JPS63286588A - シャドウマスクの製造方法 - Google Patents
シャドウマスクの製造方法Info
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- JPS63286588A JPS63286588A JP62120142A JP12014287A JPS63286588A JP S63286588 A JPS63286588 A JP S63286588A JP 62120142 A JP62120142 A JP 62120142A JP 12014287 A JP12014287 A JP 12014287A JP S63286588 A JPS63286588 A JP S63286588A
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- etching resistance
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
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- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
この発明は、カラー受像管用シャドウマスクの製造方法
に係り、特に金属薄板の両面を各別にエツチングするシ
ャドウマスクの製造方法に関する。
に係り、特に金属薄板の両面を各別にエツチングするシ
ャドウマスクの製造方法に関する。
（従来の技術）
カラー受像管は、外囲器を構成するパネル内面に形成さ
れた３色蛍光体からなる蛍光面に対向して、その内側に
シャドウマスクが装着されている。
れた３色蛍光体からなる蛍光面に対向して、その内側に
シャドウマスクが装着されている。
このシャドウマスクは、蛍光面に入射する電子ビームを
選別するために、第３図に示すように、金属薄板■の両
面間を貫通する所定のパターンに配列形成された多数の
透孔■を有し、各透孔■は、シャドウマスクに衝突して
蛍光面方向に反射する電子ビームを少くするため、蛍光
面と対向する面の開口が反対側の電子銃と対向する面の
開口より大きく形成されている。
選別するために、第３図に示すように、金属薄板■の両
面間を貫通する所定のパターンに配列形成された多数の
透孔■を有し、各透孔■は、シャドウマスクに衝突して
蛍光面方向に反射する電子ビームを少くするため、蛍光
面と対向する面の開口が反対側の電子銃と対向する面の
開口より大きく形成されている。
従来、このシャドウマスクの製造は、テレビジョン受像
機などに用いられる通常のカラー受像管のシャドウマス
クについては、第４図に示すようにおこなわれていた。
機などに用いられる通常のカラー受像管のシャドウマス
クについては、第４図に示すようにおこなわれていた。
すなわち、第４図（Ａ）図に示すように１両面が清浄に
された金属薄板ωの両面に感光剤を塗布し、乾燥してレ
ジスト膜（イ）を形成したのち、（Ｂ）図に示すように
、その両面のレジスト膜Ｇ）に、前記シャドウマスクの
透孔■に対応するパターンが形成されたネガパターン（
５ａ）、（５ｂ）を密着して露光し、そのパターンを焼
付けたのち、（Ｃ）図に示すように、現像してその未感
光部分を除去し、金属板面を露出させる。しかるのち、
この金属薄板■を両面から同時にエツチングして、上記
金属薄板■の露出部（Ｑに透孔■を形成する。その後、
（Ｅ）図に示すように、たとえばアルカリ溶液によりレ
ジスト膜（イ）を剥離することにより、製作していた。
された金属薄板ωの両面に感光剤を塗布し、乾燥してレ
ジスト膜（イ）を形成したのち、（Ｂ）図に示すように
、その両面のレジスト膜Ｇ）に、前記シャドウマスクの
透孔■に対応するパターンが形成されたネガパターン（
５ａ）、（５ｂ）を密着して露光し、そのパターンを焼
付けたのち、（Ｃ）図に示すように、現像してその未感
光部分を除去し、金属板面を露出させる。しかるのち、
この金属薄板■を両面から同時にエツチングして、上記
金属薄板■の露出部（Ｑに透孔■を形成する。その後、
（Ｅ）図に示すように、たとえばアルカリ溶液によりレ
ジスト膜（イ）を剥離することにより、製作していた。
しかし、この製造方法では、透孔径ｄ（第３図示）が小
さくなるにつれて、その開孔精度が低下し、精細な画像
を必要とするディスプレイ用カラー受像管などに用いら
れる金属薄板■の板厚より透孔径ｄの小さい高精細シャ
ドウマスクを再現性よく製作することが困難である。
さくなるにつれて、その開孔精度が低下し、精細な画像
を必要とするディスプレイ用カラー受像管などに用いら
れる金属薄板■の板厚より透孔径ｄの小さい高精細シャ
ドウマスクを再現性よく製作することが困難である。
それ故、かかるシャドウマスクに対しては、従来より第
５図に示す２段エツチング方法が開発されている。すな
わち、この２段エツチング法では、上記通常のシャドウ
マスクの場合と同様に、金属薄板■の両面に、シャドウ
マスクの透孔■に対応する露出部０をもつレジスト膜に
）を形成したのち（第４図（Ａ）ないしくＣ）図参照）
、第５図（Ｄ）図に示すように、まず、大きな開口を形
成するために大面積の露出部側に保護フィルム（８ａ）
を貼着し、小さな開口を形成するための小面積の露出部
側を下向きにしてエツチングし、小凹孔０を形成する（
前段エツチング）。しかるのち、（Ｅ）図に示すように
、その小面積の露出部側のレジスト膜（イ）を剥離し、
さらに、大面積の露出部側に貼着された保護フィルム（
８ａ）を取去る。そしてその後、（Ｆ）図に示すように
、上記レジスト膜■を剥離した金属板面にエポキシ樹脂
からなるニスを塗布してエツチング抵抗層（１０）を形
成し、さらに、（Ｇ）図に示すように、このエツチング
抵抗Ｊｉ （１０）上に保護フィルム（８ｂ）を貼着し
、大面積の露出部を下向きにしてエツチングして上記凹
孔０に通する大凹孔（１１）を形成する（後段エツチン
グ）。その後、（Ｈ）図に示すように、保護フィルム（
８ｂ）を除去して、その下層のエツチング抵抗層（１０
）と反対側のレジスト膜（イ）とを、アルカリ溶液によ
り同時に剥離除去し、（Ｊ）図に示すように透孔■を有
するシャドウマスクとする。
５図に示す２段エツチング方法が開発されている。すな
わち、この２段エツチング法では、上記通常のシャドウ
マスクの場合と同様に、金属薄板■の両面に、シャドウ
マスクの透孔■に対応する露出部０をもつレジスト膜に
）を形成したのち（第４図（Ａ）ないしくＣ）図参照）
、第５図（Ｄ）図に示すように、まず、大きな開口を形
成するために大面積の露出部側に保護フィルム（８ａ）
を貼着し、小さな開口を形成するための小面積の露出部
側を下向きにしてエツチングし、小凹孔０を形成する（
前段エツチング）。しかるのち、（Ｅ）図に示すように
、その小面積の露出部側のレジスト膜（イ）を剥離し、
さらに、大面積の露出部側に貼着された保護フィルム（
８ａ）を取去る。そしてその後、（Ｆ）図に示すように
、上記レジスト膜■を剥離した金属板面にエポキシ樹脂
からなるニスを塗布してエツチング抵抗層（１０）を形
成し、さらに、（Ｇ）図に示すように、このエツチング
抵抗Ｊｉ （１０）上に保護フィルム（８ｂ）を貼着し
、大面積の露出部を下向きにしてエツチングして上記凹
孔０に通する大凹孔（１１）を形成する（後段エツチン
グ）。その後、（Ｈ）図に示すように、保護フィルム（
８ｂ）を除去して、その下層のエツチング抵抗層（１０
）と反対側のレジスト膜（イ）とを、アルカリ溶液によ
り同時に剥離除去し、（Ｊ）図に示すように透孔■を有
するシャドウマスクとする。
しかし、この方法によりシャドウマスクを製作すると、
粘着性の大きいエツチング抵抗層（１ｏ）を十分に除去
できない場合がしばしば発生する。また、除去された多
量のエツチング抵抗層がレジスト暎剥離チャンバー内や
アルカリタンク内に混入し、これが透孔■に付着して目
詰りをおこすなどの問題がある。
粘着性の大きいエツチング抵抗層（１ｏ）を十分に除去
できない場合がしばしば発生する。また、除去された多
量のエツチング抵抗層がレジスト暎剥離チャンバー内や
アルカリタンク内に混入し、これが透孔■に付着して目
詰りをおこすなどの問題がある。
（発明が解決しようとする問題点）
上記のように、シャドウマスクの素材である金属薄板よ
り透孔径が小さい高精細シャドウマスクの製造は、従来
より、前段、後段の２段階のエツチングで形成されてい
るが、従来の製造方法は、前段エツチング後に、そのエ
ツチング面側に設けられたエツチング抵抗層を後段エツ
チング後にレジスト膜と同時に剥離除去するため、粘着
性の大きいエツチング抵抗層を十分に除去できない場合
が生じたり、また、除去された多量のエツチング抵抗層
がレジスト膜剥離チャンバーや剥離用アルカリタンク内
に混入して、それがエツチングにより開孔した透孔に付
着して目詰りをおこすなどの問題がある。
り透孔径が小さい高精細シャドウマスクの製造は、従来
より、前段、後段の２段階のエツチングで形成されてい
るが、従来の製造方法は、前段エツチング後に、そのエ
ツチング面側に設けられたエツチング抵抗層を後段エツ
チング後にレジスト膜と同時に剥離除去するため、粘着
性の大きいエツチング抵抗層を十分に除去できない場合
が生じたり、また、除去された多量のエツチング抵抗層
がレジスト膜剥離チャンバーや剥離用アルカリタンク内
に混入して、それがエツチングにより開孔した透孔に付
着して目詰りをおこすなどの問題がある。
この発明は、かかる問題点を解決するためになされたも
のであり、２段階のエツチング法によりシャドウマスク
を製造するに際し、前段エツチング後に、そのエツチン
グ面側に設けられたエッチング抵抗層を確実に除去し、
しかも、除去したエツチング抵抗層の付着により目詰り
をおこさないようにすることを目的とする。
のであり、２段階のエツチング法によりシャドウマスク
を製造するに際し、前段エツチング後に、そのエツチン
グ面側に設けられたエッチング抵抗層を確実に除去し、
しかも、除去したエツチング抵抗層の付着により目詰り
をおこさないようにすることを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
金属薄板の両面にシャドウマスクの多数の透孔に対応す
る金属露出部をもつレジスト膜を形成し、前段エツチン
グによりその一方の面の金属露出部に凹孔を形成したの
ち、その一方の面にエツチング抵抗層を形成し、後段エ
ツチングにより他方の面に上記一方の面の凹孔に通ずる
凹孔を形成するシャドウマスクの製造方法に・おいて、
上記エツチング抵抗層をアルカリ処理により膨潤させた
のち、温水をスプレィして剥離させ、その後アルカリ処
理により金属薄板に付着しているレジスト膜を除去する
ようにした。
る金属露出部をもつレジスト膜を形成し、前段エツチン
グによりその一方の面の金属露出部に凹孔を形成したの
ち、その一方の面にエツチング抵抗層を形成し、後段エ
ツチングにより他方の面に上記一方の面の凹孔に通ずる
凹孔を形成するシャドウマスクの製造方法に・おいて、
上記エツチング抵抗層をアルカリ処理により膨潤させた
のち、温水をスプレィして剥離させ、その後アルカリ処
理により金属薄板に付着しているレジスト膜を除去する
ようにした。
（作 用）
上記のように、アルカリ処理によりエツチング抵抗層を
膨潤させたのち温水をスプレィすると、エツチング抵抗
層を確実かつ容易に剥離することができ、また、エツチ
ング抵抗層の剥離とレジスト膜の除去を分離し、かつエ
ツチング抵抗層の剥離後にレジスト膜を除去すると、除
去されたエツチング抵抗層の付着による目詰りをなくす
ことができる。
膨潤させたのち温水をスプレィすると、エツチング抵抗
層を確実かつ容易に剥離することができ、また、エツチ
ング抵抗層の剥離とレジスト膜の除去を分離し、かつエ
ツチング抵抗層の剥離後にレジスト膜を除去すると、除
去されたエツチング抵抗層の付着による目詰りをなくす
ことができる。
（実施例）
以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明
する。
する。
第１図にこの発明の一実施例シャドウマスクの製造方法
を説明するための工程を示す。
を説明するための工程を示す。
まず、（Ａ）図に示すように、両面が清浄にされた金属
薄板■の両面に感光剤を塗布し、これを乾燥してレジス
ト膜（イ）を形成する。つぎに、（Ｂ）図に示すように
、その両面のレジスト膜（イ）に、シャドウマスクの透
孔に対応するパターンが形成された一対のネガパターン
（５ａ）、（５ｂ）を、たとえば真空吸着により密着さ
せて露光し、その両面のレジスト膜（イ）にネガパター
ン（５ａ）、（５ｂ）のパターンを焼付ける。しかるの
ち、そのパターンの焼付けられたレジスト膜（イ）を現
像して未感光部分を除去することにより、（Ｃ）図に示
すように、上記パターンに対応する金属露出部０を形成
する。この金属露出部０は、上記ネガパターン（５ａ）
、（５ｂ）のパターンに対応して、金属薄板■の一方の
面で小さく、他方の面で大きい。つぎに、上記他方の面
側に。
薄板■の両面に感光剤を塗布し、これを乾燥してレジス
ト膜（イ）を形成する。つぎに、（Ｂ）図に示すように
、その両面のレジスト膜（イ）に、シャドウマスクの透
孔に対応するパターンが形成された一対のネガパターン
（５ａ）、（５ｂ）を、たとえば真空吸着により密着さ
せて露光し、その両面のレジスト膜（イ）にネガパター
ン（５ａ）、（５ｂ）のパターンを焼付ける。しかるの
ち、そのパターンの焼付けられたレジスト膜（イ）を現
像して未感光部分を除去することにより、（Ｃ）図に示
すように、上記パターンに対応する金属露出部０を形成
する。この金属露出部０は、上記ネガパターン（５ａ）
、（５ｂ）のパターンに対応して、金属薄板■の一方の
面で小さく、他方の面で大きい。つぎに、上記他方の面
側に。
たとえばポリエステル樹脂からなる保護フィルム（８ａ
）を接着剤により貼着し、（Ｄ）図に示すように、小面
積の金属露出部０をもつ一方の面側を下向きにしてエツ
チングをおこない、その金属露出部に小凹孔０を形成す
る（前段エツチング）。
）を接着剤により貼着し、（Ｄ）図に示すように、小面
積の金属露出部０をもつ一方の面側を下向きにしてエツ
チングをおこない、その金属露出部に小凹孔０を形成す
る（前段エツチング）。
しかるのち、水洗し、さらに上記他方の面にアルカリ溶
液（ＮａＯ＋＋溶液）をスプレィして、（Ｅ）図に示す
ように、その一方の面側のレジスト膜（イ）を剥離する
。その後、他方の面側に貼着されている保護フィルム（
８ａ）を取去る。つぎに、（Ｆ）図に示すように、上記
レジスト膜０）を剥離した一方の面に、エポキシ樹脂か
らなるニスを塗布してエツチング抵抗層（１０）を形成
し、さらにこのエツチング抵抗層（１０）上に、前記保
護フィルム（８ａ）と同様の保護フィルム（８ｂ）を接
着剤により貼着する。しかるのち、（Ｇ）図に示すよう
に、上記保護フィルム（８ａ）を除去した他方の面側を
下向きにしてエツチングをおこない、上記一方の面に形
成された凹孔０に通ずる大凹孔（１１）を形成する（後
段エツチング）。その後水洗し、さらに（Ｈ）図に示す
ように、一方の面側に貼着されている保護フィルム（８
ｂ）を取去る。
液（ＮａＯ＋＋溶液）をスプレィして、（Ｅ）図に示す
ように、その一方の面側のレジスト膜（イ）を剥離する
。その後、他方の面側に貼着されている保護フィルム（
８ａ）を取去る。つぎに、（Ｆ）図に示すように、上記
レジスト膜０）を剥離した一方の面に、エポキシ樹脂か
らなるニスを塗布してエツチング抵抗層（１０）を形成
し、さらにこのエツチング抵抗層（１０）上に、前記保
護フィルム（８ａ）と同様の保護フィルム（８ｂ）を接
着剤により貼着する。しかるのち、（Ｇ）図に示すよう
に、上記保護フィルム（８ａ）を除去した他方の面側を
下向きにしてエツチングをおこない、上記一方の面に形
成された凹孔０に通ずる大凹孔（１１）を形成する（後
段エツチング）。その後水洗し、さらに（Ｈ）図に示す
ように、一方の面側に貼着されている保護フィルム（８
ｂ）を取去る。
以上の工程は、従来の２段階エツチング法とほぼ同じで
ある。ところで、この発明の２段階エツチング法では、
まず、保護フィルム（８ｂ）の除去によりエツチング抵
抗層（１０）の露出している中間部材にアルカリ溶液（
ＮａＯＨ溶液）をスプレィして。
ある。ところで、この発明の２段階エツチング法では、
まず、保護フィルム（８ｂ）の除去によりエツチング抵
抗層（１０）の露出している中間部材にアルカリ溶液（
ＮａＯＨ溶液）をスプレィして。
まず、エツチング抵抗層（１０）を膨潤させる。ついで
、この膨潤したエツチング抵抗層（１０）に温水をスプ
レィして、（Ｉ）図に示すように、膨潤により金属薄板
■により浮上っているエツチング抵抗層（１０）を剥離
除去する。上記エツチング抵抗ＷＩ（１０）の膨潤に用
いられるアルカリ溶液としては、Ｎａ０ＩＩを約８．５
重量％含有するものが用いられ、これを８８〜９８℃に
加熱して、１．０ｋｇ／ａ１以下の圧力でスプレイする
ことにより膨潤させることができる。また、膨潤したエ
ツチング抵抗層（１０）は、２０〜５０℃に加熱された
温水を２．０−０．５ｋｇ／ｃＪの圧力でスプレィする
ことにより吹きとばすように除去することができる。特
にこの温水スプレィにより剥離除去は、エツチング抵抗
層（１０）に対して斜め方向からスプレィするとよい。
、この膨潤したエツチング抵抗層（１０）に温水をスプ
レィして、（Ｉ）図に示すように、膨潤により金属薄板
■により浮上っているエツチング抵抗層（１０）を剥離
除去する。上記エツチング抵抗ＷＩ（１０）の膨潤に用
いられるアルカリ溶液としては、Ｎａ０ＩＩを約８．５
重量％含有するものが用いられ、これを８８〜９８℃に
加熱して、１．０ｋｇ／ａ１以下の圧力でスプレイする
ことにより膨潤させることができる。また、膨潤したエ
ツチング抵抗層（１０）は、２０〜５０℃に加熱された
温水を２．０−０．５ｋｇ／ｃＪの圧力でスプレィする
ことにより吹きとばすように除去することができる。特
にこの温水スプレィにより剥離除去は、エツチング抵抗
層（１０）に対して斜め方向からスプレィするとよい。
しかるのち、金属薄板■の他方の面に付着残存している
レジスト膜（へ）にアルカリ溶液（ＮａＯＨ溶液）をス
プレィして除去する。その後、水洗、乾燥して、（Ｊ）
図に示すように、金属薄板■の両面間を貫通する透孔■
をもつシャドウマスクとする。
レジスト膜（へ）にアルカリ溶液（ＮａＯＨ溶液）をス
プレィして除去する。その後、水洗、乾燥して、（Ｊ）
図に示すように、金属薄板■の両面間を貫通する透孔■
をもつシャドウマスクとする。
第２図は、特に上記後段エツチング以後の工程を実施す
る装置の構成を示した図である。この装置は、前段のエ
ツチングを終了した帯状の中間部材のフープ（１３）を
支持するアンワインダ（１４） 、矢印で示すようにこ
のアンワインダ（１４）から巻戻される方向に順次配設
された３個の後段エツチングチャンバー（１５）、水洗
チャンバー（１６）、保護フィルム巻取り装置（１７）
、エツチング抵抗層（１０）を膨潤させるためのアルカ
リ処理チャンバー（１８）、膨潤したエツチング抵抗層
（１０）を剥離除去するための温水処理チャンバー（１
９）、レジスト膜剥離チャンバー（２０）、水洗チャン
バー（２１）、純水洗滌チャンバー（２２）および乾燥
チャンバー（２３）などを備える。そして、乾燥チャン
バー（２３）以外の各チャンバー（１５）、（１６）、
（１８）〜”（２２）内には、スプレィノズル（２４）
が設置され、それぞれ所要の溶液を貯える図示しないタ
ンクからポンプにより圧送される溶液をスプレィするよ
うに構成されている。特にこの装置では、エツチング抵
抗層を膨潤させるためのアルカリ処理チャンバー（１８
）とレジスト膜剥離チャンバー（２０）とは、各別に設
置され、しかも、これらチャンバー（１８）、（２０）
には、各別のタンクからアルカリ溶液が供給されるよう
に構成されている。
る装置の構成を示した図である。この装置は、前段のエ
ツチングを終了した帯状の中間部材のフープ（１３）を
支持するアンワインダ（１４） 、矢印で示すようにこ
のアンワインダ（１４）から巻戻される方向に順次配設
された３個の後段エツチングチャンバー（１５）、水洗
チャンバー（１６）、保護フィルム巻取り装置（１７）
、エツチング抵抗層（１０）を膨潤させるためのアルカ
リ処理チャンバー（１８）、膨潤したエツチング抵抗層
（１０）を剥離除去するための温水処理チャンバー（１
９）、レジスト膜剥離チャンバー（２０）、水洗チャン
バー（２１）、純水洗滌チャンバー（２２）および乾燥
チャンバー（２３）などを備える。そして、乾燥チャン
バー（２３）以外の各チャンバー（１５）、（１６）、
（１８）〜”（２２）内には、スプレィノズル（２４）
が設置され、それぞれ所要の溶液を貯える図示しないタ
ンクからポンプにより圧送される溶液をスプレィするよ
うに構成されている。特にこの装置では、エツチング抵
抗層を膨潤させるためのアルカリ処理チャンバー（１８
）とレジスト膜剥離チャンバー（２０）とは、各別に設
置され、しかも、これらチャンバー（１８）、（２０）
には、各別のタンクからアルカリ溶液が供給されるよう
に構成されている。
上記フープ（１３）に巻装された中間部材は、第１図（
Ｆ）図に示したように、金属薄板（ト）の一方の面にエ
ツチング抵抗層（１０）が形成され、さらにこのエツチ
ング抵抗ＰＩ （１０）上に保護フィルム（８ｂ）が貼
着されており、この中間部材をエツチング抵抗層（１０
）および保護フィルム（８ｂ）を設けない他方の面側を
下向きにして後段エツチングチャンバー（１５）に搬入
してエツチングをおこなったのち、保護フィルム巻取り
装置（１７）により保護フィルム（８ｂ）を取去り、そ
の後、各チャンバー（１８）〜（２３）で前記各種処理
を施すことにより所要のシャドウマスクにされる。
Ｆ）図に示したように、金属薄板（ト）の一方の面にエ
ツチング抵抗層（１０）が形成され、さらにこのエツチ
ング抵抗ＰＩ （１０）上に保護フィルム（８ｂ）が貼
着されており、この中間部材をエツチング抵抗層（１０
）および保護フィルム（８ｂ）を設けない他方の面側を
下向きにして後段エツチングチャンバー（１５）に搬入
してエツチングをおこなったのち、保護フィルム巻取り
装置（１７）により保護フィルム（８ｂ）を取去り、そ
の後、各チャンバー（１８）〜（２３）で前記各種処理
を施すことにより所要のシャドウマスクにされる。
ところで、上記のように後段エツチングののち、まず、
アルカリ処理により金属薄板■の一方の面に設けられた
エツチング抵抗層（１０）を膨潤させ、しかるのち、温
水をスプレィすると、金属薄板■に付着して粘着性の大
きいエツチング抵抗層（１０）を容易かつ確実に剥離し
て除去するこ・とができる。
アルカリ処理により金属薄板■の一方の面に設けられた
エツチング抵抗層（１０）を膨潤させ、しかるのち、温
水をスプレィすると、金属薄板■に付着して粘着性の大
きいエツチング抵抗層（１０）を容易かつ確実に剥離し
て除去するこ・とができる。
また、このシャドウマスクの製造方法では、エツチング
抵抗層（１０）の剥離とは独立して、その後。
抵抗層（１０）の剥離とは独立して、その後。
金属薄板（ト）の他方の面に付着しているレジスト膜（
イ）を除去するので、従来、エツチング抵抗層（１０〕
の剥離とレジスト膜（へ）の剥離を同時におこなってい
たために剥離したエツチング抵抗層がアルカリタンク内
に混入し、それがエツチングにより開孔した透孔に付着
して生じた目詰りを防止することができる。
イ）を除去するので、従来、エツチング抵抗層（１０〕
の剥離とレジスト膜（へ）の剥離を同時におこなってい
たために剥離したエツチング抵抗層がアルカリタンク内
に混入し、それがエツチングにより開孔した透孔に付着
して生じた目詰りを防止することができる。
金属薄板の両面にシャドウマスクの多数の透孔に対応す
る金属露出部をもつレジスト膜を形成し、前段エツチン
グによりその一方の面の金属露出部に凹孔を形成したの
ち、その一方の面にエツチング抵抗層を形成し、後段エ
ツチングにより他方の面に上記一方の面の凹孔に通ずる
凹孔を形成するシャドウマスクの製造方法において、上
記エツチング抵抗層を、まずアルカリ処理により膨潤さ
せたのち、温水をスプレィして剥離させ、その後、アル
カリ処理により上記金属薄板に付着しているレジスト膜
を除去するようにすると、エツチング抵抗層を容易かつ
確実に剥離除去することができ、また、エツチング抵抗
層の剥離とは独立して、金属薄板に付着しているレジス
ト膜を除去できるので、従来、エツチング抵抗層とレジ
スト膜を同時に剥離したために、剥離した多量のエツチ
ング抵抗層がアルカリタンク内に混入し、それがエツチ
ングにより開孔した透孔に付着して生じた目詰りを防止
することができ、所要のシャドウマスクを容易に製造す
ることができる。
る金属露出部をもつレジスト膜を形成し、前段エツチン
グによりその一方の面の金属露出部に凹孔を形成したの
ち、その一方の面にエツチング抵抗層を形成し、後段エ
ツチングにより他方の面に上記一方の面の凹孔に通ずる
凹孔を形成するシャドウマスクの製造方法において、上
記エツチング抵抗層を、まずアルカリ処理により膨潤さ
せたのち、温水をスプレィして剥離させ、その後、アル
カリ処理により上記金属薄板に付着しているレジスト膜
を除去するようにすると、エツチング抵抗層を容易かつ
確実に剥離除去することができ、また、エツチング抵抗
層の剥離とは独立して、金属薄板に付着しているレジス
ト膜を除去できるので、従来、エツチング抵抗層とレジ
スト膜を同時に剥離したために、剥離した多量のエツチ
ング抵抗層がアルカリタンク内に混入し、それがエツチ
ングにより開孔した透孔に付着して生じた目詰りを防止
することができ、所要のシャドウマスクを容易に製造す
ることができる。
第１図（Ａ）ないしくＪ）図はそれぞれこの発明の一実
施例であるシャドウマスクの製造方法を説明するための
工程図、第２図はその後段エツチング以後の工程を実施
する装置の構成を示す図、第３図はシャドウマスクの要
部を示す断面図、第４図（Ａ）ないしくＥ）図はそれぞ
れ従来の通常のシャドウマスクの製造工程を示す図、第
５図（Ｄ）ないしくＩ）図はそれぞれ従来の２段エツチ
ングによるシャドウマスクの製造工程図である。 ■・・・金属４板 ■・・・透 孔Ｇ）・・・レ
ジスト膜 ０・・・金属露出部（９）・・・凹 孔
（１０）・・・エツチング抵抗層（１１）・
・・凹 孔
施例であるシャドウマスクの製造方法を説明するための
工程図、第２図はその後段エツチング以後の工程を実施
する装置の構成を示す図、第３図はシャドウマスクの要
部を示す断面図、第４図（Ａ）ないしくＥ）図はそれぞ
れ従来の通常のシャドウマスクの製造工程を示す図、第
５図（Ｄ）ないしくＩ）図はそれぞれ従来の２段エツチ
ングによるシャドウマスクの製造工程図である。 ■・・・金属４板 ■・・・透 孔Ｇ）・・・レ
ジスト膜 ０・・・金属露出部（９）・・・凹 孔
（１０）・・・エツチング抵抗層（１１）・
・・凹 孔
Claims (2)
- （１）金属薄板の両面にシャドウマスクの多数の透孔に
対応する金属露出部をもつレジスト膜を形成する工程と
、上記レジスト膜の形成された金属薄板の一方の面をエ
ッチングしてこの一方の面の金属露出部に凹孔を形成す
る前段エッチング工程と、上記凹孔の形成された一方の
面にエッチング抵抗層を形成する工程と、上記エッチン
グ抵抗層の設けられた金属薄板の他方の面をエッチング
してこの他方の面に上記金属薄板の一方の面に形成され
た凹孔に通ずる凹孔を形成する後段エッチング工程と、
上記金属薄板の他方の面に凹孔を形成したのちアルカリ
処理により上記エッチング抵抗層を膨潤させる工程と、
上記アルカリ処理により膨潤したエッチング抵抗層に温
水をスプレィして剥離する工程と、上記温水によりエッ
チング抵抗層を剥離したのちアルカリ処理により上記金
属薄板に被着しているレジスト膜を除去する工程とから
なることを特徴とするシャドウマスクの製造方法。 - （２）エッチング抵抗層の膨潤および剥離をレジスト膜
を除去するチャンバーとは独立のチャンバーでおこなう
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のシャドウ
マスクの製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62120142A JPS63286588A (ja) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | シャドウマスクの製造方法 |
| EP88107879A EP0291929B1 (en) | 1987-05-19 | 1988-05-17 | Method of manufacturing shadow masks |
| DE3851461T DE3851461T2 (de) | 1987-05-19 | 1988-05-17 | Verfahren zur Herstellung von Schattenmasken. |
| KR1019880005885A KR910004743B1 (ko) | 1987-05-19 | 1988-05-18 | 새도우 마스크의 제조방법 및 그 장치 |
| US07/195,625 US4861422A (en) | 1987-05-19 | 1988-05-18 | Method of manufacturing shadow mask and apparatus |
| CN88102931A CN1009142B (zh) | 1987-05-19 | 1988-05-19 | 制造阴罩的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62120142A JPS63286588A (ja) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | シャドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63286588A true JPS63286588A (ja) | 1988-11-24 |
Family
ID=14779004
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62120142A Pending JPS63286588A (ja) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | シャドウマスクの製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4861422A (ja) |
| EP (1) | EP0291929B1 (ja) |
| JP (1) | JPS63286588A (ja) |
| KR (1) | KR910004743B1 (ja) |
| CN (1) | CN1009142B (ja) |
| DE (1) | DE3851461T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6487786A (en) * | 1987-09-30 | 1989-03-31 | Toshiba Corp | Production of shadow mask |
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| EP0476664B1 (en) * | 1990-09-20 | 1995-07-05 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method of forming small through-holes in thin metal plate |
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| US5401932A (en) * | 1992-02-07 | 1995-03-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of producing a stencil mask |
