム塩とカンプリング反応してよシ長波長
の光を吸収するアゾ染料を生成するカプラーU料を含有
″する。しかしながら各ジアゾニウム塩分子はそれが吸
収する元によって光分解されその波長範囲で吸収を起さ
ない材料を与える。それ数比較的高水準の胛射によって
露光されるジアゾフィルムの部分は比較的速かに露光照
射に対して透明になる。
の光を吸収するアゾ染料を生成するカプラーU料を含有
″する。しかしながら各ジアゾニウム塩分子はそれが吸
収する元によって光分解されその波長範囲で吸収を起さ
ない材料を与える。それ数比較的高水準の胛射によって
露光されるジアゾフィルムの部分は比較的速かに露光照
射に対して透明になる。
一方、低水準で露光される部分のジアゾフィルムは比例
的により遅い速度で透明になる。ジアゾフィルムは光朋
射前には黄色にみえる(赤色光が吸収される)。青色光
に露光された部分のジアゾフィルムはその照射に対して
透明になり、光吸収量に変化を生じる。ジアゾフィルム
の場合、アンモニア、または他のアルカリ性物質と反応
させることにより未露光ジアゾニウム塩分子とカプラー
分子が結合し、比較的濃い可視染料を形成することによ
って未露光黄色域と露光透明斌との可視コントラストの
鋭さを増す。これにより記録部と未記録部を光で読みと
ることが可能となる。
的により遅い速度で透明になる。ジアゾフィルムは光朋
射前には黄色にみえる(赤色光が吸収される)。青色光
に露光された部分のジアゾフィルムはその照射に対して
透明になり、光吸収量に変化を生じる。ジアゾフィルム
の場合、アンモニア、または他のアルカリ性物質と反応
させることにより未露光ジアゾニウム塩分子とカプラー
分子が結合し、比較的濃い可視染料を形成することによ
って未露光黄色域と露光透明斌との可視コントラストの
鋭さを増す。これにより記録部と未記録部を光で読みと
ることが可能となる。
以下、この発明の一実施例の元ディスクの製造方法を第
1図の(1)〜(vll)の工程順に各工程における基
板等の様子を表わす断面図に基いて説明する。
1図の(1)〜(vll)の工程順に各工程における基
板等の様子を表わす断面図に基いて説明する。
第1図(1)〜Mは複製時の露光パターンの信号が記録
されたフォトマスクの製法で(v+t〜(Vi+)はマ
スクを用いた元ディスクの複製法である。まずガラス等
の透明な基板aGを用意しくl)、この基板a〔に金属
を蒸着して金属膜(202)を形成し不透明な基板とす
る。その上にレジスト(20りを塗布する(11)。
されたフォトマスクの製法で(v+t〜(Vi+)はマ
スクを用いた元ディスクの複製法である。まずガラス等
の透明な基板aGを用意しくl)、この基板a〔に金属
を蒸着して金属膜(202)を形成し不透明な基板とす
る。その上にレジスト(20りを塗布する(11)。
複製時に光をあてる部分は金属膜(202)を取除いて
マスクとするため元ディスクの記録パターンのレーザ露
光を行なう(ill)。露光後エツチングし。
マスクとするため元ディスクの記録パターンのレーザ露
光を行なう(ill)。露光後エツチングし。
レジストを除去する(1v)。これで信号が記録された
マスク■が完成する。このマスク圓を用いてディスクの
大量生産を行なう。
マスク■が完成する。このマスク圓を用いてディスクの
大量生産を行なう。
大量生産の方法は以下に示す通りである。ディスク基板
(60り上にはレーザ元反射層が必要になるため、適当
な金属を蒸着又は塗布して金属層(602)を形成する
。その上にジアゾニウム塩化合物を含む光記録材料(6
05)を塗布し、記録前の基板+61を形成する(v(
toこういったものを大量に用意しておく。記録前の基
板+61上に作成したマスク■をのせその上からフラッ
シュランプ(604)等の光で露光する(vDoマスク
を取除き、現像する(vll)。
(60り上にはレーザ元反射層が必要になるため、適当
な金属を蒸着又は塗布して金属層(602)を形成する
。その上にジアゾニウム塩化合物を含む光記録材料(6
05)を塗布し、記録前の基板+61を形成する(v(
toこういったものを大量に用意しておく。記録前の基
板+61上に作成したマスク■をのせその上からフラッ
シュランプ(604)等の光で露光する(vDoマスク
を取除き、現像する(vll)。
このときマスクを通して党があたった部分のジアゾゾニ
ウム塩では光分解が起っているので、未露光部のジアゾ
ニウム塩のみがカプラーと反応する。
ウム塩では光分解が起っているので、未露光部のジアゾ
ニウム塩のみがカプラーと反応する。
この露光、及び現像で複製は完了するが用途に応じて表
面に保饅層を設けてもよい。
面に保饅層を設けてもよい。
なお、この現像処理は用いる光記録材料により異なる。
例えば4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼンジ
アゾニウムテトラフルオロポレイト等のジアゾニウム塩
化合物よシなる1成分ジアゾ光記録拐料を用いた場合は
、ナフトールAs−0L等のカプラーを塗布した後、ア
ンモニア等の塩基性物質で現像する。ジアゾニウム塩化
合物とカプラーを含む2成分ジアゾ光記録材料の場合は
塩基性物質で現像する。また、ジアゾニウム塩化合物。
アゾニウムテトラフルオロポレイト等のジアゾニウム塩
化合物よシなる1成分ジアゾ光記録拐料を用いた場合は
、ナフトールAs−0L等のカプラーを塗布した後、ア
ンモニア等の塩基性物質で現像する。ジアゾニウム塩化
合物とカプラーを含む2成分ジアゾ光記録材料の場合は
塩基性物質で現像する。また、ジアゾニウム塩化合物。
カプラー及びトリフェニルグアニジン等の加熱により塩
基性となる物質を含む3成分ジアゾ光記鋒材料の場合は
加熱して現像する。
基性となる物質を含む3成分ジアゾ光記鋒材料の場合は
加熱して現像する。
複製された光ディスクは、専用のプレーヤーによって再
生され、記録されたデータや音、映像などを出力する。
生され、記録されたデータや音、映像などを出力する。
出力はディスプレイ端末やスピーカー、プロジェクタ−
などによって目や耳に与えられる。専用のプレーヤーは
、記録された元ディスクにレーザ光を胛射し、記録部と
未記録部の光の吸収量の差を読みとる。読みとった情報
をどのように用いるかでいろいろと用途が考えられるが
。
などによって目や耳に与えられる。専用のプレーヤーは
、記録された元ディスクにレーザ光を胛射し、記録部と
未記録部の光の吸収量の差を読みとる。読みとった情報
をどのように用いるかでいろいろと用途が考えられるが
。
半永久的に使用するもの、短期間、使い捨てで利用する
もの等、使用目的により価格にも許容範囲がある。実!
