JPS63291828A - ガラスプレートのセラミックス被覆法およびこの方法を実施する焼成炉 - Google Patents

ガラスプレートのセラミックス被覆法およびこの方法を実施する焼成炉

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JPS63291828A
JPS63291828A JP63110293A JP11029388A JPS63291828A JP S63291828 A JPS63291828 A JP S63291828A JP 63110293 A JP63110293 A JP 63110293A JP 11029388 A JP11029388 A JP 11029388A JP S63291828 A JPS63291828 A JP S63291828A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野] 本発明はセラミックス被覆処理されるガラスプレートを
垂直に懸垂した状態でセラミックス被覆処理する方法お
よび焼成炉に関するものである。 [従来技術と問題点] 加熱処理によってガラスプレートをセラミックス被覆す
る際に、特に不均一なセラミックス被覆および/または
寸法変動および/またはプレートの曲げなどの欠陥また
は不合格品を生じる事なく、許容される費用をもって高
い生産性を得る事が困難である。従来技術においては、
複数のプレートとを長手力方向と一致する搬送方向に懸
垂し、これらのプレートをこの方向において炉の中を搬
送し5相異なる温度の複数区域の中に順次に通す事によ
って、高度に均一な加熱処理を実施しようとした。この
種の方法はドイツ特許第36.32゜08号から公知で
ある。ガラスプレートを搬送方向に沿って長手力に配置
する事により%当然に焼成炉は相当の長さを有しなけれ
ばならないと言う欠点があった。同様の方法が英国特許
第14,24.526号から公知である。しかし二の方
法によれば、プレートはそれぞれまたはグループを成し
て5wi送方法に対して長手力にまたは横方向に配はさ
れる。しかしこの従来技術の方法は、その記載事項に従
った場合でも例外的な場合でしか満足な結果を生じる事
ができない、特に1強い寸法の変動とプレートの湾曲が
生じ易い、特に、この方法によれば所定の晶出温度まで
の加熱が少なくとも30℃/分の速度で実施されなけれ
ばならないので、このような危険性が大になる。
【発明の目的および効果】
本発明の目的は低い費用と改良された製造結果をもって
高い生産速度を達成する事のできるガラスプレートのセ
ラミックス被覆処理法および焼成炉を提供するにある。 〔発明の概要コ 本発明によれば、セラミックス被覆処理される複数のプ
レートを搬送方向に対して直角に相互に離間して懸垂す
る事によってプレートパッケージを形成する段階と、ゲ
ートによって相互に分離され閉鎖された焼成炉の複数の
チャンバを通して前記プレートパッケージを搬送方向に
通過させる段階と、前記プレートパッケージの通過中に
、熱空気流によって前記プレートパッケージを均一に一
連の相異なる温度に加熱する段階とを含み、前記のプレ
ートパッケージの通過に際して、プレートパッケージを
次のチャンバに転送する前に1次のチャンバをプレート
パッケージを含むチャンバと同一温度に成し、転送のた
めにそれぞれのゲートを一時的に開く方法によって前記
の目的が達成される。 本発明の方法においては、プレートを搬送方向に対して
直角に配置し複数のプレートを集合してパッケージを成
す事により、非常にコンパクトなプレート構造が得られ
、焼成がの長さが通常の焼成炉の長さの約5%にまで短
縮される。しかしこのような焼成炉の長さの大幅な短縮
にも関わらず。 加熱処理が熱空気流によって実施されるが故に。 高度に均一な加熱処理が実施される。熱空気流を使泪す
る事により、この空気流の速度と量を十分大に選定する
ならば、パッケージ内部のガラス板についても均一な焼
き戻しが容易に達成される。 これは本発明によれば、焼成がのそれぞれのチャンバが
本質的に閉IR遣れ、相互にゲートによって分離されて
いる事によって可能となる0本発明によれば、一つのチ
ャンバがら他のチャンバへの転送は有害な温度ショック
なしで実施されるので。 転送に際してもプレートの中に欠陥が生じない。 また本発明によればプレートが搬送方向に対して直角に
懸垂されているが故に、焼成炉の壁体の熱放射の有害な
影響が防止される。 好ましくは、複数のプレートパッケージが搬送方向に1
頭次に各チャンバの中を案内され、そ九ぞれ同時に次の
チャンバの中に転送される。 この方式は1合理的な周期的直列操作を可能にする。こ
のようにして、チャンバ列の始点と終点にあるゲートま
たはドアを含めて全てのゲートが同時に開閉され、第1
プレートパツケージが焼成炉に入ると同時に最後のプレ
ートパッケージが焼成炉から出る事ができる。その際゛
に、搬送方向にチャンバが等間隔で配置され、二つの隣
接プレートパッケージのIII隔が1つのチャンバと1
つ置いたチャンバとの間隔に対応するならば、焼成炉の
最適利用度が達成される。このような操作モードは、そ
れぞれのチャンバ中のプレートパッケージの滞留時間が
一定であれば可能である。しかし本発明による方法は全
体として自由に設計する事ができる。特にガラスプレー
トの適当なセラミックス被覆処理を達成するため、ガラ
スの組成に対応して温度プログラムを適当に変動させる
事ができる。また各チャンバ中の滞留時間もガラスの組
成に対応して選択する事もできる。 例えば、プレートパッケージが焼成炉の5チヤンバ中を
通過し、順次にT1≦700℃、T2=700−800
℃、T3=750−850’C1T4:830−860
℃、755860℃に加熱されるものとする。プレート
パッケージはf&後のチャンバを約700℃の温度で出
て1次に約30〜40℃まで冷却される。このようにし
て得られた熱量は所望ならば室内暖房のために使用する
事ができる。この方法は前記の111mプログラムに限
定されるものでなく、これは代表的な例に過ぎない。 特に720〜730℃の臨界温度範囲において、ガラス
プレートはその全面に互ってできるだけ均一に加熱され
または冷却され、ガラスの中の温度グラジェントをでき
るだけ小と成し1例えば2〜b 単位時間光たりの所要の温度変化はセラミックス被覆工
程のそれぞれの段階において相違させる事ができる。 焼成炉については1本発明によれば、複数の加熱および
冷却可“能の温度区域を含み、前記の温度区域を形成す
るため、焼成炉が複数のチャンバ(1、n、、、、)を
含み、これらのチャンバはそれぞれ、搬送方向に対して
直角に相互に離間して垂直に懸垂された複数のガラスプ
レートのパッケージ(4o)を受けるように設計され、
これらのチャンバは空気流によって加熱または冷却され
、可動ゲートによって閉鎖されまた相互に分離され、1
つのチャンバから隣接チャンバにプレートパッケージを
転送するためにゲートを開く事によって前記の目的が達
成される。 本発明による焼成炉は、それぞれの温度範囲の熱空気流
によって、チャンバ間の相互子連なしで相異なる温度の
加熱処理を実施する事ができる。 先に述べたように、熱空気流を使用する事により、?[
のプレートを比較的小間隔でプレートパッケージ上に集
合させる事が可能である。これらのパッケージがそれぞ
れのチャンバの中で所望の熱処理を受ける。好ましくは
、このパッケージは20プレートから成る。プレート間
隔は約5cmである。 これらのプレートがトングまたはフックによってS*さ
れる。フックを使用する場合、プレートはその縁部分に
フックの係合する孔を備えなければならない、硬化後に
切断する事のできないガラスと相違しガラスセラミック
スはセラミックス被覆処理後に切断する事ができるので
、前記の孔を偉えた縁部分を処理後に適当に切断する事
ができる。 本発明による焼成炉において、各チャンバは測定装置、
設定装置および制御装置と組合わされる事は理解されよ
う。 各チャンバ中に空気案内板を配備する事によってプレー
トパッケージに対する熱空気流の所望の均一分布が改良
される。これらのの案内板は好ましくは開口を備える。 好ましくは各チャンバはその底部にブロワを備え、空気
案内板は搬送方向に配置され1通過するプレートパッケ
ージを包囲すろ、この空気案内板の上部と下部に、開口
が配置される。空気は案内板によって包囲されたスペー
スから前記の下方開口を通して吸引され、焼成炉の壁体
に配はされた空気加熱素子に沿って上方に循環させられ
る。加熱された空気は、上部において案内板の上部開口
を通して内部スペースの中に入り、スペース内のプレー
トパッケージのすべてのプレートに沿って均一に流れる
。従って従来の方法より、プレートをその表面から均一
に加熱しまたは冷却し、プレートの単位長あたりの温度
差を小に保持する事ができる。 空気案内板はセラミックスで製造する事もできる。 チャンバを搬送方向において等間隔に!i!IRする事
が好ましい、このようにして、一連のプレートパッケー
ジを周期的にチャンバ中を通す問期的操作モードが可能
となる。 好ましくは、各チャンバが1個のプレートパッケージの
みを受けるサイズを有し、また各チャンバを相互に分離
するゲートはプレートパッケージを次のチャンバの中に
転送する際にのみ開放される。
【実施例】
以下1本発明を図面に示す実施例につt)て詳細に説明
する。 第1図は2通常のガラス−セラミ、ツクス組成物の温度
一時間プログラムである。 第2図と第3図は、ゲート7によって相互に分離された
5チヤンバエ乃至Vを有する焼成炉を示す、外側のチャ
ンバは外部に対して、ゲートまたはドア2および2aに
よって封止されてν)る。 例えば、チャンバエの中においてプレートノ(ツケージ
が約70分で、約790℃に加熱される。 その後、このル−トパック・−ジが、了め700℃に加
熱されたチャンバIIの中に転送される。 そこで、約80分で約800℃まで加熱される。 つぎに、このプレートパッケージI±、予め約800℃
に予熱されたチャンバ■に転送される。このチャンバ■
の中で、約80分間で約850’Ct”で加熱される。 プレートは次にチャンノ(■の中で8a分以上、約85
0℃の1定iaに保持され、つぎにチャンバVの中で約
70分間に、約700℃の温giまで冷却が生じ、プレ
ートは二の61度をもってこのチャンバを出る。 前2の滞留時間は代表的な値にすぎず、各チャンバ中に
おいて同等の滞留時間を生じる事は容易であり、これに
よって一連のプレートパッケージの周期的転送が可能と
なる。また前記のデータは実施例にすぎず、セラミック
ス被覆プログラムに対応して、プレートパッケージを各
チャンバ中に前記より長い時間または短い時間滞留させ
る事ができる。焼成炉の外部において、約30〜40℃
まで冷却し、セラミックス被覆処理が終了する。 それぞれプレートパッケージ40を受ける搬送ラック5
が、焼成炉1を通る搬送路4を通して搬送ベルトによっ
て搬送される。各プレートパッケージ40は20プレー
トから成り、これらのプレートは画直に、搬送方向に対
して直角に配置されている。 搬送ラックは焼成炉1外部のA位置においてプレートパ
ッケージ40を装入され、[送路4に沿うて、待機位置
Bを通り、焼成炉1のチャンバIの中に入る。この場合
、焼成炉1の末端にあるゲートまたはドア2は、プレー
トパッケージの入る直前にのみ開かれ、その直後に再び
閉鎖される。 チャンバエ乃至Vにおいて、プレートは所定のプログラ
ムに従うて加熱または冷却される。このような温度プロ
グラムの一例は、すでに第1図について説明した0時閲
工′と■′はそれぞれチャンバIと■に対応する。1つ
のチャンバから次のチャンバに転送する際に1例えばチ
ャンバIからチャンバ■に転送する際に、チャンバ■の
温度は予めチャンバIの温度に設定される。そのため、
チャンバ■の中でプレートパッケージが所定時間内に必
票a度まで加熱された後に1例えば時点aにおいてチャ
ンバnを通気し、aからa′までの時間内にチャンバI
の温度まで冷却する(第1図の実施例においては、80
0℃から700℃まで)。 そのため、加熱を切り代えて、対応の冷空気を導入する
事によって熱空気の温度を低下させる。その際に、空気
の循環は中断されない、つぎに、プレートはチャンバエ
からチャンバ■に転送される。 この転送のために、ゲート7が開かれ、再び閉鎖される
。このようなプロセスが、臨界的温度範囲を保持しなけ
ればならない全ての転送に際して生じる。チャンバVか
ら、プレートは位icに転送され、そこで700℃から
30〜40℃に冷却される。加熱された空気は、必要な
ら室内暖房に使用される6位5ICから、プレートは複
数の特機部を通って位vlDに達し、この位置において
搬送ラック5から除去される。Wi送タラツク5搬送路
4に出入させるため、スイッチ6が使用される。 第3図は搬送ラック5の細部を示す、搬送ラック5は、
レール13の中を走行する上部25と支持フレーム12
とを含む、このフレームの中に、プレート10がトング
IIKよっでS垂されている。シール要素14が、焼成
炉から熱空気の脱出を防止する。ブロワ15によって熱
空気がチャンバ内部を循環させられ、このブロワは伝動
ベルト16によってモータエフから駆動される。加熱素
子18によって空気が加熱さ九、案内板19と焼成炉の
内側面との間を案内される。空気案内板191士筒状に
形成され、プレートパッケージ全体を包囲している。ま
た空気案内板19はその上部にみぞ穴を備えて、支持フ
レーム12を通過させる。 さらに、案内板19の下部に、プレートパッケージの下
方に平坦な底Ft21が固着されている。案内板19と
底板21の中に設けら九た開口20が空気流の断面に沿
って可能な限り均一な分布を生じる。焼成炉の壁体22
は、熱損を最小限に成すように設計され1例えば石造と
する事ができる。 ラック23が焼成炉全体を支持する。 第4a図と第4b図は搬送ラック中のプレート10の他
の懸垂法を示す、すなわち、支持フレーム12に懸垂さ
れたフック8が、プレート10の縁部9の中に備えられ
た例えば直径4〜61nII+の孔3の中に係合する。 セラミックス被覆処理後に。 孔3を含む幡30〜40m+mの縁部9を剪断して。 孔3を除去する。
【図面の簡単な説明】
51図は本発明の装置の各チャンバ中のプレートの滞留
時間I’l[’、、、を示す温度一時間プログラムの一
例、第2図は本発明による加熱炉の平面図2第3図は加
熱炉のチャンバの搬送方向に対して直角の断面図、また
第4図aとbはフックによるプレートの懸垂Mlを示す
平Wllおよび側面図である。 100.加熱炉、2.2a、、、ゲート、40.。 搬送通路、5.、、Wi送テラツク7.、、ゲート。 10、、、プレート、19.21.、、空気案内板、2
0.、、開0.40...プレートパッケージ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、セラミックス被覆処理される複数のプレートを搬送
    方向に対して直角に相互に離間して懸垂する事によって
    プレートパッケージを形成する段階と、 ゲートによって相互に分離され閉鎖された焼成炉の複数
    のチャンバを通して前記プレートパッケージを搬送方向
    に通過させる段階と、 前記プレートパッケージの通過中に、熱空気流によって
    前記プレートパッケージを均一に一連の相異なる温度に
    加熱する段階とを含み、 前記のプレートパッケージの通過に際して、プレートパ
    ッケージを次のチャンバに転送する前に、次のチャンバ
    をプレートパッケージを含むチャンバと同一温度に成し
    、転送のためにそれぞれのゲートを一時的に開くことを
    特徴とするセラミックス被覆法。 2、複数のプレートパッケージが搬送方向に複数のチャ
    ンバを通して順次に通過させられ、同時的に次の各チャ
    ンバの中に転送される事を特徴とする請求項1に記載の
    方法。 3、チャンバは搬送方向において等間隔に配置され、2
    個のプレートパッケージの間隔は1つのチャンバと1つ
    置いたチャンバとの間隔に対応する事を特徴とする請求
    項2に記載の方法。 4、複数の個別に加熱可能および冷却可能の温度区域を
    含み、前記の温度区域を形成するため、焼成炉が複数の
    チャンバ( I 、II、・・・)を含み、これらのチャン
    バはそれぞれ、搬送方向に対して直角に相互に離間して
    垂直に懸垂された複数のガラスプレートのパッケージ(
    40)を受けるように設計され、これらのチャンバは空
    気流によって加熱または冷却され、可動ゲートによって
    閉鎖されまた相互に分離され、1つのチャンバから隣接
    チャンバにプレートパッケージを転送するためにゲート
    を開く事によって一時的に相互接続されることを特徴と
    する特許請求の範囲1に記載の方法を実施する焼成炉。 5、各チャンバ( I 、II、・・・)において、プレー
    トパッケージ(40)のすべてのプレートが均一に加熱
    されるように空気流を案内するため、空気案内板(19
    、21)が配置されている事を特徴とする請求項4に記
    載の焼成炉。 6、空気案内板(19、21)は開口(20)を備える
    事を特徴とする請求項5に記載の焼成炉。 7、チャンバは搬送方向において等間隔で配置されてい
    る事を特徴とする請求項4に記載の焼成炉。
JP63110293A 1987-05-06 1988-05-06 ガラスプレ―トのセラミックス被覆法およびこの方法を実施する焼成炉 Expired - Lifetime JP2541625B2 (ja)

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