| JPH06215690A (ja) * | 1993-01-18 | 1994-08-05 | Sony Corp | カラー陰極線管の色選別手段の製造方法 |
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| JPH0737492A (ja) * | 1993-07-21 | 1995-02-07 | Dainippon Printing Co Ltd | アパーチャーグリルの製造方法 |
| EP0641009B1 (en) * | 1993-08-25 | 2000-01-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Color cathode ray tube and method of manufacturing the same |
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| KR200235771Y1 (ko) * | 1996-09-09 | 2001-10-25 | 김순택 | 음극선관용 새도우마스크 |
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| CN101845618B (zh) * | 2010-05-06 | 2012-09-26 | 上海纳腾仪器有限公司 | 一种x射线显微透镜成像用氮化硅薄膜窗口的制作方法 |
| KR102090198B1 (ko) * | 2013-03-29 | 2020-03-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 파인 메탈 마스크 및 그 제조 방법 |
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Citations (2)
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| JPS6070185A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-04-20 | Toshiba Corp | シヤドウマスクの製造方法 |
| JPS6160889A (ja) * | 1984-08-30 | 1986-03-28 | Toshiba Corp | シヤドウマスクの製造方法 |
-
1987
- 1987-05-19 JP JP62120142A patent/JPS63286588A/ja active Pending
-
1988
- 1988-05-17 EP EP88107879A patent/EP0291929B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-05-17 DE DE3851461T patent/DE3851461T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-05-18 KR KR1019880005885A patent/KR910004743B1/ko not_active Expired
- 1988-05-18 US US07/195,625 patent/US4861422A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-05-19 CN CN88102931A patent/CN1009142B/zh not_active Expired
Patent Citations (2)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4861422A (en) | 1989-08-29 |
| CN88102931A (zh) | 1988-12-14 |
| EP0291929B1 (en) | 1994-09-14 |
| CN1009142B (zh) | 1990-08-08 |
| EP0291929A3 (en) | 1990-08-22 |
| DE3851461D1 (de) | 1994-10-20 |
| KR880014620A (ko) | 1988-12-24 |
| DE3851461T2 (de) | 1995-03-23 |
| KR910004743B1 (ko) | 1991-07-10 |
| EP0291929A2 (en) | 1988-11-23 |
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