上の問題として複製ディスクは消費者の使用のために供
されるから、感光材料は光学的特性を持つ妥当な価格で
あることが必要である。
もの等、使用目的により価格にも許容範囲がある。実!
上の問題として複製ディスクは消費者の使用のために供
されるから、感光材料は光学的特性を持つ妥当な価格で
あることが必要である。
従って当発明による複製方法は、短時間で多量の光デイ
スク製造が可能となるため1価格低減において大きな役
割を果す。又、最近ディスプレイやステレオの小型化が
進むと同時にどんどん軽量化されているので1手軽に見
聞きできるような利用法が考えられる。
スク製造が可能となるため1価格低減において大きな役
割を果す。又、最近ディスプレイやステレオの小型化が
進むと同時にどんどん軽量化されているので1手軽に見
聞きできるような利用法が考えられる。
なお上記実施例では、情報をピット形式で記録するディ
スクについて示したが、その他にも線で記録するバーコ
ードなどにも利用できる。
スクについて示したが、その他にも線で記録するバーコ
ードなどにも利用できる。
また上記実施例では基板(60りの素側について述べて
いないがコンパクトディスクの様に固い樹脂以外にシー
ト状のフレキシブルな素桐にしても同様の作用とするも
のが得られる。
いないがコンパクトディスクの様に固い樹脂以外にシー
ト状のフレキシブルな素桐にしても同様の作用とするも
のが得られる。
以上のように、この発明によれば信号が記録されたフォ
トマスクを用いて少くともジアゾニウム塩化合物を含む
光記録材料が付着された基板を露光し、露光後の基板を
現像し未露光部を発色させることにより、上記フォトマ
スク上に記録された信号を上記基板上に複製するように
することにより、Jjt、ディスクを短時間で簡便に大
量に製造できるという効果がおる。
トマスクを用いて少くともジアゾニウム塩化合物を含む
光記録材料が付着された基板を露光し、露光後の基板を
現像し未露光部を発色させることにより、上記フォトマ
スク上に記録された信号を上記基板上に複製するように
することにより、Jjt、ディスクを短時間で簡便に大
量に製造できるという効果がおる。
第1図はこの発明の一実施例の光ディスクの製造方法を
工程順に示す断面図、第2図は従来例の元ディスクの製
造方法を工程順に示す断面図である。 図において、■は信号が記録されたフォトマスク、(6
0っけ基板、 (505)は光記録材料である。 なお1図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
工程順に示す断面図、第2図は従来例の元ディスクの製
造方法を工程順に示す断面図である。 図において、■は信号が記録されたフォトマスク、(6
0っけ基板、 (505)は光記録材料である。 なお1図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (4)
- (1)信号が記録されたフォトマスクを用いて少くとも
ジアゾニウム塩化合物を含む光記録材料が付着された基
板を露光し、露光後の基板を現像し未露光部を発色させ
ることにより、上記フォトマスク上に記録された信号を
上記基板上に複製するようにした光ディスクの製造方法
。 - (2)光記録材料はジアゾニウム塩化合物よりなる1成
分ジアゾ光記録材料で現像は露光後の基板にカプラーを
付着した後塩基性物質で行う特許請求の範囲第1項記載
の光ディスクの製造方法。 - (3)光記録材料はジアゾニウム塩化合物とカプラーを
含む2成分ジアゾ光記録材料で現像は塩基性物質で行う
特許請求の範囲第1項記載の光ディスクの製造方法。 - (4)光記録材料はジアゾニウム塩化合物、カプラー及
び加熱により塩基性となる物質を含む3成分ジアゾ光記
録材料で、加熱して現像する特許請求の範囲第1項記載
の光ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9793187A JPH0715763B2 (ja) | 1987-04-21 | 1987-04-21 | 光デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9793187A JPH0715763B2 (ja) | 1987-04-21 | 1987-04-21 | 光デイスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63263645A true JPS63263645A (ja) | 1988-10-31 |
| JPH0715763B2 JPH0715763B2 (ja) | 1995-02-22 |
Family
ID=14205420
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9793187A Expired - Fee Related JPH0715763B2 (ja) | 1987-04-21 | 1987-04-21 | 光デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0715763B2 (ja) |
-
1987
- 1987-04-21 JP JP9793187A patent/JPH0715763B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0715763B2 (ja) | 1995-02-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |